本技术涉及玻璃擦，更具体地涉及一种玻璃擦的调节结构及玻璃擦。
背景技术：
1、玻璃擦即用于清洁玻璃的工具，玻璃擦包括磁吸式双面玻璃擦，即包括二擦体，每一所述擦体内均设有磁石，两所述擦体分别设于玻璃的内外侧，通过移动玻璃内侧的擦体，在磁力作用下，玻璃外侧的擦体跟随移动并擦拭玻璃，实现一面擦、两面净的清洁效果，现被广泛运用于高层玻璃的清洁情境中。而在磁吸式双面玻璃擦中，如何调节两磁石的吸附力是通过玻璃擦的调节结构实现的。
2、专利文件（cn214157199u）就公开了一种玻璃擦的调节结构，包括一玻璃擦体、一旋钮、若干磁钢和一旋转套，所述磁钢和所述旋转套设于所述玻璃擦体内，所述旋钮的下端穿过所述旋转套并与所述磁钢连接，所述旋钮的下端侧壁一体成型有一推动凸块，且所述旋转套的内壁成型有台阶型的凸起，通过转动所述旋钮，从而使所述推动凸块位于不同台阶，进而调节所述磁钢的高度。但是：在所述玻璃擦调节结构中，台阶型的凸起包括位于同一高度的水平部和形成高度落差的竖直部，当转动所述旋钮时，所述推动凸块在所述水平部移动时，所述旋钮以及所述磁钢的高度是恒定的，直至所述旋钮旋转至所述竖直部时，受到另一玻璃擦体内磁钢的磁力作用，将所述磁钢和所述旋钮沿所述竖直部吸至另一台阶的所述水平部，易见，这一过程是有分级的调节，在旋拧所述旋钮的过程中，两擦体内磁钢的间距是在水平部维持一恒定距离预定时间，又在移动至竖直部后猛然缩短，受到台阶型凸起的结构限制，其磁吸附力的调节范围为有限个恒定值，调节范围较窄。
3、因此提供一种无级调节、调节范围更广、能够满足使用者多种吸附力的调节需求的玻璃擦的调节结构及玻璃擦的需求是存在的。
技术实现思路
1、本技术主要目的在于提供一种玻璃擦的调节结构，其中，所述玻璃擦的调节结构包括一壳体、若干个第一磁铁、一移动件和一转动件，所述移动件移动设置于所述壳体上，所述第一磁铁与所述移动件连接，所述移动件具有若干个接触端，所述转动件被可转动地安装在所述壳体上，所述转动件具有若干个接触面，所述接触面的一端至另一端螺旋上升，所述接触端与所述接触面接触，本技术实施例通过将所述接触面设置为一端至另一端螺旋上升的面体，所述接触面每一角度下的高度均存在落差，则旋转所述转动件时，所述转动件每转动一个预定角度，所述接触端均与接触面存在一高度上的落差，使得所述第一磁铁将与另一擦体内的磁铁吸附并令所述接触端再次与所述接触面抵靠，易见，相较于现有技术中将接触面设置为具有水平部和竖直部的台阶型，仅具有有限个调节范围值，本技术实施例具有无级调节、调节范围更广、能够满足使用者多种吸附力的调节需求的优势。
2、本技术的另一目的在于提供一种玻璃擦的调节结构，其中，所述转动件背离所述接触面的一侧具有若干个呈环形阵列布置的去料槽，所述接触面的槽长自所述接触面最低的一端沿所述接触面的另一端逐渐增长，所述转动件为塑料件，由于设置所述接触面，所述转动件设有所述接触面的部分的厚度较厚，在注塑成型时易发生缩水现象，为避免这一现象，在具有所述接触面的区域设有所述去料槽，降低注塑成型时发生缩水现象的概率。
3、本技术的另一目的在于提供一种玻璃擦，包括上述玻璃擦的调节结构，其中，所述玻璃擦还包括一旋钮，所述旋钮位于所述转动件背离所述第一磁铁的一端，所述旋钮与所述转动件连接，使用者可通过旋转旋钮令所述转动件转动。
4、为了实现上述至少一发明目的，本技术提供了一种玻璃擦的调节结构，其中所述玻璃擦的调节结构，包括：
5、一壳体；以及
6、若干个第一磁铁；以及
7、一移动件，所述移动件移动设置于所述壳体上，所述第一磁铁与所述移动件连接，所述移动件具有若干个接触端；以及
8、一转动件，所述转动件被可转动地安装在所述壳体上，所述转动件具有若干个接触面，所述接触面的一端至另一端螺旋上升，所述接触端与所述接触面接触。
9、在本技术一个或多个实施例中，所述转动件背离所述接触面的一侧具有若干个呈环形阵列布置的去料槽，所述接触面的槽长自所述接触面最低的一端沿所述接触面的另一端逐渐增长。
10、在本技术一个或多个实施例中，所述玻璃擦的调节结构还包括一移动座和一连接件，所述连接件的两端分别与所述移动件和所述移动座连接，所述移动座滑动设置于所述壳体上，每一所述第一磁铁均固定安装在所述移动座上。
11、在本技术一个或多个实施例中，所述壳体包括一第一壳体和一第二壳体，所述第一壳体的一侧具有用于安装擦布的安装部，所述第一壳体的另一侧具有一第一凹腔，所述第二壳体的两侧分别具有一第一导向孔和一第二凹腔，所述第一导向孔位于所述第二凹腔背离所述第一凹腔的一侧，所述第一凹腔与所述第二凹腔连通，所述第一凹腔和所述第二凹腔均具有若干个导向凸起，所述移动座沿所述导向凸起在所述第一凹腔和所述第二凹腔中作滑动，所述转动件的一端伸入所述第一导向孔内。
12、在本技术一个或多个实施例中，所述玻璃擦的调节结构还包括若干个第一弹性件，所述第一弹性件的两端分别与所述第一凹腔的腔底和所述第一磁铁抵靠。
13、在本技术一个或多个实施例中，所述玻璃擦的调节结构还包括一第二弹性件，所述第二弹性件的两端分别与所述转动件和所述第二壳体连接。
14、为了实现上述至少一发明目的，本技术提供了一种玻璃擦，包括上述的玻璃擦的调节结构，还包括：
15、一旋钮，所述旋钮位于所述转动件背离所述第一磁铁的一端，所述旋钮与所述转动件连接。
16、在本技术一个或多个实施例中，所述移动件背离所述第一磁铁的一端具有一第二导向孔，所述旋钮的一端具有一防偏凸起，当所述旋钮与所述转动件连接时，所述防偏凸起伸入所述第二导向孔内。
17、在本技术一个或多个实施例中，所述旋钮靠近所述转动件的一端具有若干个卡槽，所述转动件靠近所述旋钮的一端具有若干个卡嵌部，每一所述卡槽内均设有一所述卡嵌部。
18、在本技术一个或多个实施例中，所述玻璃擦还包括一防脱盖，所述防脱盖与所述壳体设有所述转动件的一端卡接，所述防脱盖靠近所述壳体的一端具有一第三凹腔，所述第三凹腔的腔底具有一贯穿孔，所述旋钮背离所述转动件的一端具有一轴肩和一握持部，所述握持部伸入所述第三凹腔并穿过所述贯穿孔，且所述轴肩的最大径向尺寸大于所述贯穿孔的孔径。
19、在本技术实施例中，玻璃擦的调节结构包括一壳体、若干个第一磁铁、一移动件和一转动件，移动件移动设置于壳体上，第一磁铁与移动件连接，移动件具有若干个接触端，转动件被可转动地安装在壳体上，转动件具有若干个接触面，接触面的一端至另一端螺旋上升，接触端与接触面接触，本技术实施例通过将接触面设置为一端至另一端螺旋上升的面体，接触面每一角度下的高度均存在落差，则旋转转动件时，转动件每转动一个预定角度，接触端均与接触面存在一高度上的落差，使得第一磁铁将与另一擦体内的磁铁吸附并令接触端再次与接触面抵靠，易见，相较于现有技术中将接触面设置为具有水平部和竖直部的台阶型，仅具有有限个调节范围值，本技术实施例具有无级调节、调节范围更广、能够满足使用者多种吸附力的调节需求的优势。
1.一种玻璃擦的调节结构，其特征在于：所述玻璃擦的调节结构包括
2.根据权利要求1所述的玻璃擦的调节结构，其特征在于：所述转动件背离所述接触面的一侧具有若干个呈环形阵列布置的去料槽，所述接触面的槽长自所述接触面最低的一端沿所述接触面的另一端逐渐增长。
3.根据权利要求2所述的玻璃擦的调节结构，其特征在于：所述玻璃擦的调节结构还包括一移动座和一连接件，所述连接件的两端分别与所述移动件和所述移动座连接，所述移动座滑动设置于所述壳体上，每一所述第一磁铁均固定安装在所述移动座上。
4.根据权利要求3所述的玻璃擦的调节结构，其特征在于：所述壳体包括一第一壳体和一第二壳体，所述第一壳体的一侧具有用于安装擦布的安装部，所述第一壳体的另一侧具有一第一凹腔，所述第二壳体的两侧分别具有一第一导向孔和一第二凹腔，所述第一导向孔位于所述第二凹腔背离所述第一凹腔的一侧，所述第一凹腔与所述第二凹腔连通，所述第一凹腔和所述第二凹腔均具有若干个导向凸起，所述移动座沿所述导向凸起在所述第一凹腔和所述第二凹腔中作滑动，所述转动件的一端伸入所述第一导向孔内。
5.根据权利要求4所述的玻璃擦的调节结构，其特征在于：所述玻璃擦的调节结构还包括若干个第一弹性件，所述第一弹性件的两端分别与所述第一凹腔的腔底和所述第一磁铁抵靠。
6.根据权利要求4所述的玻璃擦的调节结构，其特征在于：所述玻璃擦的调节结构还包括一第二弹性件，所述第二弹性件的两端分别与所述转动件和所述第二壳体连接。
7.一种玻璃擦，包括上述权利要求1-6任一所述的玻璃擦的调节结构，其特征在于：所述玻璃擦还包括一旋钮，所述旋钮位于所述转动件背离所述第一磁铁的一端，所述旋钮与所述转动件连接。
8.根据权利要求7所述的玻璃擦，其特征在于：所述移动件背离所述第一磁铁的一端具有一第二导向孔，所述旋钮的一端具有一防偏凸起，当所述旋钮与所述转动件连接时，所述防偏凸起伸入所述第二导向孔内。
9.根据权利要求7所述的玻璃擦，其特征在于：所述旋钮靠近所述转动件的一端具有若干个卡槽，所述转动件靠近所述旋钮的一端具有若干个卡嵌部，每一所述卡槽内均设有一所述卡嵌部。
10.根据权利要求7所述的玻璃擦，其特征在于：所述玻璃擦还包括一防脱盖，所述防脱盖与所述壳体设有所述转动件的一端卡接，所述防脱盖靠近所述壳体的一端具有一第三凹腔，所述第三凹腔的腔底具有一贯穿孔，所述旋钮背离所述转动件的一端具有一轴肩和一握持部，所述握持部伸入所述第三凹腔并穿过所述贯穿孔，且所述轴肩的最大径向尺寸大于所述贯穿孔的孔径。
