本发明涉及一种将衬底洗净的衬底处理装置及衬底处理方法。
背景技术：
1、为了对液晶显示装置或有机el(electro luminescence，电致发光)显示装置等中所使用的fpd(flat panel display，平板显示器)用衬底、半导体衬底、光盘用衬底、磁盘用衬底、磁光盘用衬底、光罩用衬底、陶瓷衬底或太阳电池用衬底等各种衬底进行各种处理，而使用衬底处理装置。为了将衬底洗净，而使用衬底洗净装置。
2、例如，日本专利第5904169号公报中所记载的衬底洗净装置具备：2个吸附垫，保持晶圆的背面周缘部；旋转夹头，保持晶圆的背面中央部；及刷，将晶圆的背面洗净。2个吸附垫保持着晶圆沿横向移动。在该状态下，晶圆的背面中央部被刷洗净。之后，旋转夹头从吸附垫接收晶圆，旋转夹头一边保持晶圆的背面中央部一边旋转。在该状态下，晶圆的背面周缘部被刷洗净。
技术实现思路
1、在所述衬底洗净装置中，通过将多个衬底依次搬入及搬出，而对各衬底进行洗净处理。因此，如果能够缩短处理一个衬底所需的时间，便能够大幅提高多个衬底的处理效率。因此，在衬底洗净装置中，要求进一步提高衬底处理的处理量。
2、本发明的目的在于提供一种能够提高衬底处理的处理量的衬底处理装置及衬底处理方法。
3、本发明的一态样的衬底处理装置具备：第1衬底保持部，保持衬底的周缘部；第2衬底保持部，构成为能够在比所述第1衬底保持部更靠下方的位置保持衬底的下表面中央区域；旋转驱动部，使所述第2衬底保持部绕上下方向的轴旋转；刷洗净部，构成为能够使刷与由所述第1衬底保持部保持的衬底的所述下表面中央区域接触而将该下表面中央区域洗净，且能够使所述刷与由所述第2衬底保持部保持的衬底的包围所述下表面中央区域的下表面外侧区域接触而将该下表面外侧区域洗净；水平移动部，进行改变所述第1衬底保持部与所述第2衬底保持部的水平面内的相对位置关系的水平移动动作；以及控制部；且所述控制部在对衬底进行洗净处理的情况下，通过控制所述第1衬底保持部、所述第2衬底保持部、所述旋转驱动部、所述刷洗净部及所述水平移动部，而一边使所述第2衬底保持部旋转，一边利用所述刷洗净部将由所述第1衬底保持部保持的所述衬底的所述下表面中央区域洗净，在将所述衬底的所述下表面中央区域洗净后，使所述第2衬底保持部停止旋转，以便将所述衬底从所述第1衬底保持部交递到所述第2衬底保持部，在将所述衬底的所述下表面中央区域洗净后，使所述水平移动部进行所述水平移动动作，以便将所述衬底从所述第1衬底保持部交递到所述第2衬底保持部，将所述衬底从所述第1衬底保持部交递到所述第2衬底保持部之后，一边使所述第2衬底保持部旋转，一边利用所述刷洗净部将由所述第2衬底保持部保持的所述衬底的所述下表面外侧区域洗净，在将所述衬底的所述下表面中央区域洗净后，到所述衬底被交递给所述第2衬底保持部为止的期间内，以所述旋转停止动作期间与所述水平移动动作期间的至少一部分重叠的方式，进行所述第2衬底保持部的旋转停止动作及所述水平移动动作。
4、本发明的另一态样的衬底处理装置具备：第1衬底保持部，保持衬底的周缘部；第2衬底保持部，构成为能够在比所述第1衬底保持部更靠下方的位置保持衬底的下表面中央区域；旋转驱动部，使所述第2衬底保持部绕上下方向的轴旋转；刷洗净部，构成为能够使刷与由所述第1衬底保持部保持的衬底的所述下表面中央区域接触而将该下表面中央区域洗净，且能够使所述刷与由所述第2衬底保持部保持的衬底的包围所述下表面中央区域的下表面外侧区域接触而将该下表面外侧区域洗净；上下移动部，进行上下移动动作，即，通过使所述第1衬底保持部、所述第2衬底保持部及衬底中的至少一个沿上下方向移动，而改变所述第1衬底保持部与衬底的相对位置关系；以及控制部；且所述控制部在对衬底进行洗净处理的情况下，通过控制所述第1衬底保持部、所述第2衬底保持部、所述旋转驱动部、所述刷洗净部及所述上下移动部，而一边使所述第2衬底保持部旋转，一边利用所述刷洗净部将由所述第1衬底保持部保持的所述衬底的下表面中央区域洗净，在将所述衬底的所述下表面中央区域洗净后，使所述第2衬底保持部停止旋转，以便将所述衬底从所述第1衬底保持部交递到所述第2衬底保持部，在将所述衬底的所述下表面中央区域洗净后，使所述上下移动部进行所述上下移动动作，以便将所述衬底从所述第1衬底保持部交递到所述第2衬底保持部，将所述衬底从所述第1衬底保持部交递到所述第2衬底保持部之后，一边使所述第2衬底保持部旋转，一边利用所述刷洗净部将由所述第2衬底保持部保持的所述衬底的所述下表面外侧区域洗净，在将所述衬底的所述下表面中央区域洗净后，到所述衬底被交递给所述第2衬底保持部为止的期间内，以所述旋转停止动作期间与所述上下移动动作期间的至少一部分重叠的方式，进行所述第2衬底保持部的旋转停止动作及所述上下移动动作。
5、本发明的又一态样的衬底处理装置具备：第1衬底保持部，保持衬底的周缘部；第2衬底保持部，构成为能够在比所述第1衬底保持部更靠下方的位置保持衬底的下表面中央区域；刷洗净部，构成为能够使刷与由所述第1衬底保持部保持的衬底的所述下表面中央区域接触而将该下表面中央区域洗净，且能够使所述刷与由所述第2衬底保持部保持的衬底的包围所述下表面中央区域的下表面外侧区域接触而将该下表面外侧区域洗净；水平移动部，进行改变所述第1衬底保持部与所述第2衬底保持部的水平面内的相对位置关系的水平移动动作；上下移动部，进行上下移动动作，即，通过使所述第1衬底保持部、所述第2衬底保持部及衬底中的至少一个沿上下方向移动，而改变所述第1衬底保持部与衬底的相对位置关系；以及控制部；且所述控制部在对衬底进行洗净处理的情况下，通过控制所述第1衬底保持部、所述第2衬底保持部、所述刷洗净部、所述水平移动部及所述上下移动部，而利用所述刷洗净部将由所述第1衬底保持部保持的所述衬底的所述下表面中央区域洗净，在将所述衬底的所述下表面中央区域洗净后，使所述水平移动部进行所述水平移动动作，以便将所述衬底从所述第1衬底保持部交递到所述第2衬底保持部，在将所述衬底的所述下表面中央区域洗净后，使所述上下移动部进行所述上下移动动作，以便将所述衬底从所述第1衬底保持部交递到所述第2衬底保持部，将所述衬底从所述第1衬底保持部交递到所述第2衬底保持部之后，利用所述刷洗净部将由所述第2衬底保持部保持的所述衬底的所述下表面外侧区域洗净，在将所述衬底的所述下表面中央区域洗净后，到所述衬底被交递给所述第2衬底保持部为止的期间内，以所述水平移动动作期间与所述上下移动动作期间的至少一部分重叠的方式，进行所述水平移动动作及所述上下移动动作。
6、本发明的又一态样的衬底处理方法使用了衬底处理装置，所述衬底处理装置具备：第1衬底保持部，保持衬底的周缘部；第2衬底保持部，构成为能够在比所述第1衬底保持部更靠下方的位置保持衬底的下表面中央区域且能够旋转；以及水平移动部，进行水平移动动作，即，改变所述第1衬底保持部与所述第2衬底保持部的水平面内的相对位置关系；且所述衬底处理方法包含如下步骤：一边使所述第2衬底保持部旋转，一边使刷与由所述第1衬底保持部保持的所述衬底的所述下表面中央区域接触而将所述衬底的所述下表面中央区域洗净；在将所述衬底的所述下表面中央区域洗净后，使所述第2衬底保持部停止旋转，以便将所述衬底从所述第1衬底保持部交递到所述第2衬底保持部；在将所述衬底的所述下表面中央区域洗净后，使所述水平移动部进行所述水平移动动作，以便将所述衬底从所述第1衬底保持部交递到所述第2衬底保持部；以及将所述衬底从所述第1衬底保持部交递到所述第2衬底保持部之后，一边使所述第2衬底保持部旋转，一边使所述刷与由所述第2衬底保持部保持的所述衬底的包围所述下表面中央区域的下表面外侧区域接触而将所述衬底的所述下表面外侧区域洗净；且在将所述衬底的所述下表面中央区域洗净后，到所述衬底被交递给所述第2衬底保持部为止的期间内，以所述第2衬底保持部的旋转停止动作期间与所述水平移动动作期间的至少一部分重叠的方式，开始使所述第2衬底保持部停止旋转的步骤及使所述水平移动部进行所述水平移动动作的步骤。
7、本发明的又一态样的衬底处理方法使用了衬底处理装置，所述衬底处理装置具备：第1衬底保持部，保持衬底的周缘部；第2衬底保持部，构成为能够在比所述第1衬底保持部更靠下方的位置保持衬底的下表面中央区域且能够旋转；以及上下移动部，进行上下移动动作，即，通过使所述第1衬底保持部、所述第2衬底保持部及衬底中的至少一个沿上下方向移动，而改变所述第1衬底保持部与衬底的相对位置关系；且所述衬底处理方法包含如下步骤：一边使所述第2衬底保持部旋转，一边使刷与由所述第1衬底保持部保持的所述衬底的所述下表面中央区域接触而将所述衬底的所述下表面中央区域洗净；在将所述衬底的所述下表面中央区域洗净后，使所述第2衬底保持部停止旋转，以便将所述衬底从所述第1衬底保持部交递到所述第2衬底保持部；在将所述衬底的所述下表面中央区域洗净后，使所述上下移动部进行所述上下移动动作，以便将所述衬底从所述第1衬底保持部交递到所述第2衬底保持部；以及将所述衬底从所述第1衬底保持部交递到所述第2衬底保持部之后，一边使所述第2衬底保持部旋转，一边使所述刷与由所述第2衬底保持部保持的所述衬底的包围所述下表面中央区域的下表面外侧区域接触而将所述衬底的所述下表面外侧区域洗净；且在将所述衬底的所述下表面中央区域洗净后，到所述衬底被交递给所述第2衬底保持部为止的期间内，以所述第2衬底保持部的旋转停止动作期间与所述上下移动动作期间的至少一部分重叠的方式，开始使所述第2衬底保持部停止旋转的步骤及使所述上下移动部进行所述上下移动动作的步骤。
8、本发明的又一态样的衬底处理方法使用了衬底处理装置，所述衬底处理装置具备：第1衬底保持部，保持衬底的周缘部；第2衬底保持部，构成为能够在比所述第1衬底保持部更靠下方的位置保持衬底的下表面中央区域；水平移动部，进行改变所述第1衬底保持部与所述第2衬底保持部的水平面内的相对位置关系的水平移动动作；以及上下移动部，进行上下移动动作，即，通过使所述第1衬底保持部、所述第2衬底保持部及衬底中的至少一个沿上下方向移动，而改变所述第1衬底保持部与衬底的相对位置关系；且所述衬底处理方法包含如下步骤：使刷与由所述第1衬底保持部保持的所述衬底的所述下表面中央区域接触而将所述衬底的所述下表面中央区域洗净；在将所述衬底的所述下表面中央区域洗净后，使所述水平移动部进行所述水平移动动作，以便将所述衬底从所述第1衬底保持部交递到所述第2衬底保持部；在将所述衬底的所述下表面中央区域洗净后，使所述上下移动部进行所述上下移动动作，以便将所述衬底从所述第1衬底保持部交递到所述第2衬底保持部；以及将所述衬底从所述第1衬底保持部交递到所述第2衬底保持部之后，使所述刷与由所述第2衬底保持部保持的所述衬底的包围所述下表面中央区域的下表面外侧区域接触而将所述衬底的所述下表面外侧区域洗净；且在将所述衬底的所述下表面中央区域洗净后，到所述衬底被交递给所述第2衬底保持部为止的期间内，以所述水平移动动作期间与所述上下移动动作期间的至少一部分重叠的方式，开始使所述水平移动部进行所述水平移动动作的步骤及使所述上下移动部进行所述上下移动动作的步骤。
9、根据本发明，能够提高衬底处理的处理量。
1.一种衬底处理装置，具备：
2.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中还具备上下移动部，所述上下移动部通过使所述第1衬底保持部、所述第2衬底保持部及衬底中的至少一个沿上下方向移动，而改变所述第1衬底保持部与衬底的相对位置关系，
3.一种衬底处理装置，具备：
4.一种衬底处理装置，具备：
5.一种衬底处理方法，使用了衬底处理装置，
6.根据权利要求5所述的衬底处理方法，其中
7.一种衬底处理方法，使用了衬底处理装置，
8.一种衬底处理方法，使用了衬底处理装置，
