本技术涉及化学反应成膜，具体涉及一种用于真空镀膜机的布气管结构。
背景技术：
1、在真空镀膜设备中的化学反应成膜过程中，必须要两种以上的化学物质相遇，因此对化学物质相遇进行控制的真空布气装置是非常重要的部件。一般而言，真空布气装置采用布气管或者布气板，两者都会直接影响成膜的均匀性。
2、目前，布气管以及布气板一般会在管路或者板材上打孔制作，孔的精度要求特别高，成本较高。同时，从布气孔内出来的化学物质会到处扩散甚至会到其他不同的布气管上，因此，会在布气孔周围成膜，膜层累积最终阻塞布气孔，导致维护以及更换成本较高。为了减少布气孔周围的成膜，
技术实现思路
1、本实用新型的目的是根据上述现有技术的不足之处，提供一种用于真空镀膜机的布气管结构，通过改变布气孔的位置，从而改变布气路径，在不影响气体分布的前提下，避免气孔被镀上膜，延长维护间隔。
2、本实用新型目的实现由以下技术方案完成：
3、一种用于真空镀膜机的布气管结构，其特征在于：包括内布气管和外布气管，其中所述外布气管嵌套在所述内布气管的外围，所述内布气管上均布若干微孔，所述外布气管上开设有狭缝；所述狭缝与所述微孔呈反方向布置。
4、所述狭缝为布置在所述外布气管轴向的一条狭缝，且该狭缝的长度范围与若干所述微孔的范围相吻合适配。
5、所述外布气管的两端分别设置有上端头和下端头。
6、所述内布气管的一端凸出于该端所述外布气管的外侧，且所述内布气管（1）凸出的一端上设有标记；所述标记位于若干微孔所在的母线上。
7、所述标记为v形缺口。
8、所述微孔通过激光或放电加工或高速钻头加工而成。
9、本实用新型的优点是：在不影响气体分布的前提下，避免分气孔被镀上膜；双层套管结构，进行气体的二次分布，保证成膜的均匀性；便于安装及维护，延长维护间隔；结构简单合理，制造方便，适于推广。
1.一种用于真空镀膜机的布气管结构，其特征在于：包括内布气管和外布气管，其中所述外布气管嵌套在所述内布气管的外围，所述内布气管上均布若干微孔，所述外布气管上开设有狭缝；所述狭缝与所述微孔呈反方向布置。
2.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜机的布气管结构，其特征在于：所述狭缝为布置在所述外布气管轴向的一条狭缝，且该狭缝的长度范围与若干所述微孔的范围相吻合适配。
3.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜机的布气管结构，其特征在于：所述外布气管的两端分别设置有上端头和下端头。
4.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜机的布气管结构，其特征在于：所述内布气管的一端凸出于该端所述外布气管的外侧，且所述内布气管（1）凸出的一端上设有标记；所述标记位于若干微孔所在的母线上。
5.根据权利要求4所述的一种用于真空镀膜机的布气管结构，其特征在于：所述标记为v形缺口。
6.根据权利要求1所述的一种用于真空镀膜机的布气管结构，其特征在于：所述微孔通过激光或放电加工或高速钻头加工而成。
