一种OLED器件及制备方法与流程

一种oled器件及制备方法
技术领域
1.本发明涉及oled显示技术领域，具体涉及了一种oled器件及制备方法。


背景技术：

2.随着显示技术的不断发展， oled（organic light emitting diode，有机发光二极管）因其自发光、厚度轻薄、视角广等特点被应用于智能电子设备、车载显示以及各类可穿戴设备中。并随着智能终端技术的日益发展使得人们对oled显示屏幕的需求量不断增加。其中oled显示屏幕的核心技术中之一发光层的制备一般是采用蒸镀成膜技术将有机发光材料透过高精细金属掩膜板（fine metal maskfmm）沉积在tft基板上相应的像素位置形成有机发光元器件。现阶段由于红、绿、蓝所使用的发光材料不同，需使用三种不同的fmm分别对三基色发光子像素蒸镀不同材料，蒸镀完成后再根据三种颜色的光电特性进行调配混合，得到可全彩显示的屏幕。
3.现阶段oled显示技术的发展中其生产成本以及生产良率是影响其快速发展主要原因。生产成本包括高昂的oled有机材料以及fmm制作的成本；其中良率问题包括制备高ppi(pixel per inch)oled屏幕的制备中的问题，其技术重点在于精细和机械稳定性好的fmm制作，而fmm的关键在于像素及子像素的排布方式。目前的oled的生产中绿光亮度和效果最高，而蓝光亮度、效率和寿命等性能相对最低。在红、绿、蓝三者混合搭配成全彩显示中，其屏幕的亮度调试牺牲绿光和红光在配合蓝光以得到色彩亮度均匀的全彩显示。正如此，绿光在实际应用中受限于蓝光使其性能得到浪费。


技术实现要素：

4.针对现有技术的不足，本发明提供一种结构简单、成本低的oled器件。
5.本发明的一种oled器件，包括基板以及在基板上依次设置阳极、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极和密封薄膜层，所述发光层包括红光区域、蓝光区域和绿光区域，所述红光区域设有红光有机发光元件；所述发光层的蓝光区域设有蓝光有机发光元件，所述绿光区域由空穴传输层材料激发成型。
6.上述oled器件的制备方法，所述发光层的蓝光区域采用蒸镀成膜技术将蓝光有机发光材料透过fmm
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b沉积在基板上像素位置形成蓝光有机发光元件；所述发光层的蓝光区域采用蒸镀成膜技术将蓝光有机发光材料透过fmm
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b沉积在基板上像素位置形成蓝光有机发光元件；所述绿光区域采用蒸镀成膜技术将空穴传输层材料透过cmm沉积在基板上像素位置激发形成绿光有机发光元件 ，所述像素位置上的红光、蓝光、绿光按像素排布方式进行光电特性调配混合。
7.进一步，所述基板在蒸镀前进行包括清洗、干燥、uv处理。
8.进一步，所述像素排布方式为常规rgb 或rgb delta或pentile。
9.进一步，所述像素排布方式为将一个方块形的像素平均分成相同的两小块，一小块赋予回字型蓝光，另一小块再沿上下二等分，上部分赋予回字型红光，下部分赋予绿光，
所述下部分绿光的面积根据绿光的发光位置、发光面积大小自行调节。
10.进一步，所述像素排布方式为将一个方块形的像素平均分成相同的两小块，一小块赋予回字型蓝光，另一小块再沿左右二等分，左部分赋予回字型红光，右部分赋予绿光，所述右部分绿光的面积根据绿光的发光位置、发光面积大小自行调节。
11.与现有技术相比，本发明的有益效果如下：1、采用空穴传输层材料激发绿光，基于oled器件目前蓝光较弱，绿光较强的普遍现状，降低绿光的发光亮度对oled整体性能无任何影响，简化了器件结构设计，降低oled制备生产成本。
12.2、采用空穴传输层材料激发可发绿光的材料特性的制备方法，去除发光层绿光的fmm
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g蒸镀的步骤即在器件生产制备过程中减少oled发光材料的使用以及减少fmm
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g的制备，采用cmm蒸镀空穴传输层材料激发可发绿光的材料，显著降低oled制备生产和后期维护成本。
13.3、采用本发明的像素排布方式该器件结构在设计过程中可缩小子像素间距且适用于各类型排布的像素设计、优化，制备出尺寸更小的显像像素，解决基板制备工艺限制，提高oled显示屏幕分辨率。
附图说明
14.此处所说明的附图用来提供对本技术的进一步理解，在附图中：图1为本发明的结构示意图；图2为本发明制备方法的流程图；图3为本发明制备方法的一种像素排布方式；图4为本发明制备方法的一种像素排布方式。
具体实施方式
15.参见图1，实施例中，一种oled器件，包括基板substrate以及在基板substrate上依次设置阳极anode、空穴注入层hil、空穴传输层htl、发光层el、电子传输层etl、电子注入层eil、阴极cathode和密封薄膜层capping，所述发光层el包括红光区域el
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r、蓝光区域el
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b和绿光区域el
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g，所述红光区域el
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r设有红光有机发光元件；所述发光层的蓝光区域el
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b设有蓝光有机发光元件，所述绿光区域el
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g由空穴传输层材料激发成型。
16.参见图2，上述oled器件的制备方法，所述基板在蒸镀前进行包括清洗、干燥、uv处理，然后将基板传至包括阳极、空穴注入层蒸镀腔体内进行依次蒸镀，再传送至空穴传输层蒸镀腔内蒸镀空穴传输层，透过cmm沉积在基板上像素位置激发空穴传输层材料形成绿光有机发光元件，再一次传送至发光层蒸镀腔内，发光层包括红光区域、蓝光区域和空白区域，所述发光层的蓝光区域采用蒸镀成膜技术将蓝光有机发光材料透过fmm
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b沉积在基板上像素位置形成蓝光有机发光元件，所述发光层的蓝光区域采用蒸镀成膜技术将蓝光有机发光材料透过fmm
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b沉积在基板上像素位置形成蓝光有机发光元件，所述像素位置上的红光、蓝光、绿光按像素排布方式进行光电特性调配混合，再逐一传输到电子传输层、电子注入层、阴极和密封薄膜层的蒸镀腔体内进行依次蒸镀，对蒸镀完成的基板依生产制程工序进行oled封装。
17.本制备方法进一步改进，所述像素排布方式为常规rgb 或rgb delta或pentile。
18.参见图3，本制备方法进一步改进，所述像素排布方式为将一个方块形的像素平均分成相同的两小块，一小块赋予回字型蓝光b，另一小块再沿上下二等分，上部分赋予回字型红光r，下部分赋予绿光g，所述下部分绿光g的面积根据绿光g的发光位置、发光面积大小自行调节，如图3a下部分赋予回字型绿光g过渡至3b填满。
19.参见图4，本制备方法进一步改进，所述像素排布方式为将一个方块形的像素平均分成相同的两小块，一小块赋予回字型蓝光b，另一小块再沿左右二等分，左部分赋予回字型红光r，右部分赋予绿光g，所述右部分绿光g的面积根据绿光g的发光位置、发光面积大小自行调节，如图4a右部分赋予回字型绿光g过渡至4b填满。
20.本发明的工作原理：该结构利用空穴传输层htl材料激发后可发绿光的材料特点，以此替代绿光的发光层材料，同时绿光发光区也采用cmm进行蒸镀替代先前工艺中绿光fmm的使用及制作。
21.尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。