本文中提供的实施例公开了一种多束装置，并且更具体地，公开了使用交叉模式进行缺陷的电压对比度检查的具有增强的束波探测电流的多束检查装置。
背景技术：
1、在集成电路(ic)的制造过程中，对未完成或已完成的电路组件进行检查，以确保它们是根据设计而制造的并且没有缺陷。可以使用检查系统，该检查系统利用光学显微镜或带电粒子(例如，电子)束显微镜，诸如扫描电子显微镜(sem)。随着ic组件的物理尺寸不断缩小，缺陷检测的准确性和良率变得更加重要。尽管可以使用多个电子束来增加生产量，但是每个束波的探测电流可能不足以用于vnand或3d-nand结构中的电压对比度检查，这使得检查装置效率低下，或者在某些情况下不足以用于其期望目的。
技术实现思路
1、本公开的一个方面涉及一种用于检查样品的多带电粒子束装置。该装置可以包括被配置为生成沿着主光轴的多个带电粒子束的带电粒子源；被配置为聚焦多个带电粒子束以在交叉点处形成束交叉的第一会聚透镜；以及被配置为准直所聚焦的多个带电粒子束的第二会聚透镜，其中交叉点相对于主光轴形成在第一会聚透镜与第二会聚透镜之间，并且其中交叉点的位置的调节引起多个带电粒子束的束尺寸的调节。
2、本公开的另一方面涉及一种使用多带电粒子束装置检查样品的方法。该方法可以包括从带电粒子源生成沿着主光轴的多个带电粒子束；使用第一会聚透镜聚焦多个带电粒子束以在交叉点处形成束交叉；调节交叉点的位置以调节多个带电粒子束的束尺寸；以及使用第二会聚透镜准直所聚焦的多个带电粒子束，其中交叉点相对于主光轴形成在第一会聚透镜与第二会聚透镜之间。
3、本公开的另一方面涉及一种存储指令集的非暂态计算机可读介质，该指令集能够由多带电粒子束装置的一个或多个处理器执行以引起多带电粒子束装置执行方法。该方法可以包括激活带电粒子源以生成沿着主光轴的多个带电粒子束；聚焦多个带电粒子束以在交叉点处形成束交叉；调节交叉点的位置以调节多个带电粒子束的束尺寸；以及准直所聚焦的多个带电粒子束，其中交叉点沿着主光轴形成在会聚透镜组件的第一会聚透镜与第二会聚透镜之间。
4、本公开的另一方面涉及一种多带电粒子束装置。该装置可以包括被配置为生成沿着主光轴的多个带电粒子束的带电粒子源；被配置为聚焦多个带电粒子束以形成束交叉的第一会聚透镜；以及被配置为准直所聚焦的多个带电粒子束的第二会聚透镜，其中束交叉相对于主光轴形成在第一会聚透镜与第二会聚透镜之间，并且其中所准直的多个带电粒子束用于利用带电粒子来泛射样品的表面并且检查样品的泛射的表面。
5、本公开的另一方面涉及一种使用多带电粒子束装置检查样品的方法。该方法可以包括从带电粒子源生成沿着主光轴的多个带电粒子束；使用第一会聚透镜聚焦多个带电粒子束以在交叉点处形成束交叉；使用第二会聚透镜准直所聚焦的多个带电粒子束；利用来自所准直的多个带电粒子束的带电粒子中的一部分带电粒子来泛射样品的表面；以及使用带电粒子中的该部分带电粒子来检查泛射的表面。
6、本公开的另一方面涉及一种存储指令集的非暂态计算机可读介质，该指令集能够由多带电粒子束装置的一个或多个处理器执行以引起多带电粒子束装置执行方法。该方法可以包括从带电粒子源生成沿着主光轴的多个带电粒子束；使用第一会聚透镜聚焦多个带电粒子束以形成束交叉；使用第二会聚透镜准直所聚焦的多个带电粒子束；利用来自所准直的多个带电粒子束的带电粒子中的一部分带电粒子来泛射样品的表面；以及使用带电粒子中的该部分带电粒子来检查泛射的表面。
7、通过以下结合附图的描述，本公开的实施例的其他优点将变得很清楚，其中通过说明和示例的方式阐述了本发明的某些实施例。
1.一种多带电粒子束装置，包括：
2.根据权利要求1所述的多带电粒子束装置，其中所述第一会聚透镜包括第一静电透镜或第一电磁透镜。
3.根据权利要求1所述的多带电粒子束装置，其中所述交叉点的位置是基于所述第一会聚透镜的激励而可调节的。
4.根据权利要求1所述的多带电粒子束装置，其中所述第一会聚透镜沿着第一主平面设置，所述第一主平面基本垂直于所述主光轴。
5.根据权利要求4所述的多带电粒子束装置，其中所述交叉点的位置是沿着所述主光轴基于所述第一主平面的位置而可调节的。
6.根据权利要求1所述的多带电粒子束装置，其中所述第二会聚透镜包括第二静电透镜或第二电磁透镜。
7.根据权利要求1所述的多带电粒子束装置，其中所述交叉点的位置是基于所述第一会聚透镜和所述第二会聚透镜的组合激励而可调节的。
8.根据权利要求1所述的多带电粒子束装置，其中所述第二会聚透镜的激励基于所述第一会聚透镜的激励而确定。
9.根据权利要求1所述的多带电粒子束装置，其中所述第二会聚透镜沿着第二主平面设置，所述第二主平面基本垂直于所述主光轴。
10.根据权利要求9所述的多带电粒子束装置，其中所述交叉点的位置是基于相对于所述第一主平面的位置的所述第二主平面的位置而可调节的。
11.根据权利要求1所述的多带电粒子束装置，其中所述第一会聚透镜和所述第二会聚透镜中的每一者包括静电透镜。
12.根据权利要求1所述的多带电粒子束装置，其中所述第一会聚透镜和所述第二会聚透镜中的一者包括静电透镜，并且另一者包括电磁透镜。
13.根据权利要求1所述的多带电粒子束装置，其中所述第一会聚透镜和所述第二会聚透镜中的每一者包括电磁透镜。
14.根据权利要求1所述的多带电粒子束装置，其中所述第二会聚透镜还被配置为将所述带电粒子束聚焦到束限制孔径阵列上，所述束限制孔径阵列位于所述第二会聚透镜的下游。
15.一种非暂态计算机可读介质，存储指令集，所述指令集能够由多带电粒子束装置的一个或多个处理器执行，以引起所述带电粒子束装置执行方法，所述方法包括：
