一种高性能陶瓷基板制造成型加工工艺的制作方法

1.本发明涉及陶瓷基板技术领域，具体提出了一种高性能陶瓷基板制造成型加工工艺。


背景技术：

2.陶瓷基板是指铜箔在高温下直接键合到氧化铝或氮化铝陶瓷基片表面上的特殊工艺板。所制成的超薄复合基板具有优良电绝缘性能，高导热特性，优异的软钎焊性和高的附着强度，并可像pcb板一样能刻蚀出各种图形，具有很大的载流能力。因此，陶瓷基板已成为大功率电力电子电路结构技术和互连技术的基础材料。陶瓷基板产品问世，开启散热应用行业的发展，陶瓷基板具有高散热、低热阻、寿命长、耐电压等优点，随着生产技术、设备的改良，产品价格加速合理化，进而扩大led产业的应用领域，如家电产品的指示灯、汽车车灯、路灯及户外大型看板等。陶瓷基板的开发成功，更将成为室内照明和户外亮化产品提供服务，使led产业未来的市场领域更宽广。陶瓷基板在生产干燥成型后需要对其表面的绝缘层进行研磨抛光处理。
3.陶瓷基板经过干燥定型后在对其表面进行蚀刻钎焊层得到所需的电镀层前需要将其表面研磨抛光平整，现有陶瓷基板成型加工装置存在以下缺陷：1、现有陶瓷基板成型加工装置在对陶瓷基板表面研磨抛光前不能对其稳定的夹持锁紧，导致陶瓷基板在抛光时发生偏移，影响陶瓷基板的抛光打磨效率和抛光效果；2、现有陶瓷基板成型加工装置，在对陶瓷基板抛光时不能同时对基板多点抛光，抛光效率低，不能对陶瓷基板弹性支撑抛光时容易对绝缘层造成损伤，对陶瓷基板抛光后不能将陶瓷基板表面抛光产生的陶瓷残渣和灰尘及时的擦拭干净，影响陶瓷基板表面的光滑平整度。
4.基于上述问题，本发明提供了一种高性能陶瓷基板制造成型加工工艺，具体涉及到一种高性能陶瓷基板制造成型加工装置。


技术实现要素：

5.为了解决上述问题，本发明提供了一种高性能陶瓷基板制造成型加工工艺，用于解决上述背景技术中提到的问题。
6.为了实现上述目的，本发明采用以下技术方案来实现：一种高性能陶瓷基板制造成型加工工艺，其使用了一种高性能陶瓷基板制造成型加工装置，该高性能陶瓷基板制造成型加工装置包括底板、移动支撑机构和抛光擦拭机构，所述的底板上端面中部通过滑动配合的方式安装有移动支撑机构，移动支撑机构左右两侧设置有抛光擦拭机构，抛光擦拭机构对称安装在底板上。
7.使用该高性能陶瓷基板制造成型加工装置加工陶瓷基板时具体包括以下步骤：
8.s1：支撑锁紧：人工将待加工的陶瓷基板放置在滑动基座上，通过锁紧支链将其锁紧固定；
9.s2：移动调节：通过移动调节支链对滑动基座的水平位置进行调节；
10.s3：基板抛光：当滑动基座处于抛光架正下方时，通过抛光支链对基板表面进行抛光打磨，除去基板表面的凸起和陶瓷渣，增加基板表面的平整度；
11.s4：擦拭清理：抛光打磨处理后，调节滑动基座水平位置，使其处于擦拭架下方，通过擦拭支链将基板表面抛光产生的陶瓷残渣和灰尘擦拭干净；
12.s5：基板收集：基板擦拭清理后，解除对基板的锁紧，人工将表面光滑平整的的陶瓷基板从滑动基座上取下，统一收集管理。
13.所述的移动支撑机构包括匚型板、弹簧支杆、支撑吸盘、滑动板、滑动基座、橡胶垫、滑动滚珠、移动调节支链和锁紧支链，所述的底板上端面中部固定安装有开口向上的匚型板，匚型板上端面上从左向右均匀安装有多个弹簧支杆，弹簧支杆上端设置有支撑吸盘，匚型板上对称开设有滑槽，滑槽内通过滑动配合的方式安装有滑动板，两滑动板之间设置有滑动基座，滑动基座上端面设置有橡胶垫，滑动基座下端面均匀设置有多个滑动滚珠，滑动基座中部通过螺纹配合的方式安装有移动调节支链，滑动基座上端前后对称设置有锁紧支链，锁紧支链通过滑动配合的方式安装在底板上。
14.所述的抛光擦拭机构包括抛光架、气缸、抛光板、匚型架、抛光支链、擦拭架、l型架和擦拭支链，所述的底板上端面左侧固定安装有抛光架，抛光架上对称开设有矩形滑槽，矩形滑槽内通过气缸座安装有气缸，气缸的活动端上通过法兰连接有抛光板，抛光板上端面中部固定安装有开口向下的匚型架，匚型架上安装有抛光支链，所述的底板上端面右侧固定安装有擦拭架，擦拭架截面呈开口向下的匚型结构，擦拭架前端面中部固定安装有l型架，l型架上设置有擦拭支链，擦拭支链通过滑动配合的方式安装在擦拭架上。
15.作为本发明的一种优选技术方案，所述的移动调节支链包括调节丝杆、限位螺母、驱动电机和三脚架，所述的滑动基座中部通过螺纹配合的方式安装有调节丝杆，调节丝杆左端设置有限位螺母，调节丝杆右端通过花键与驱动电机的输出轴连接，驱动电机通过电机座安装在三脚架上，三脚架固定安装在底板上端面中部右侧。
16.作为本发明的一种优选技术方案，所述的锁紧支链包括滑动支板、锁紧螺杆，转盘、推进块和锁紧板，所述的底板上前后对称开设有矩形槽，矩形槽内通过滑动配合的方式安装有滑动支板，滑动支板中部通过螺纹配合的方式安装有锁紧螺杆，锁紧螺杆远离滑动基座一端设置有转盘，锁紧螺杆靠近滑动基座一端连接有推进块，推进块上安装有锁紧板。
17.作为本发明的一种优选技术方案，所述的抛光支链包括抛光电机、一号传动轮、二号传动轮、皮带、传动杆和抛光盘，所述的匚型架上通过电机座安装有抛光电机，抛光电机的输出轴上通过花键安装有一号传动轮，一号传动轮前后两侧均匀设置有多个二号传动轮，二号传动轮与一号传动轮之间通过皮带连接，二号传动轮与一号传动轮上均安装有传动杆，传动杆下端面上安装有抛光盘。
18.作为本发明的一种优选技术方案，所述的擦拭支链包括转动电机、传动轴、凸轮、活动架、擦拭海绵、支撑块和支撑复位弹簧，所述的l型架上通过电机座安装有转动电机，转动电机的输出轴上通过联轴器安装有传动轴，传动轴上均匀安装有凸轮，凸轮下端始终与活动架接触，活动架中部安装有擦拭海绵，活动架上前后对称安装有支撑块，支撑块下端设置有支撑复位弹簧，支撑复位弹簧安装在擦拭架上。
19.作为本发明的一种优选技术方案，所述的锁紧板截面呈l型结构，锁紧板上铺设有橡胶层，且锁紧板与滑动基座之间均匀设置有多个伸缩弹簧，工作时锁紧板截面呈l型结构
可以增加对陶瓷基板的锁紧效果，橡胶层起到对陶瓷基板侧边保护的作用，伸缩弹簧起到连接滑动基座与锁紧板的作用，可以在对陶瓷基板夹持锁紧的同时，不影响对滑动基座水平位置的调节，而且可以增加滑动基座运动的平稳性，有利于提高对陶瓷基板表面绝缘层的抛光打磨效率。
20.上述技术方案具有如下优点或者有益效果：
21.1.本发明提供了一种高性能陶瓷基板制造成型加工工艺，可以解决现有陶瓷基板成型加工装置在对陶瓷基板表面研磨抛光前不能对其稳定的夹持锁紧，导致陶瓷基板在抛光时发生偏移，影响陶瓷基板的抛光打磨效率和抛光效果的问题，还可以解决现有陶瓷基板成型加工装置，在对陶瓷基板抛光时不能同时对基板多点抛光，抛光效率低，不能对陶瓷基板弹性支撑抛光时容易对绝缘层造成损伤，对陶瓷基板抛光后不能将陶瓷基板表面抛光产生的陶瓷残渣和灰尘及时的擦拭干净，影响陶瓷基板表面的光滑平整度的问题。
22.2.本发明提供了一种高性能陶瓷基板制造成型加工工艺，其锁紧支链可以从前后两侧对陶瓷基板进行夹持锁紧，有利于增加陶瓷基板的稳定性，可以防止陶瓷基板表面抛光打磨时发生偏移，有利于提高对陶瓷基板的抛光打磨效果。
23.3.本发明提供了一种高性能陶瓷基板制造成型加工工艺，其抛光支链和支撑吸盘配合可以防止对陶瓷基板抛光时对陶瓷基板造成损伤，有利于增加对陶瓷基板的保护，同时可以对陶瓷基板表面绝缘层进行多点抛光打磨，可以将陶瓷基板表面凹凸不平的陶瓷残渣和毛刺抛光平整，有利于提高对陶瓷基板的抛光打磨效率，有利于增加陶瓷基板表面的光滑平整度，擦拭支链可以及时的将陶瓷基板表面因抛光打磨产生的陶瓷残渣和灰尘及时的擦拭干净，而且可以对陶瓷基板表面往复擦拭，有利于增加陶瓷基板表面的光滑洁净程度。
附图说明
24.通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本发明及其特征、外形和优点将会变得更加明显。在全部附图中相同的标记指示相同的部分，并未刻意按照比例绘制附图，重点在于示出本发明的主旨。
25.图1是本发明提供的一种高性能陶瓷基板制造成型加工工艺的工艺流程图；
26.图2是本发明提供的一种高性能陶瓷基板制造成型加工装置的立体结构示意图；
27.图3是本发明提供的抛光支链与移动支撑机构之间的立体结构示意图；
28.图4是本发明提供的擦拭支链与移动支撑机构之间的立体结构示意图；
29.图5是本发明提供的一种高性能陶瓷基板制造成型加工装置横向剖面结构示意图；
30.图6是本发明提供的锁紧支链与擦拭支链之间的纵向剖面结构示意图。
具体实施方式
31.下面对照附图，通过对实施例的描述，对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明，目的是帮助本领域的技术人员对本发明的构思、技术方案有更完整、准确和深入的理解，并有助于其实施，但不作为对本发明的限定。
32.参阅附图1
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6所示，一种高性能陶瓷基板制造成型加工工艺，其使用了一种高性能
陶瓷基板制造成型加工装置，该高性能陶瓷基板制造成型加工装置包括底板1、移动支撑机构2和抛光擦拭机构3，所述的底板1上端面中部通过滑动配合的方式安装有移动支撑机构2，移动支撑机构2左右两侧设置有抛光擦拭机构3，抛光擦拭机构3对称安装在底板1上。
33.使用该高性能陶瓷基板制造成型加工装置加工陶瓷基板时具体包括以下步骤：
34.s1：支撑锁紧：人工将待加工的陶瓷基板放置在滑动基座25上，通过锁紧支链29将其锁紧固定；
35.s2：移动调节：通过移动调节支链28对滑动基座25的水平位置进行调节；
36.s3：基板抛光：当滑动基座25处于抛光架31正下方时，通过抛光支链35对基板表面进行抛光打磨，除去基板表面的凸起和陶瓷渣，增加基板表面的平整度；
37.s4：擦拭清理：抛光打磨处理后，调节滑动基座25水平位置，使其处于擦拭架36下方，通过擦拭支链38将基板表面抛光产生的陶瓷残渣和灰尘擦拭干净；
38.s5：基板收集：基板擦拭清理后，解除对基板的锁紧，人工将表面光滑平整的的陶瓷基板从滑动基座25上取下，统一收集管理。
39.所述的移动支撑机构2包括匚型板21、弹簧支杆22、支撑吸盘23、滑动板24、滑动基座25、橡胶垫26、滑动滚珠27、移动调节支链28和锁紧支链29，所述的底板1上端面中部固定安装有开口向上的匚型板21，匚型板21上端面上从左向右均匀安装有多个弹簧支杆22，弹簧支杆22上端设置有支撑吸盘23，匚型板21上对称开设有滑槽，滑槽内通过滑动配合的方式安装有滑动板24，两滑动板24之间设置有滑动基座25，滑动基座25上端面设置有橡胶垫26，滑动基座25下端面均匀设置有多个滑动滚珠27，滑动基座25中部通过螺纹配合的方式安装有移动调节支链28，滑动基座25上端前后对称设置有锁紧支链29，锁紧支链29通过滑动配合的方式安装在底板1上，具体工作时，匚型板21起到支撑的作用，弹簧支杆22和支撑吸盘23配合可以在对陶瓷基板抛光打磨时提供缓冲弹力，可以防止抛光盘356与陶瓷基板发生刚性碰撞对陶瓷基板表面的绝缘层造成损伤，起到对陶瓷基板保护的作用，滑动板24起到对滑动基座25支撑的作用，可以和移动调节支链28配合使滑动基座25在匚型板21上稳定的移动调节，滑动基板25上端面设置有橡胶垫26起到对放置在滑动基座25上的陶瓷基板保护的作用，滑动滚珠27可以减小滑动基座25与匚型板21底端的摩擦力，有利于增加滑动基座25的滑动效果，使滑动基座25在进行位置调节时运动更加稳定，锁紧支链29可以从前后两侧对陶瓷基板进行夹持锁紧，可以防止陶瓷基板在进行表面抛光打磨时发生偏移的情况出现，有利于提高对陶瓷基板的抛光打磨效果。
40.所述的移动调节支链28包括调节丝杆281、限位螺母282、驱动电机283和三脚架284，所述的滑动基座25中部通过螺纹配合的方式安装有调节丝杆281，调节丝杆281左端设置有限位螺母282，调节丝杆281右端通过花键与驱动电机283的输出轴连接，驱动电机283通过电机座安装在三脚架284上，三脚架284固定安装在底板1上端面中部右侧，具体工作时，三脚架284起到对驱动电机283支撑的作用，通过驱动电机283带动调节丝杆281转动，在螺纹传动原理的作用下，可以实现对滑动基座25进行水平位置调节的目的，限位螺母282起到对滑动基座25限位的作用，可以防止滑动基座25在进行位置调节时，脱离调节丝杆281发生偏离，同时可以防止安装在滑动基座25两侧的滑动板24与匚型板21发生碰撞，有利于提高滑动基座25运动的平稳性。
41.所述的锁紧支链29包括滑动支板291、锁紧螺杆292，转盘293、推进块294和锁紧板
295，所述的底板1上前后对称开设有矩形槽，矩形槽内通过滑动配合的方式安装有滑动支板291，滑动支板291中部通过螺纹配合的方式安装有锁紧螺杆292，锁紧螺杆292远离滑动基座25一端设置有转盘293，锁紧螺杆292靠近滑动基座25一端连接有推进块294，推进块294上安装有锁紧板295，所述的锁紧板295截面呈l型结构，锁紧板295上铺设有橡胶层，且锁紧板295与滑动基座25之间均匀设置有多个伸缩弹簧，具体工作时，滑动支板291起到滑动支撑的作用，通过人工转动转盘293可以使锁紧螺杆292在螺纹推进的原理作用下推动推进块294发生靠近陶瓷基板方向的运动，进而可以挤压锁紧板295与陶瓷基板接触，以此来实现对陶瓷基板从前后两侧进行夹持锁紧的目的，有利于提高陶瓷基板的稳定性，锁紧板295截面呈l型结构可以增加对陶瓷基板的锁紧效果，橡胶层起到对陶瓷基板侧边保护的作用，伸缩弹簧起到连接滑动基座25与锁紧板295的作用，可以在对陶瓷基板夹持锁紧的同时，不影响对滑动基座25水平位置的调节，而且可以增加滑动基座25运动的平稳性，有利于提高对陶瓷基板表面绝缘层的抛光打磨效率。
42.所述的抛光擦拭机构3包括抛光架31、气缸32、抛光板33、匚型架34、抛光支链35、擦拭架36、l型架37和擦拭支链38，所述的底板1上端面左侧固定安装有抛光架31，抛光架31上对称开设有矩形滑槽，矩形滑槽内通过气缸座安装有气缸32，气缸32的活动端上通过法兰连接有抛光板33，抛光板33上端面中部固定安装有开口向下的匚型架34，匚型架34上安装有抛光支链35，所述的底板1上端面右侧固定安装有擦拭架36，擦拭架36截面呈开口向下的匚型结构，擦拭架36前端面中部固定安装有l型架37，l型架37上设置有擦拭支链38，擦拭支链38通过滑动配合的方式安装在擦拭架36上，具体工作时，抛光架31起到支撑的作用，气缸32起到调节抛光板33高度的作用，抛光板33和匚型架34起到对抛光支链35支撑的作用，抛光支链35可以对陶瓷基板表面绝缘层进行多点抛光打磨，可以将陶瓷基板表面凹凸不平的陶瓷残渣和毛刺抛光平整，有利于提高对陶瓷基板的抛光打磨效率，有利于增加陶瓷基板表面的光滑平整度，擦拭架36和l型架37起到对擦拭支链38支撑的作用，擦拭支链38可以及时的将陶瓷基板表面因抛光打磨产生的陶瓷残渣和灰尘及时的擦拭干净，而且可以对陶瓷基板表面往复擦拭，有利于增加陶瓷基板表面的光滑洁净程度。
43.所述的抛光支链35包括抛光电机351、一号传动轮352、二号传动轮353、皮带354、传动杆355和抛光盘356，所述的匚型架34上通过电机座安装有抛光电机351，抛光电机351的输出轴上通过花键安装有一号传动轮352，一号传动轮352前后两侧均匀设置有多个二号传动轮353，二号传动轮353与一号传动轮352之间通过皮带354连接，二号传动轮353与一号传动轮352上均安装有传动杆355，传动杆355下端面上安装有抛光盘356，具体工作时，通过抛光电机351带动一号传动轮352转动，在皮带354连接作用下可以同时带动多个二号传动轮353转动，每个二号传动轮353上均安装有传动杆355，通过二号传动轮353和一号传动轮352转动可以带动安装在传动杆355上的抛光盘356转动，在经过气缸32调节抛光板33的高度，使抛光盘356与陶瓷基板接触，以此来实现对陶瓷基板表面绝缘层进行多点同时打磨抛光的目的，有利于提高对陶瓷基板的抛光打磨效率。
44.所述的擦拭支链38包括转动电机381、传动轴382、凸轮383、活动架384、擦拭海绵385、支撑块386和支撑复位弹簧387，所述的l型架37上通过电机座安装有转动电机381，转动电机381的输出轴上通过联轴器安装有传动轴382，传动轴382上均匀安装有凸轮383，凸轮383下端始终与活动架384接触，活动架384中部安装有擦拭海绵385，活动架384上前后对
称安装有支撑块386，支撑块386下端设置有支撑复位弹簧387，支撑复位弹簧387安装在擦拭架36上，具体工作时，通过转动电机381带动传动轴382转动，进而可以带动安装在传动轴382上的凸轮383转动，凸轮383转动时会挤压活动架384向下运动，活动架384向下运动时，擦拭海绵385会与陶瓷基板表面接触，擦拭海绵385受到压缩可以将陶瓷基板表面因抛光打磨产生的陶瓷残渣和灰尘擦拭清理干净，支撑块386起到对活动架384支撑的作用，支撑复位弹簧387起到对支撑块支撑的作用，同时可以和凸轮383配合实现活动架384上下往复运动，有利于将陶瓷基板表面反复擦拭干净，有利于增加陶瓷基板表面的洁净度。
45.本领域技术人员应该理解，本领域技术人员结合现有技术以及上述实施例可以实现所述变化例，在此不予赘述。这样的变化例并不影响本发明的实质内容，在此不予赘述。
46.以上对本发明的较佳实施例进行了描述。需要理解的是，本发明并不局限于上述特定实施方式，其中未尽详细描述的设备和结构应该理解为用本领域中的普通方式予以实施；任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本发明技术方案作出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例，这并不影响本发明的实质内容。因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰，均仍属于本发明技术方案保护的范围内。

技术特征：
1.一种高性能陶瓷基板制造成型加工工艺，其使用了一种高性能陶瓷基板制造成型加工装置，该高性能陶瓷基板制造成型加工装置包括底板(1)、移动支撑机构(2)和抛光擦拭机构(3)，其特征在于：所述的底板(1)上端面中部通过滑动配合的方式安装有移动支撑机构(2)，移动支撑机构(2)左右两侧设置有抛光擦拭机构(3)，抛光擦拭机构(3)对称安装在底板(1)上，其中：使用该高性能陶瓷基板制造成型加工装置加工陶瓷基板时具体包括以下步骤：s1：支撑锁紧：人工将待加工的陶瓷基板放置在滑动基座(25)上，通过锁紧支链(29)将其锁紧固定；s2：移动调节：通过移动调节支链(28)对滑动基座(25)的水平位置进行调节；s3：基板抛光：当滑动基座(25)处于抛光架(31)正下方时，通过抛光支链(35)对基板表面进行抛光打磨，除去基板表面的凸起和陶瓷渣，增加基板表面的平整度；s4：擦拭清理：抛光打磨处理后，调节滑动基座(25)水平位置，使其处于擦拭架(36)下方，通过擦拭支链(38)将基板表面抛光产生的陶瓷残渣和灰尘擦拭干净；s5：基板收集：基板擦拭清理后，解除对基板的锁紧，人工将表面光滑平整的的陶瓷基板从滑动基座(25)上取下，统一收集管理；所述的移动支撑机构(2)包括匚型板(21)、弹簧支杆(22)、支撑吸盘(23)、滑动板(24)、滑动基座(25)、橡胶垫(26)、滑动滚珠(27)、移动调节支链(28)和锁紧支链(29)，所述的底板(1)上端面中部固定安装有开口向上的匚型板(21)，匚型板(21)上端面上从左向右均匀安装有多个弹簧支杆(22)，弹簧支杆(22)上端设置有支撑吸盘(23)，匚型板(21)上对称开设有滑槽，滑槽内通过滑动配合的方式安装有滑动板(24)，两滑动板(24)之间设置有滑动基座(25)，滑动基座(25)上端面设置有橡胶垫(26)，滑动基座(25)下端面均匀设置有多个滑动滚珠(27)，滑动基座(25)中部通过螺纹配合的方式安装有移动调节支链(28)，滑动基座(25)上端前后对称设置有锁紧支链(29)，锁紧支链(29)通过滑动配合的方式安装在底板(1)上；所述的抛光擦拭机构(3)包括抛光架(31)、气缸(32)、抛光板(33)、匚型架(34)、抛光支链(35)、擦拭架(36)、l型架(37)和擦拭支链(38)，所述的底板(1)上端面左侧固定安装有抛光架(31)，抛光架(31)上对称开设有矩形滑槽，矩形滑槽内通过气缸座安装有气缸(32)，气缸(32)的活动端上通过法兰连接有抛光板(33)，抛光板(33)上端面中部固定安装有开口向下的匚型架(34)，匚型架(34)上安装有抛光支链(35)，所述的底板(1)上端面右侧固定安装有擦拭架(36)，擦拭架(36)截面呈开口向下的匚型结构，擦拭架(36)前端面中部固定安装有l型架(37)，l型架(37)上设置有擦拭支链(38)，擦拭支链(38)通过滑动配合的方式安装在擦拭架(36)上。2.根据权利要求1所述的一种高性能陶瓷基板制造成型加工工艺，其特征在于：所述的移动调节支链(28)包括调节丝杆(281)、限位螺母(282)、驱动电机(283)和三脚架(284)，所述的滑动基座(25)中部通过螺纹配合的方式安装有调节丝杆(281)，调节丝杆(281)左端设置有限位螺母(282)，调节丝杆(281)右端通过花键与驱动电机(283)的输出轴连接，驱动电机(283)通过电机座安装在三脚架(284)上，三脚架(284)固定安装在底板(1)上端面中部右侧。3.根据权利要求1所述的一种高性能陶瓷基板制造成型加工工艺，其特征在于：所述的
锁紧支链(29)包括滑动支板(291)、锁紧螺杆(292)，转盘(293)、推进块(294)和锁紧板(295)，所述的底板(1)上前后对称开设有矩形槽，矩形槽内通过滑动配合的方式安装有滑动支板(291)，滑动支板(291)中部通过螺纹配合的方式安装有锁紧螺杆(292)，锁紧螺杆(292)远离滑动基座(25)一端设置有转盘(293)，锁紧螺杆(292)靠近滑动基座(25)一端连接有推进块(294)，推进块(294)上安装有锁紧板(295)。4.根据权利要求1所述的一种高性能陶瓷基板制造成型加工工艺，其特征在于：所述的抛光支链(35)包括抛光电机(351)、一号传动轮(352)、二号传动轮(353)、皮带(354)、传动杆(355)和抛光盘(356)，所述的匚型架(34)上通过电机座安装有抛光电机(351)，抛光电机(351)的输出轴上通过花键安装有一号传动轮(352)，一号传动轮(352)前后两侧均匀设置有多个二号传动轮(353)，二号传动轮(353)与一号传动轮(352)之间通过皮带(354)连接，二号传动轮(353)与一号传动轮(352)上均安装有传动杆(355)，传动杆(355)下端面上安装有抛光盘(356)。5.根据权利要求1所述的一种高性能陶瓷基板制造成型加工工艺，其特征在于：所述的擦拭支链(38)包括转动电机(381)、传动轴(382)、凸轮(383)、活动架(384)、擦拭海绵(385)、支撑块(386)和支撑复位弹簧(387)，所述的l型架(37)上通过电机座安装有转动电机(381)，转动电机(381)的输出轴上通过联轴器安装有传动轴(382)，传动轴(382)上均匀安装有凸轮(383)，凸轮(383)下端始终与活动架(384)接触，活动架(384)中部安装有擦拭海绵(385)，活动架(384)上前后对称安装有支撑块(386)，支撑块(386)下端设置有支撑复位弹簧(387)，支撑复位弹簧(387)安装在擦拭架(36)上。6.根据权利要求3所述的一种高性能陶瓷基板制造成型加工工艺，其特征在于：所述的锁紧板(295)截面呈l型结构，锁紧板(295)上铺设有橡胶层，且锁紧板(295)与滑动基座(25)之间均匀设置有多个伸缩弹簧。
技术总结
本发明涉及一种高性能陶瓷基板制造成型加工工艺，其使用了一种高性能陶瓷基板制造成型加工装置，该高性能陶瓷基板制造成型加工装置包括底板、移动支撑机构和抛光擦拭机构。本发明可以解决现有陶瓷基板成型加工装置在对陶瓷基板表面研磨抛光前不能对其稳定的夹持锁紧，导致陶瓷基板在抛光时发生偏移，影响陶瓷基板的抛光打磨效率和抛光效果的问题，还可以解决现有陶瓷基板成型加工装置，在对陶瓷基板抛光时不能同时对基板多点抛光，抛光效率低，不能对陶瓷基板弹性支撑抛光时容易对绝缘层造成损伤，对陶瓷基板抛光后不能将陶瓷基板表面抛光产生的陶瓷残渣和灰尘及时的擦拭干净，影响陶瓷基板表面的光滑平整度的问题。影响陶瓷基板表面的光滑平整度的问题。影响陶瓷基板表面的光滑平整度的问题。


技术研发人员：王亓会
受保护的技术使用者：王亓会
技术研发日：2021.04.02
技术公布日：2021/6/29