本公开涉及成膜装置。
背景技术：
1、公知有一种一边使在处理容器内载置于旋转台之上的圆形的基板公转一边向基板供给处理气体而进行处理的装置(例如，参照专利文献1、2)。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本特开2010－056470号公报
5、专利文献2：日本特开2013－222948号公报
技术实现思路
1、发明要解决的问题
2、本公开提供一种能够抑制基板在基板支承部之上滑动的技术。
3、用于解决问题的方案
4、本公开的一技术方案的成膜装置具备：处理容器；以及基板支承部，其设于所述处理容器内，具有供基板载置的凹部，所述凹部在底面具有突起，所述突起沿着载置于所述凹部的所述基板的外周设置。
5、发明的效果
6、根据本公开，能够抑制基板在基板支承部之上滑动。
1.一种成膜装置，其中，
2.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，
3.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，
4.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，
5.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，
6.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，
7.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，
8.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，
9.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，
10.根据权利要求1～9中任一项所述的成膜装置，其中，
