本发明涉及改性材料制备
技术领域：
，具体涉及一种六方氮化硼的改性处理方法。
背景技术：
：六方氮化硼别称白石墨，是最简单的硼氮高分子。与石墨中的六角碳网相似，六方氮化硼中氮和硼也组成六角网状层面，互相重叠，构成晶体。晶体与石墨相似，具有反磁性及很高的异向性，晶体参数两者也颇为相近。氮化硼主要用于耐火材料、半导体固相掺杂源、原子堆的结构材料、防中子辐射的包装材料、火箭发动机组成材料、高温润滑剂和脱模剂。六方氮化硼与石墨中的六角碳网相似，六方氮化硼中氮和硼也组成六角网状层面，互相重叠，构成晶体。晶体与石墨相似，具有反磁性及很高的异向性，晶体参数两者也颇为相近。同样地，六方氮化硼与石墨相似，也具备优异的导热性、耐热性和热稳定性，可用于电子产品的导热材料制备。但是，六方氮化硼表面十分稳定，活性基团极少，与其他高分子材料等不易发生相互作用，不利于其应用于电子材料导热层的制备，目前的解决方法普遍为对其进行表面改性后在应用与导热层的制备，但目前的改性方法普遍存在以下问题：绝大多数改性方法中用到大量可挥发性有机溶剂，对环境非常不友好且对处理工艺、设备要求较高；部分改性方法操作步骤多、方法复杂、所需设备特殊且造假高，改性时间长、成本高；大部分改性方法会引起六方氮化硼的结构变化，影响其热学/电学性能，不利于后续应用，因此实用性低。技术实现要素：为解决上述六方氮化硼改性方法中存在的步骤多、方法复杂、有机溶剂用量大及改性过程中六方氮化硼结构受到影响等问题，本发明提供一种简单、快速、环保的六方氮化硼改性方法，具体方案如下。一种六方氮化硼的改性处理方法，包括以下步骤：s1、采用球磨、砂磨或高压均质中的两种或三种处理六方氮化硼；s2、在处理后的六方氮化硼中加入羟基化修饰试剂，依次进行球磨、砂磨和去离子水清洗处理，得到羟基化修饰的改性六方氮化硼。优选地，s1所述处理六方氮化硼，包括依次采用球磨及高压均质的方法处理六方氮化硼。优选地，s1所述处理六方氮化硼，包括依次采用砂磨及高压均质的方法处理六方氮化硼。优选地，s1所述处理六方氮化硼，包括依次采用球磨、砂磨及高压均质的方法处理六方氮化硼。优选地，s1所述球磨，研磨球使用氧化钇稳定的氧化锆陶瓷，直径大小包括25mm、15mm、10mm、5mm，25mm、15mm、10mm、5mm直径的研磨球质量比为(1-4):(1-4):(2-6):1。优选地，s1所述球磨，研磨球质量与六方氮化硼质量的比例(10-30):1。优选地，s1所述球磨，球磨速度公转转速100-400rpm，自转转速200-800rpm，球磨时间2-24h。优选地，s1所述球磨后干燥。优选地，s1所述砂磨，研磨球使用氧化钇稳定的氧化锆陶瓷材料，直径大小包括3mm、1mm、0.5mm中的两种或三种，3mm、1mm、0.5mm直径的研磨球质量比为(0-2):(0.5-3):1。优选地，s1所述砂磨，研磨球质量与六方氮化硼质量的比为(3-8):1。优选地，s1所述砂磨，主机速度500-1600rpm，砂磨时间1-10h。优选地，s1所述砂磨后干燥。优选地，s1所述高压均质，使用z型工作腔或y型工作腔。优选地，s1所述高压均质，压力值为75-190mpa，流量50-8000ml/min，循环均质处理1-10次，总时长为0.5-4h。更优选地，s1所述高压均质，压力值为100-150mpa，流量800-4500ml/min。优选地，s1所述高压均质后干燥。优选地，s2所述羟基化修饰试剂包括多巴胺、双氧水、谷氨酸中的任意一种。优选地，s2所述羟基化修饰试剂质量，占羟基化修饰试剂与处理后的六方氮化硼质量之和的百分比为1-10％wt。优选地，s2所述球磨或砂磨过程中，羟基化修饰试剂与处理后的六方氮化硼混合物料温度保持在20-45℃。优选地，s2所述采用球磨进行处理，研磨球使用氧化钇稳定的氧化锆陶瓷，直径大小包括15mm、10mm、5mm，15mm、10mm、5mm直径的研磨球质量比为(1-2):(5-7):1。优选地，s2所述球磨，研磨球质量与羟基化修饰试剂和处理后的六方氮化硼质量之和的比例(35-40):1。优选地，s2所述球磨，球磨速度公转转速100-400rpm，自转转速200-800rpm，球磨时间2-5h。优选地，s2所述砂磨，研磨球使用氧化钇稳定的氧化锆陶瓷材料，直径大小包括2mm、0.5mm，2mm、0.5mm直径的研磨球质量比为(4-7):1。优选地，s2所述砂磨，研磨球质量与羟基化修饰试剂和处理后的六方氮化硼质量之和的比为(9-15):1。优选地，s2所述砂磨，主机速度500-1600rpm，砂磨时间1-10h。优选地，s2所述砂磨后干燥。优选地，当s1所述处理六方氮化硼，包括依次采用球磨及高压均质的方法处理六方氮化硼时，高压均质的时间t3的确定方法包括：其中，t1为球磨时间；i为球磨时间矫正系数，i为常数，取值为0.2-0.5；tc为参照时间标准量，取值为15-30h；k为矫正参数，k为常数，取值为0.5-0.7。优选地，上述各参数中，t1为10-24h。优选地，当s1所述处理六方氮化硼，包括依次采用砂磨及高压均质的方法处理六方氮化硼时，高压均质的时间t3的确定方法包括：其中，t2为砂磨时间；j为砂磨时间矫正系数，j为常数，取值为1-2；tc为参照时间标准量，取值为8-30h；k为矫正参数，k为常数，取值为0.1-0.7。优选地，上述各参数中t2为6-10h。优选地，当s1所述处理六方氮化硼，包括依次采用球磨、砂磨及高压均质的方法处理六方氮化硼时，高压均质的时间t3的确定方法包括：其中，t1为球磨时间，t2为砂磨时间；i为球磨时间矫正系数，i为常数，取值为0.2-0.5；j为砂磨时间矫正系数，j为常数，取值为0.5-2；tc为参照时间标准量，取值为2-15h；k为矫正参数，k为常数，取值为0.5-0.7。优选地，上述各参数中，t1为2-17h，t2为1-6h。有益效果本发明的有益效果在于：采用本发明提供的方法制备改性六方氮化硼，方法简单，步骤少，条件宽松，采用的设备为通用设备，不使用大量有机溶剂，对环境友好且安全，生产周期短，生产成本低。得到的改性六方氮化硼表面羟基含量高，界面原子级作用力强，热阻小，导热系数高。具体实施方式以下通过特定的具体实例说明本发明的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点与功效。本发明还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本发明的精神下进行各种修饰或改变。除非特别指出，以下实施例和对比例为平行试验，采用同样的处理步骤和参数。实施例1六方氮化硼的改性处理：s1、采用球磨、砂磨或高压均质中的两种或三种处理六方氮化硼；s2、在处理后的六方氮化硼中加入羟基化修饰试剂，依次进行球磨、砂磨和去离子水清洗处理，得到羟基化修饰的改性六方氮化硼。s1所述处理六方氮化硼，包括依次采用球磨及高压均质的方法处理六方氮化硼。s1所述球磨，研磨球使用氧化钇稳定的氧化锆陶瓷，直径大小包括25mm、15mm、10mm、5mm，25mm、15mm、10mm、5mm直径的研磨球质量比为1:1:2:1。s1所述球磨，研磨球质量与六方氮化硼质量的比例10:1。s1所述球磨，球磨速度公转转速100rpm，自转转速200rpm，球磨时间4h。s1所述球磨后干燥。s1所述高压均质，使用z型工作腔或y型工作腔。s1所述高压均质，压力值为100mpa，流量800ml/min，循环均质处理3次，总时长为1h。s1所述高压均质后干燥。s2所述羟基化修饰试剂包括多巴胺。s2所述羟基化修饰试剂质量，占羟基化修饰试剂与处理后的六方氮化硼质量之和的百分比为1wt。s2所述球磨或砂磨过程中，羟基化修饰试剂与处理后的六方氮化硼混合物料温度保持在25℃。s2所述采用球磨进行处理，研磨球使用氧化钇稳定的氧化锆陶瓷，直径大小包括15mm、10mm、5mm，15mm、10mm、5mm直径的研磨球质量比为1:5:1。s2所述球磨，研磨球质量与羟基化修饰试剂和处理后的六方氮化硼质量之和的比例35:1。s2所述球磨，球磨速度公转转速100rpm，自转转速200rpm，球磨时间2h。s2所述砂磨，研磨球使用氧化钇稳定的氧化锆陶瓷材料，直径大小包括2mm、0.5mm，2mm、0.5mm直径的研磨球质量比为4:1。s2所述砂磨，研磨球质量与羟基化修饰试剂和处理后的六方氮化硼质量之和的比为9:1。s2所述砂磨，主机速度500rpm，砂磨时间1h。s2所述砂磨后干燥。实施例2六方氮化硼的改性处理：s1、采用球磨、砂磨或高压均质中的两种或三种处理六方氮化硼；s2、在处理后的六方氮化硼中加入羟基化修饰试剂，依次进行球磨、砂磨和去离子水清洗处理，得到羟基化修饰的改性六方氮化硼。s1所述处理六方氮化硼，包括依次采用砂磨及高压均质的方法处理六方氮化硼。s1所述砂磨，研磨球使用氧化钇稳定的氧化锆陶瓷材料，直径大小包括3mm、1mm、0.5mm中的两种或三种，3mm、1mm、0.5mm直径的研磨球质量比为2:3:1。s1所述砂磨，研磨球质量与六方氮化硼质量的比为8:1。s1所述砂磨，主机速度1600rpm，砂磨时间10h。s1所述砂磨后干燥。s1所述高压均质，使用y型工作腔。s1所述高压均质，压力值为150mpa，流量4500ml/min，循环均质处理10次，总时长为4h。s1所述高压均质后干燥。s2所述羟基化修饰试剂包括谷氨酸。s2所述羟基化修饰试剂质量，占羟基化修饰试剂与处理后的六方氮化硼质量之和的百分比为10％wt。s2所述球磨或砂磨过程中，羟基化修饰试剂与处理后的六方氮化硼混合物料温度保持在45℃。s2所述采用球磨进行处理，研磨球使用氧化钇稳定的氧化锆陶瓷，直径大小包括15mm、10mm、5mm，15mm、10mm、5mm直径的研磨球质量比为2:7:1。s2所述球磨，研磨球质量与羟基化修饰试剂和处理后的六方氮化硼质量之和的比例40:1。s2所述球磨，球磨速度公转转速400rpm，自转转速800rpm，球磨时间5h。s2所述砂磨，研磨球使用氧化钇稳定的氧化锆陶瓷材料，直径大小包括2mm、0.5mm，2mm、0.5mm直径的研磨球质量比为7:1。s2所述砂磨，研磨球质量与羟基化修饰试剂和处理后的六方氮化硼质量之和的比为15:1。s2所述砂磨，主机速度1600rpm，砂磨时间10h。s2所述砂磨后干燥。实施例3六方氮化硼的改性处理：s1、采用球磨、砂磨或高压均质中的两种或三种处理六方氮化硼；s2、在处理后的六方氮化硼中加入羟基化修饰试剂，依次进行球磨、砂磨和去离子水清洗处理，得到羟基化修饰的改性六方氮化硼。s1所述处理六方氮化硼，包括依次采用球磨、砂磨及高压均质的方法处理六方氮化硼。s1所述球磨，研磨球使用氧化钇稳定的氧化锆陶瓷，直径大小包括25mm、15mm、10mm、5mm，25mm、15mm、10mm、5mm直径的研磨球质量比为2:3:5:1。s1所述球磨，研磨球质量与六方氮化硼质量的比例20:1。s1所述球磨，球磨速度公转转速100-400rpm，自转转速500rpm，球磨时间15h。s1所述球磨后干燥。s1所述砂磨，研磨球使用氧化钇稳定的氧化锆陶瓷材料，直径大小包括3mm、1mm、0.5mm中的两种或三种，3mm、1mm、0.5mm直径的研磨球质量比为1:2:1。s1所述砂磨，研磨球质量与六方氮化硼质量的比为5:1。s1所述砂磨，主机速度900rpm，砂磨时间6h。s1所述砂磨后干燥。s1所述高压均质，使用y型工作腔。s1所述高压均质，压力值为130mpa，流量3000ml/min，循环均质处理6次，总时长为2h。s1所述高压均质后干燥。s2所述羟基化修饰试剂包括双氧水。s2所述羟基化修饰试剂质量，占羟基化修饰试剂与处理后的六方氮化硼质量之和的百分比为6％wt。s2所述球磨或砂磨过程中，羟基化修饰试剂与处理后的六方氮化硼混合物料温度保持在30℃。s2所述采用球磨进行处理，研磨球使用氧化钇稳定的氧化锆陶瓷，直径大小包括15mm、10mm、5mm，15mm、10mm、5mm直径的研磨球质量比为1:6:1。s2所述球磨，研磨球质量与羟基化修饰试剂和处理后的六方氮化硼质量之和的比例37:1。s2所述球磨，球磨速度公转转速300rpm，自转转速500rpm，球磨时间4h。s2所述砂磨，研磨球使用氧化钇稳定的氧化锆陶瓷材料，直径大小包括2mm、0.5mm，2mm、0.5mm直径的研磨球质量比为6:1。s2所述砂磨，研磨球质量与羟基化修饰试剂和处理后的六方氮化硼质量之和的比为12:1。s2所述砂磨，主机速度1100rpm，砂磨时间6h。s2所述砂磨后干燥。实施例4六方氮化硼的改性处理：s1、采用球磨、砂磨或高压均质中的两种或三种处理六方氮化硼；s2、在处理后的六方氮化硼中加入羟基化修饰试剂，依次进行球磨、砂磨和去离子水清洗处理，得到羟基化修饰的改性六方氮化硼。s1所述处理六方氮化硼，包括依次采用球磨及高压均质的方法处理六方氮化硼。s1所述球磨，研磨球使用氧化钇稳定的氧化锆陶瓷，直径大小包括25mm、15mm、10mm、5mm，25mm、15mm、10mm、5mm直径的研磨球质量比为1:1:2:1。s1所述球磨，研磨球质量与六方氮化硼质量的比例10:1。s1所述球磨，球磨速度公转转速100rpm，自转转速200rpm。s1所述球磨后干燥。s1所述高压均质，使用z型工作腔或y型工作腔。s1所述高压均质，压力值为100mpa，流量800ml/min，循环均质处理3次。s1所述高压均质后干燥。s2所述羟基化修饰试剂包括多巴胺。s2所述羟基化修饰试剂质量，占羟基化修饰试剂与处理后的六方氮化硼质量之和的百分比为1wt。s2所述球磨或砂磨过程中，羟基化修饰试剂与处理后的六方氮化硼混合物料温度保持在25℃。s2所述采用球磨进行处理，研磨球使用氧化钇稳定的氧化锆陶瓷，直径大小包括15mm、10mm、5mm，15mm、10mm、5mm直径的研磨球质量比为1:5:1。s2所述球磨，研磨球质量与羟基化修饰试剂和处理后的六方氮化硼质量之和的比例35:1。s2所述球磨，球磨速度公转转速100rpm，自转转速200rpm，球磨时间2h。s2所述砂磨，研磨球使用氧化钇稳定的氧化锆陶瓷材料，直径大小包括2mm、0.5mm，2mm、0.5mm直径的研磨球质量比为4:1。s2所述砂磨，研磨球质量与羟基化修饰试剂和处理后的六方氮化硼质量之和的比为9:1。s2所述砂磨，主机速度500rpm，砂磨时间1h。s2所述砂磨后干燥。s1所述处理六方氮化硼，包括依次采用球磨及高压均质的方法处理六方氮化硼，高压均质的时间t3的确定方法包括：其中，t1为球磨时间；i为球磨时间矫正系数，i为常数，取值为0.2-0.5；tc为参照时间标准量，取值为15-30h；k为矫正参数，k为常数，取值为0.5-0.7。上述各参数中，t1为10-24h。采用上述t3的确定方法中各参数范围内若干组组合进行试验(10组，性能验证数据取平均值)，经后续效果验证试验，发现改性基团质量占比平均较实施例1高3.1％，热导率平均较实施例1高7.9％。说明采用上述t3的确定方法能够有效增加表面改性基团数量，并且改善材料热性能。实施例5六方氮化硼的改性处理：s1、采用球磨、砂磨或高压均质中的两种或三种处理六方氮化硼；s2、在处理后的六方氮化硼中加入羟基化修饰试剂，依次进行球磨、砂磨和去离子水清洗处理，得到羟基化修饰的改性六方氮化硼。s1所述处理六方氮化硼，包括依次采用砂磨及高压均质的方法处理六方氮化硼。s1所述砂磨，研磨球使用氧化钇稳定的氧化锆陶瓷材料，直径大小包括3mm、1mm、0.5mm中的两种或三种，3mm、1mm、0.5mm直径的研磨球质量比为2:3:1。s1所述砂磨，研磨球质量与六方氮化硼质量的比为8:1。s1所述砂磨，主机速度1600rpm。s1所述砂磨后干燥。s1所述高压均质，使用y型工作腔。s1所述高压均质，压力值为150mpa，流量4500ml/min，循环均质处理10次。s1所述高压均质后干燥。s2所述羟基化修饰试剂包括谷氨酸。s2所述羟基化修饰试剂质量，占羟基化修饰试剂与处理后的六方氮化硼质量之和的百分比为10％wt。s2所述球磨或砂磨过程中，羟基化修饰试剂与处理后的六方氮化硼混合物料温度保持在45℃。s2所述采用球磨进行处理，研磨球使用氧化钇稳定的氧化锆陶瓷，直径大小包括15mm、10mm、5mm，15mm、10mm、5mm直径的研磨球质量比为2:7:1。s2所述球磨，研磨球质量与羟基化修饰试剂和处理后的六方氮化硼质量之和的比例40:1。s2所述球磨，球磨速度公转转速400rpm，自转转速800rpm，球磨时间5h。s2所述砂磨，研磨球使用氧化钇稳定的氧化锆陶瓷材料，直径大小包括2mm、0.5mm，2mm、0.5mm直径的研磨球质量比为7:1。s2所述砂磨，研磨球质量与羟基化修饰试剂和处理后的六方氮化硼质量之和的比为15:1。s2所述砂磨，主机速度1600rpm，砂磨时间10h。s2所述砂磨后干燥。s1所述处理六方氮化硼，包括依次采用砂磨及高压均质的方法处理六方氮化硼，高压均质的时间t3的确定方法包括：其中，t2为砂磨时间；j为砂磨时间矫正系数，j为常数，取值为1-2；tc为参照时间标准量，取值为8-30h；k为矫正参数，k为常数，取值为0.1-0.7。上述各参数中t2为6-10h。采用上述t3的确定方法中各参数范围内若干组组合进行试验(10组，性能验证数据取平均值)，经后续效果验证试验，发现改性基团质量占比平均较实施例2高4.4％，热导率平均较实施例2高7.0％。说明采用上述t3的确定方法能够有效增加表面改性基团数量，并且改善材料热性能。实施例6六方氮化硼的改性处理：s1、采用球磨、砂磨或高压均质中的两种或三种处理六方氮化硼；s2、在处理后的六方氮化硼中加入羟基化修饰试剂，依次进行球磨、砂磨和去离子水清洗处理，得到羟基化修饰的改性六方氮化硼。s1所述处理六方氮化硼，包括依次采用球磨、砂磨及高压均质的方法处理六方氮化硼。s1所述球磨，研磨球使用氧化钇稳定的氧化锆陶瓷，直径大小包括25mm、15mm、10mm、5mm，25mm、15mm、10mm、5mm直径的研磨球质量比为2:3:5:1。s1所述球磨，研磨球质量与六方氮化硼质量的比例20:1。s1所述球磨，球磨速度公转转速100-400rpm，自转转速500rpm。s1所述球磨后干燥。s1所述砂磨，研磨球使用氧化钇稳定的氧化锆陶瓷材料，直径大小包括3mm、1mm、0.5mm中的两种或三种，3mm、1mm、0.5mm直径的研磨球质量比为1:2:1。s1所述砂磨，研磨球质量与六方氮化硼质量的比为5:1。s1所述砂磨，主机速度900rpm。s1所述砂磨后干燥。s1所述高压均质，使用y型工作腔。s1所述高压均质，压力值为130mpa，流量3000ml/min，循环均质处理6次。s1所述高压均质后干燥。s2所述羟基化修饰试剂包括双氧水。s2所述羟基化修饰试剂质量，占羟基化修饰试剂与处理后的六方氮化硼质量之和的百分比为6％wt。s2所述球磨或砂磨过程中，羟基化修饰试剂与处理后的六方氮化硼混合物料温度保持在30℃。s2所述采用球磨进行处理，研磨球使用氧化钇稳定的氧化锆陶瓷，直径大小包括15mm、10mm、5mm，15mm、10mm、5mm直径的研磨球质量比为1:6:1。s2所述球磨，研磨球质量与羟基化修饰试剂和处理后的六方氮化硼质量之和的比例37:1。s2所述球磨，球磨速度公转转速300rpm，自转转速500rpm，球磨时间4h。s2所述砂磨，研磨球使用氧化钇稳定的氧化锆陶瓷材料，直径大小包括2mm、0.5mm，2mm、0.5mm直径的研磨球质量比为6:1。s2所述砂磨，研磨球质量与羟基化修饰试剂和处理后的六方氮化硼质量之和的比为12:1。s2所述砂磨，主机速度1100rpm，砂磨时间6h。s2所述砂磨后干燥。s1所述处理六方氮化硼，包括依次采用球磨、砂磨及高压均质的方法处理六方氮化硼，高压均质的时间t3的确定方法包括：其中，t1为球磨时间，t2为砂磨时间；i为球磨时间矫正系数，i为常数，取值为0.2-0.5；j为砂磨时间矫正系数，j为常数，取值为0.5-2；tc为参照时间标准量，取值为2-15h；k为矫正参数，k为常数，取值为0.5-0.7。优选地，上述各参数中，t1为2-17h，t2为1-6h。采用上述t3的确定方法中各参数范围内若干组组合进行试验(10组，性能验证数据取平均值)，经后续效果验证试验，发现改性基团质量占比平均较实施例3高3.9％，热导率平均较实施例3高6.1％。说明采用上述t3的确定方法能够有效增加表面改性基团数量，并且改善材料热性能。效果验证试验：对以上实施例所得产品进行表征：采用热重分析仪检测表面改性基团(羟基)质量，采用介于300-600℃之间测得的重量损失百分比数据作为接枝在六方氮化硼表面上的羟基相对于表面改性六方氮化硼的重量占比；利用激光导热仪测试材料的热扩散系数α(m2·s-1)，利用密度天平测试材料的密度ρ(kg·m-3)，利用差示扫描量热仪测试材料的比热容c(j·kg-1·k-1)，其中，由下述公式计算热导率：λ＝α·ρ·c。部分测试(实施例1-3)结果见下表：样本来源改性基团质量占比(‰)热导率(wm-1k-1)实施例11279实施例21686实施例31995由上表可见，本发明方法制备的改性六方氮化硼，具备更高的改性基团占比和更高的热导率，从性能上看，判断六方氮化硼结构未受到破坏，进一步地，通过sem及透色电镜观察，六方氮化硼整体结构规则稳定，未出现可见变化。以上对本发明优选的具体实施方式和实施例作了详细说明，但是本发明并不限于上述实施方式和实施例，在本领域技术人员所具备的知识范围内，还可以在不脱离本发明构思的前提下作出各种变化。当前第1页1 2 3
技术特征：1.一种六方氮化硼的改性处理方法，其特征在于：包括以下步骤：
s1、采用球磨、砂磨或高压均质中的两种或三种处理六方氮化硼；
s2、在处理后的六方氮化硼中加入羟基化修饰试剂，依次进行球磨、砂磨和去离子水清洗处理，得到羟基化修饰的改性六方氮化硼。
2.根据权利要求1所述的六方氮化硼的改性处理方法，其特征在于：
s1中处理六方氮化硼，包括依次采用球磨及高压均质的方法处理六方氮化硼；
或，
s1中处理六方氮化硼，包括依次采用砂磨及高压均质的方法处理六方氮化硼；
或，
s1中处理六方氮化硼，包括依次采用球磨、砂磨及高压均质的方法处理六方氮化硼。
3.根据权利要求2所述的六方氮化硼的改性处理方法，其特征在于：在s1中球磨采用的研磨球，使用氧化钇稳定的氧化锆陶瓷，直径包括25mm、15mm、10mm、5mm，25mm、15mm、10mm、5mm，质量比为(1-4):(1-4):(2-6):1。
4.根据权利要求2所述的六方氮化硼的改性处理方法，其特征在于：s1所述球磨，研磨球质量与六方氮化硼质量的比例(10-30):1。
5.根据权利要求2所述的六方氮化硼的改性处理方法，其特征在于：在s1中球磨的公转转速100-400rpm，自转转速200-800rpm，球磨时间2-24h；在s1所述球磨后干燥。
6.根据权利要求2所述的六方氮化硼的改性处理方法，其特征在于：s1中所述砂磨使用的研磨球使用氧化钇稳定的氧化锆陶瓷材料，直径包括3mm、1mm、0.5mm中的两种或三种，3mm、1mm、0.5mm直径的研磨球质量比为(0-2):(0.5-3):1。
7.根据权利要求2所述的六方氮化硼的改性处理方法，其特征在于：s1中所述砂磨采用的研磨球与六方氮化硼的质量比为(3-8):1。
8.根据权利要求2所述的六方氮化硼的改性处理方法，其特征在于：s1中所述砂磨，主机速度500-1600rpm，砂磨时间1-10h；s1所述砂磨后干燥。
9.根据权利要求2所述的六方氮化硼的改性处理方法，其特征在于：s1中所述高压均质，使用z型工作腔或y型工作腔；s1所述高压均质，压力值为75-190mpa，流量50-8000ml/min，循环均质处理1-10次，总时长为0.5-4h；s1所述高压均质后干燥。
10.根据权利要求2所述的六方氮化硼的改性处理方法，其特征在于：所述羟基化修饰试剂包括多巴胺、双氧水、谷氨酸中的任意一种；s2所述羟基化修饰试剂质量，占羟基化修饰试剂与处理后的六方氮化硼质量之和的百分比为1-10％wt；s2所述球磨或砂磨过程中，羟基化修饰试剂与处理后的六方氮化硼混合物料温度保持在20-45℃。
技术总结本发明公开了一种六方氮化硼的改性处理方法，涉及改性材料制备技术领域，方法包括以下步骤：S1、采用球磨、砂磨或高压均质中的两种或三种处理六方氮化硼；S2、在处理后的六方氮化硼中加入羟基化修饰试剂，依次进行球磨和砂磨处理，得到羟基化修饰的改性六方氮化硼。采用本发明提供的方法制备改性六方氮化硼，方法简单，步骤少，条件宽松，采用的设备为通用设备，不使用大量有机溶剂，对环境友好且安全，生产周期短，生产成本低。得到的改性六方氮化硼表面羟基含量高，界面原子级作用力强，热阻小，导热系数高。
技术研发人员：郭志军;陈仁政;黄国伟;张腾;吴超明
受保护的技术使用者：苏州鸿凌达电子科技有限公司;深圳市汉华热管理科技有限公司
技术研发日：2021.06.18
技术公布日：2021.08.03
