本公开涉及用于在图形处理单元(gpu)中将纹理处理(例如纹理滤波)应用于片段块的技术。
背景技术：
1、在计算机图形学中，纹理化经常被用于向场景内待渲染的对象添加表面细节，或者将后处理应用于现有图像。纹理通常被存储为图像，该图像被访问以返回针对所处理的片段的颜色值。在计算机图形学中，2d渲染空间用于渲染包括表示场景中的对象的图元的场景。2d渲染空间包括样本位置阵列，并且“片段”是指图元上在样本位置处的离散点。在样本位置与所渲染的图像的像素位置之间可能或可能不存在1∶1关系，例如，如果正在实现缩放或抗锯齿，则该关系可能不是1∶1。为了获得片段的纹理颜色值，可以对纹理的多个纹理像素的值进行采样，然后可以对经采样的纹理像素值进行滤波，以获得片段的最终纹理值。图形处理单元(gpu)可以包括纹理处理单元(tpu)，该纹理处理单元通常用于对纹理的纹素进行提取和滤波，以向片段处理单元提供纹理值，例如以用于：(i)在3d渲染期间将视觉效果(例如颜色)应用于几何模型的表面(这可以涉及三线性和/或各向异性滤波)，以及(ii)后处理以将视觉效果应用于现有图像。本公开主要涉及将tpu用于后处理以及用于在渲染期间应用纹理滤波的一些情形，例如用于渲染2d图像或者用于渲染图形用户界面(gui)。本文中使用的术语“后处理”是指将某个处理应用于现有图像(例如已由gpu渲染的图像)的像素值，并且在这些情况下，现有图像的像素值可以在被处理以及应用于新的后处理图像的片段之前作为纹理的纹素被读取回到gpu中。后处理过程的示例包括色调映射、应用景深效果、将泛光应用于图像、放大和许多不同种类的模糊过程(例如高斯(gaussian)模糊)。
2、一般来说，例如由于纹理在图像内的3d几何形状上的投影，待应用纹理处理的(例如对应于图像的单个像素的)单个片段通常不会精确地映射到纹理的单个纹素。对齐或缩放可能存在差异，这可以分别使用插值/滤波或小中见大贴图来处理。在某些情况下，可以执行各向异性纹理滤波。当应用各向异性纹理滤波时，映射到屏幕空间中的片段或像素的纹理空间中的采样内核沿纹理空间中的特定轴伸长，其中此轴的方向取决于屏幕空间与纹理空间之间的映射。这在图1中示意性地示出，该图示出了由具有在图像空间中(根据如图1中所示出的屏幕空间轴‘x’和‘y’)定义的坐标的像素形成的图像100，以及由具有在纹理空间中(根据如图1中所示出的纹理空间轴‘u’和‘v’)定义的坐标的纹素形成的纹理102。图像100包括对象104，该对象的表面细节由纹理102指定，即，纹理102映射到对象104的表面。对象104在图像100内处于倾斜视角。如上所述，如果将纹理应用于相对于观察方向成斜角的几何选择，则图像空间中片段或像素的各向同性覆盖区域映射到纹理空间中的各向异性覆盖区域。数字106表示为圆形的(对应于图像空间中的像素的)片段的覆盖区域，并且数字108表示纹素空间中的对应片段覆盖区域。可以看出，覆盖区域在纹理空间中已(在既不平行于u轴也不平行于v轴的方向上)伸长以形成椭圆，使得该覆盖区域是各向异性的。一般来讲，在图像空间中具有圆形覆盖区域的片段到纹理空间的映射可以用椭圆近似，只要纹理映射本身可以通过像素原点的仿射映射近似即可。
3、在图1中所示出的示例中，与片段相关联的纹理坐标不是轴对齐的。换句话说，当纹理102应用于图像空间中的对象104时，u和v纹理空间轴不与x和y屏幕空间轴对齐。然而，在其他示例中，与片段相关联的纹理坐标是轴对齐的，使得当纹理102应用于图像空间中的对象104时，u和v纹理空间轴与x和y屏幕空间轴对齐。
4、纹理处理单元通常被配置成能够应用不同类型的纹理处理，而不是专用于并被优化用于执行这些类型的纹理处理中的仅一种类型的纹理处理。不同类型的纹理处理可以包括不同类型的纹理滤波(例如点采样、双线性插值、各向异性纹理滤波、三线性滤波等)、不同类型的寻址模式(例如跨步、旋转等)、不同种类的纹理(例如1d纹理、2d纹理、3d纹理和立方体贴图)、lod计算、纹理数据的解压缩、色彩空间转换和/或伽马校正。此外，纹理处理在gpu上实现是昂贵的过程(例如在时延、功耗和/或硅面积方面)。当设计gpu时，通常在时延、功耗和硅面积之间进行权衡，其中一般希望减少时延、减少功耗并且减小gpu的硅面积。这三个因素(时延、功耗、硅面积)中的一个因素通常可以通过增大其他两个因素中的一个或两个因素来减小。减小这些因素中的一个因素而不必增大其他因素中的一个因素将是有益的。
技术实现思路
1、提供本
技术实现要素：
是为了以简化形式介绍下文在具体实施方式中进一步描述的一系列概念。本发明内容不旨在标识所要求保护的主题的关键特征或必要特征，也不旨在用以限制所要求保护的主题的范围。
2、提供了一种在图形处理单元(gpu)中将纹理滤波应用于片段块的方法，片段中的每个片段与针对纹理的多个维度中的每个维度的纹理坐标相关联，所述方法包括：
3、检测到针对块的片段的纹理坐标是轴对齐的；
4、针对纹理坐标集合中的每个纹理坐标确定两个或更多个整数纹素坐标；
5、对所确定的整数纹素坐标执行唯一化过程，以移除一个或多个重复整数纹素坐标，并且从而确定所确定的整数纹素坐标的子集；
6、使用所确定的整数纹素坐标的子集来生成待提取的纹素的纹素地址；
7、使用所生成的纹素地址来提取纹素；
8、对于块的片段中的每个片段，通过将滤波应用于所提取的纹素的子组来确定滤波值；以及
9、输出滤波值。
10、所述方法还可以包括对所提取的纹素执行去唯一化过程，从而确定所提取的纹素中的哪些所提取的纹素包括在针对块的片段中的每个片段的子组中。
11、纹理滤波可以是双线性滤波，其中所述针对纹理坐标集合中的每个纹理坐标确定两个或更多个整数纹素坐标可以包括针对纹理坐标集合中的每个纹理坐标精确地确定两个整数纹素坐标，并且
12、其中对于块的片段中的每个片段，子组可以包括所提取的纹素中的四个所提取的纹素，并且可以通过确定那四个所提取的纹素的双线性插值的结果来确定针对片段的滤波值。
13、对于块的片段中的每个片段，四对整数纹素坐标可以对应于子组的四个所提取的纹素的四个纹素地址。
14、针对纹理坐标中的每个纹理坐标确定的两个整数纹素坐标可以是：(i)第一整数纹素坐标，所述第一整数纹素坐标对应于向下舍入到整数纹素位置的纹理坐标；以及(ii)第二整数纹素坐标，所述第二整数纹素坐标是大于第一整数纹素坐标的整数纹素坐标。
15、纹理滤波的细节级别可以对应于块中的片段的间距与纹理中的纹素的间距之间的1∶1映射。
16、片段块可以是mxn片段块，其中纹理可以是2d纹理，使得每个片段与针对水平维度的纹理坐标以及针对竖直维度的纹理坐标相关联，并且其中所确定的整数纹素坐标的子集可以包括针对水平维度的n+1个整数纹素坐标以及针对竖直维度的m+1个整数纹素坐标。
17、所提取的纹素可以表示纹理的(m+1)x(n+1)纹素块。
18、例如，n＝m＝4，并且图形处理单元可以包括32个地址生成器，其中在每个时钟循环内，每个地址生成器可以生成待提取的纹素的纹素地址，并且其中在一个时钟循环内，可以使用地址生成器中的25个地址生成器来生成5x5纹素块中的纹素的纹素地址。
19、在其他示例中，m＝4且n＝2，或者m＝2且n＝4，并且图形处理单元可以包括16个地址生成器，其中在每个时钟循环内，每个地址生成器可以生成待提取的纹素的纹素地址，并且其中在一个时钟循环内，可以使用地址生成器中的15个地址生成器来生成5x3或3x5纹素块中的纹素的纹素地址。
20、所述方法还可以包括确定对应于集合的纹理坐标中的每个纹理坐标的纹素位置的小数部分，其中针对片段的双线性插值的水平插值权重可以基于对应于与针对水平维度的片段相关联的纹理坐标的纹素位置的所确定的小数部分，并且其中针对片段的双线性插值的竖直插值权重可以基于对应于与针对竖直维度的片段相关联的纹理坐标的纹素位置的所确定的小数部分。
21、所述方法还可以包括：在生成纹素地址之前，检测到对应于纹理坐标的纹素位置的所确定的小数部分为零，并且响应于此检测，确定不需要针对与纹理坐标相关联的片段的双线性插值的四个纹素中的两个纹素来确定四个纹素的双线性插值的结果。
22、响应于确定存在充足数量的重复的所确定的整数纹素坐标，可以对所确定的整数纹素坐标执行唯一化过程。
23、在一些示例中，m＝n＝4，并且所述确定存在充足数量的重复的所确定的整数纹素坐标可以包括确定是否满足以下表达式中的所有六个表达式：
24、(u0+＝u1-)∨(u0+＝u2-)∨(u0+＝u3-)∨(u0+＝u3+)
25、(u1+＝u0-)∨(u1+＝u2-)∨(u1+＝u3-)∨(u1+＝u3+)
26、(u2+＝u0-)∨(u2+＝u1-)∨(u2+＝u3-)∨(u2+＝u3+)
27、(v0+＝v1-)∨(v0+＝v2-)∨(v0+＝v3-)∨(v0+＝v3+)
28、(v1+＝v0-)∨(v1+＝v2-)∨(v1+＝v3-)∨(v1+＝v3+)
29、(v2+＝v0-)∨(v2+＝v1-)∨(v2+＝v3-)∨(v2+＝v3+)
30、其中ui-和ui+是针对片段块的第i列中的片段中的每个片段在水平维度上的两个整数纹素坐标，其中i∈0,1,2,3；
31、其中vj-和vj+是针对片段块的第j行中的片段中的每个片段在竖直维度上的两个整数纹素坐标，其中j∈0,1,2,3；并且
32、其中∨表示逻辑or运算。
33、5x5纹素块的整数纹素坐标可以是：
34、
35、纹理滤波可以是使用具有次数d的多项式的二维多项式滤波，其中d>1，其中所述针对纹理坐标集合中的每个纹理坐标确定两个或更多个整数纹素坐标可以包括针对纹理坐标集合中的每个纹理坐标确定(d+1)个整数纹素坐标，并且
36、其中对于块的片段中的每个片段，子组可以包括所提取的纹素中的(d+1)2个所提取的纹素，并且可以通过确定那(d+1)2个所提取的纹素的二维多项式插值的结果来确定针对片段的滤波值，所述多项式插值使用具有次数d的多项式。
37、纹理的水平维度和竖直维度中的一者或两者可以相对于片段块的维度进行翻转。
38、针对所述块的第一片段的一对整数纹素坐标可以与针对块的第二片段的一对整数纹素坐标相同，并且其中由于唯一化过程，可以将对应于所述一对整数纹素坐标的纹素地址生成一次以用于处理片段块。
39、唯一化过程可以使得被生成用于处理片段块的纹素地址中的所有纹素地址是唯一的。
40、所述纹理坐标集合可以是缩减的纹理坐标集合，所述缩减的纹理坐标集合包括：
41、对于所述块中的每一列片段，针对水平维度的仅一个纹理坐标，以及
42、对于所述块中的每一行片段，针对竖直维度的仅一个纹理坐标。
43、所述检测到针对块的片段的纹理坐标是轴对齐的可以包括，对于纹理的维度中的每个维度：
44、对于垂直于所述片段块内的所述维度的每一行片段，确定针对所述维度的所述纹理坐标对于所述行内的所述片段中的所有片段都是相同的。
45、提供了一种图形处理单元，所述图形处理单元被配置成将纹理滤波应用于片段块，片段中的每个片段与针对纹理的多个维度中的每个维度的纹理坐标相关联，所述图形处理单元包括片段处理单元和纹理处理单元，
46、其中所述片段处理单元被配置成：
47、检测到针对块的片段的纹理坐标是轴对齐的；以及
48、将纹理坐标集合发送到纹理处理单元；并且
49、其中所述纹理处理单元被配置成：
50、针对纹理坐标集合中的每个纹理坐标确定两个或更多个整数纹素坐标；
51、对所确定的整数纹素坐标执行唯一化过程，以移除一个或多个重复整数纹素坐标，并且从而确定所确定的整数纹素坐标的子集；
52、使用所确定的整数纹素坐标的子集来生成待提取的纹素的纹素地址；
53、使用所生成的纹素地址来提取纹素；
54、对于块的片段中的每个片段，通过将滤波应用于所提取的纹素的子组来确定滤波值；以及
55、输出滤波值。
56、所述纹理处理单元可以包括：
57、纹理地址生成模块，所述纹理地址生成模块被配置成：(i)针对纹理坐标中的每个纹理坐标确定两个或更多个整数纹素坐标，(ii)对所确定的整数纹素坐标执行唯一化过程，以及(iii)使用所确定的整数纹素坐标的子集来生成待提取的纹素的纹素地址；
58、地址处理模块，所述地址处理模块被配置成使用所生成的纹素地址来提取纹素；以及
59、纹理滤波模块，所述纹理滤波模块被配置成：(i)通过将滤波应用于所提取的纹素的子组来确定针对块的片段中的每个片段的滤波值，以及(ii)输出滤波值。
60、可以提供一种图形处理单元，该图形处理单元被配置成执行本文所述的任何方法。
61、可以提供一种在图形处理单元(gpu)中将纹理处理应用于片段块的方法，片段中的每个片段与针对纹理的多个维度中的每个维度的纹理坐标相关联，所述方法包括：
62、所述gpu的片段处理单元检测到针对所述块的所述片段的所述纹理坐标是轴对齐的；
63、响应于检测到针对所述块的所述片段的所述纹理坐标是轴对齐的，将缩减的纹理坐标集合发送到所述gpu的纹理处理单元；以及
64、所述纹理处理单元：
65、处理所述缩减的纹理坐标集合，以生成待提取的纹素的纹素地址；
66、使用所生成的纹素地址来提取纹素；
67、基于所提取的纹素来确定针对所述块的所述片段中的每个片段的处理值；以及
68、输出所述处理值。
69、可以提供一种图形处理单元，所述图形处理单元被配置成将纹理处理应用于片段块，片段中的每个片段与针对纹理的多个维度中的每个维度的纹理坐标相关联，所述图形处理单元包括片段处理单元和纹理处理单元，
70、其中所述片段处理单元被配置成：
71、检测针对所述块的所述片段的所述纹理坐标是否是轴对齐的；以及
72、响应于检测到针对所述块的所述片段的所述纹理坐标是轴对齐的，将缩减的纹理坐标集合发送到所述纹理处理单元；并且
73、其中所述纹理处理单元被配置成：
74、处理所述缩减的纹理坐标集合，以生成待提取的纹素的纹素地址；
75、使用所生成的纹素地址来提取纹素；
76、基于所提取的纹素来确定针对所述块的所述片段中的每个片段的处理值；以及
77、输出所述处理值。
78、可以提供一种在处理器中检索数据项块的方法，数据项中的每个数据项与针对所存储的数据阵列的多个维度中的每个维度的坐标相关联，所述方法包括：
79、所述处理器的数据处理单元检测到与所述块的所述数据项相关联的所述坐标是轴对齐的；
80、响应于检测到针对所述块的所述数据项的所述坐标是轴对齐的，向所述处理器的数据加载单元发送针对在所述块内在第一维度上对齐的每一行数据项的所述第一维度的仅一个坐标，以及针对在所述块内在第二维度上对齐的每一行数据项的所述第二维度的仅一个坐标，所述第二维度与所述第一维度正交；以及
81、所述数据加载单元：
82、处理所述坐标以生成待从所存储的数据阵列中提取的数据阵列元素的地址；
83、使用所生成的地址从所存储的数据阵列中提取数据阵列元素；
84、基于所提取的数据阵列元素来确定针对所述块的所述数据项中的每个数据项的数据项值；以及
85、输出所述数据项值。
86、可以提供一种处理器，所述处理器被配置成检索数据项块，数据项中的每个数据项与针对所存储的数据阵列的多个维度中的每个维度的坐标相关联，所述处理器包括数据处理单元和数据加载单元，
87、其中所述数据处理单元被配置成：
88、检测与所述块的所述数据项相关联的所述坐标是否是轴对齐的；以及
89、响应于检测到与所述块的所述数据项相关联的所述坐标是轴对齐的，向所述数据加载单元发送针对在所述块内在第一维度上对齐的每一行数据项的所述第一维度的仅一个坐标，以及针对在所述块内在第二维度上对齐的每一行数据项的所述第二维度的仅一个坐标，所述第二维度与所述第一维度正交；并且
90、其中所述数据加载单元被配置成：
91、处理所述坐标以生成待从所存储的数据阵列中提取的数据阵列元素的地址；
92、使用所生成的地址从所存储的数据阵列中提取数据阵列元素；
93、基于所提取的数据阵列元素来确定针对所述块的所述数据项中的每个数据项的数据项值；以及
94、输出所述数据项值。
95、可以提供一种在处理器中检索数据项块的方法，数据项中的每个数据项与针对所存储的数据阵列的多个维度中的每个维度的坐标相关联，所述方法包括：
96、所述处理器的数据处理单元检测到与所述块的所述数据项相关联的所述坐标是轴对齐的；
97、处理器的数据加载单元：
98、针对坐标集合中的每个坐标确定两个或更多个整数坐标；
99、对所确定的整数坐标执行唯一化过程，以移除一个或多个重复整数坐标，并且从而确定所确定的整数坐标的子集；
100、使用所确定的整数坐标的子集来生成待从所存储的数据阵列中提取的数据阵列元素的地址；
101、使用所生成的地址从所存储的数据阵列中提取数据阵列元素；
102、对于块的数据项中的每个数据项，使用所提取的数据阵列元素的子组来确定数据项值；以及
103、输出所述数据项值。
104、可以提供一种处理器，所述处理器被配置成检索数据项块，数据项中的每个数据项与针对所存储的数据阵列的多个维度中的每个维度的坐标相关联，所述处理器包括数据处理单元和数据加载单元，
105、其中所述数据处理单元被配置成：
106、检测到与块的数据项相关联的坐标是轴对齐的；以及
107、将坐标集合发送到数据加载单元；并且
108、其中所述数据加载单元被配置成：
109、针对坐标集合中的每个坐标确定两个或更多个整数坐标；
110、对所确定的整数坐标执行唯一化过程，以移除一个或多个重复整数坐标，并且从而确定所确定的整数坐标的子集；
111、使用所确定的整数坐标的子集来生成待从所存储的数据阵列中提取的数据阵列元素的地址；
112、使用所生成的地址从所存储的数据阵列中提取数据阵列元素；
113、对于块的数据项中的每个数据项，使用所提取的数据阵列元素的子组来确定数据项值；以及
114、输出所述数据项值。
115、图形处理单元可以在集成电路上的硬件中体现。可以提供一种在集成电路制造系统处制造图形处理单元的方法。可以提供一种集成电路定义数据集，所述集成电路定义数据集当在集成电路制造系统中被处理时将所述系统配置成制造图形处理单元。可以提供一种非暂时性计算机可读存储介质，其上存储有图形处理单元的计算机可读描述，该计算机可读描述当在集成电路制造系统中被处理时，使集成电路制造系统制造包含图形处理单元的集成电路。
116、可以提供一种集成电路制造系统，该集成电路制造系统包括：非暂时性计算机可读存储介质，该非暂时性计算机可读存储介质上存储有图形处理单元的计算机可读描述；布局处理系统，该布局处理系统被配置为处理计算机可读描述，以便生成包含图形处理单元的集成电路的电路布局描述；以及集成电路生成系统，该集成电路生成系统被配置为根据电路布局描述来制造图形处理单元。
117、可以提供用于执行本文中描述的方法中的任何方法的计算机程序代码。换句话说，可提供一种计算机可读代码，所述计算机可读代码被配置成在运行所述代码时，促使本文中所描述的方法中的任一种方法得以执行。可提供其上存储有计算机可读指令的非暂时性计算机可读存储介质，当在计算机系统处被执行时，所述计算机可读指令促使所述计算机系统执行本文中所描述的方法中的任一种方法。
118、如对本领域技术人员将显而易见，上述特征可以适当地组合，并且可与本文所描述的示例的各方面中的任一方面进行组合。
1.一种在图形处理单元(gpu)中将纹理滤波应用于片段块的方法，所述片段中的每个片段与针对纹理的多个维度中的每个维度的纹理坐标相关联，所述方法包括：
2.如权利要求1所述的方法，所述方法还包括对所提取的纹素执行去唯一化过程，从而确定所提取的纹素中的哪些所提取的纹素包括在针对所述块的所述片段中的每个片段的所述子组中。
3.如权利要求1或2所述的方法，其中所述纹理滤波是双线性滤波，其中所述针对纹理坐标集合中的每个纹理坐标确定两个或更多个整数纹素坐标包括针对所述纹理坐标集合中的每个纹理坐标精确地确定两个整数纹素坐标，并且
4.如权利要求3所述的方法，其中针对所述纹理坐标中的每个纹理坐标确定的所述两个整数纹素坐标是：(i)第一整数纹素坐标，所述第一整数纹素坐标对应于向下舍入到整数纹素位置的所述纹理坐标；以及(ii)第二整数纹素坐标，所述第二整数纹素坐标是大于所述第一整数纹素坐标的所述整数纹素坐标。
5.如权利要求3或4所述的方法，其中所述纹理滤波的细节级别对应于所述块中的所述片段的间距与所述纹理中的所述纹素的间距之间的1∶1映射。
6.如权利要求3至5中任一项所述的方法，其中所述片段块是mxn片段块，其中所述纹理是2d纹理，使得每个片段与针对水平维度的纹理坐标以及针对竖直维度的纹理坐标相关联，并且其中所确定的整数纹素坐标的所述子集包括针对所述水平维度的n+1个整数纹素坐标以及针对所述竖直维度的m+1个整数纹素坐标。
7.如权利要求6所述的方法，其中所提取的纹素表示所述纹理的(m+1)x(n+1)纹素块。
8.如权利要求3至7中任一项所述的方法，所述方法还包括确定与所述集合的所述纹理坐标中的每个纹理坐标对应的纹素位置的小数部分，其中针对片段的所述双线性插值的水平插值权重是基于对应于与针对水平维度的所述片段相关联的所述纹理坐标的纹素位置的所确定的小数部分，并且其中针对所述片段的所述双线性插值的竖直插值权重是基于对应于与针对竖直维度的所述片段相关联的所述纹理坐标的纹素位置的所确定的小数部分。
9.如权利要求8所述的方法，所述方法还包括：在生成所述纹素地址之前，检测到对应于纹理坐标的纹素位置的所确定的小数部分为零，并且响应于此检测，确定不需要针对与所述纹理坐标相关联的片段的所述双线性插值的所述四个纹素中的两个纹素来确定所述四个纹素的所述双线性插值的结果。
10.如任一前述权利要求所述的方法，其中响应于确定存在充足数量的重复的所确定的整数纹素坐标，对所确定的整数纹素坐标执行所述唯一化过程。
11.如权利要求10在从属于权利要求6或7时所述的方法，其中m＝n＝4，并且其中所述确定存在充足数量的重复的所确定的整数纹素坐标包括确定是否满足以下表达式中的所有六个表达式：
12.如权利要求11所述的方法，其中5x5纹素块的所述整数纹素坐标是：
13.如权利要求1或2所述的方法，其中所述纹理滤波是使用具有次数d的多项式的二维多项式滤波，其中d>1，其中所述针对纹理坐标集合中的每个纹理坐标确定两个或更多个整数纹素坐标包括针对所述纹理坐标集合中的每个纹理坐标确定(d+1)个整数纹素坐标，并且
14.如任一前述权利要求所述的方法，其中所述纹理的所述水平维度和所述竖直维度中的一者或两者相对于所述片段块的所述维度翻转。
15.如任一前述权利要求所述的方法，其中针对所述块的第一片段的一对整数纹素坐标与针对所述块的第二片段的一对整数纹素坐标相同，并且其中由于所述唯一化过程，将对应于所述一对整数纹素坐标的所述纹素地址生成一次以用于处理所述片段块。
16.如任一前述权利要求所述的方法，其中所述唯一化过程使得被生成用于处理所述片段块的所述纹素地址中的所有纹素地址是唯一的。
17.如任一前述权利要求所述的方法，其中所述纹理坐标集合是缩减的纹理坐标集合，所述缩减的纹理坐标集合包括：
18.一种图形处理单元，所述图形处理单元被配置成将纹理滤波应用于片段块，所述片段中的每个片段与针对纹理的多个维度中的每个维度的纹理坐标相关联，所述图形处理单元包括片段处理单元和纹理处理单元，
19.如权利要求18所述的图形处理单元，其中所述纹理处理单元包括：
20.一种计算机可读代码，所述计算机可读代码被配置成使得在运行所述代码时执行如权利要求1至17中任一项所述的方法。
21.一种集成电路定义数据集，所述集成电路定义数据集当在集成电路制造系统中被处理时将所述集成电路制造系统配置成制造如权利要求18或19所述的图形处理单元。
