本技术涉及一种基板处理装置。
背景技术：
1、专利文献1公开有一种流体保存、分配系统，该流体保存、分配系统具备：容器，其具有内容积；所述内容积内的内衬，其以利用零或大致零的顶隙构造封入液体介质的方式构成；以及分配组件，其是与所述容器卡合的结构，以便在分配作业中从所述内衬抽取出液体介质。该流体保存、分配系统具备内置流量计，该内置流量计构成为，监视在分配作业中从所述内衬所抽取出的所述液体介质，若产生空的状态或大致空的状态，则生成与该状态相关的输出。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本特开2015-163401号公报
技术实现思路
1、实用新型要解决的问题
2、本实用新型的技术不将配置有用于积存处理液的瓶的液积存部新设置于基板处理装置的外部，就会使能够使用于基板的液处理的上述瓶的个数增加。
3、用于解决问题的方案
4、(1)一种基板处理装置，其具有：
5、承载区块，收纳有基板的承载件输入该承载区块；
6、处理区块，其设置有相对于从所述承载区块输送的所述基板供给处理液而进行液处理的液处理模块；以及
7、转接区块，所述基板从所述处理区块向该转接区块输送，
8、所述转接区块具有液积存部，该液积存部配置有用于积存所述处理液的瓶，
9、所述承载区块具有使从所述液积存部供给来的所述处理液向所述液处理模块送液的送液部，
10、所述送液部具备：
11、过滤器，其用于过滤从所述液积存部送液的所述处理液；
12、和第1泵，其朝向所述液处理模块加压输送所述处理液。
13、(2)根据(1)所述的基板处理装置，其中，
14、所述液积存部设置于能从所述转接区块拉出的瓶搬运台车。
15、(3)根据(2)所述的基板处理装置，其中，
16、所述液积存部配置于所述转接区块的进深方向上的一端部或两端部。
17、(4)根据(3)所述的基板处理装置，其中，
18、在所述转接区块的内部具有所述基板的输送区域，
19、在所述输送区域与所述瓶搬运台车之间设置有用于供作业人员相对于所述输送区域进入退出的进入退出门。
20、(5)根据(4)所述的基板处理装置，其中，
21、在所述液积存部的上方配置有进行所述基板的周边曝光处理或曝光后清洗处理的处理模块。
22、(6)根据(5)所述的基板处理装置，其中，
23、所述瓶搬运台车的所述进深方向上的里侧端部位于比所述处理模块的所述进深方向上的里侧端部靠近前侧的位置。
24、(7)根据(2)～(6)中任一项所述的基板处理装置，其中，
25、所述基板处理装置具备控制所述处理液从所述液积存部向所述送液部供给的供给动作的控制部，
26、所述瓶搬运台车具有：
27、第2泵，其从所述液积存部朝向所述送液部加压输送所述处理液；
28、罩体，其覆盖所述第2泵的收纳区域；以及
29、检测部，其检测所述罩体的安装状态；
30、所述控制部构成为，在由所述检测部检测到所述罩体的非安装状态时，执行使所述处理液的供给停止的控制。
31、(8)根据(2)～(6)中任一项所述的基板处理装置，其中，
32、在具有所述液积存部的所述瓶搬运台车的上方配置有其他液积存部。
33、(9)根据(1)～(8)中任一项所述的基板处理装置，其中，
34、所述液处理模块和所述送液部分别设置有多个，
35、在多个所述液处理模块分别设置有用于喷出所述处理液的喷出部，
36、从各喷出部到向该各喷出部供给抗蚀剂液的供给路径上的所述过滤器为止的配管长度均是同一长度。
37、(10)根据(1)～(9)中任一项所述的基板处理装置，其中，
38、所述基板处理装置具备送液单元，所述送液单元包括所述送液部和电气安装箱，该电气安装箱收纳有用于使所述送液部工作的电气部件，
39、在所述送液单元，
40、所述电气安装箱在所述承载区块的进深方向上配置于比所述送液部靠近前侧的位置，
41、设置有用于使所述电气安装箱向所述进深方向上的近前侧转动的机构。
42、(11)根据(1)～(9)中任一项所述的基板处理装置，其中，
43、所述基板处理装置具备送液单元，所述送液单元包括：所述送液部；和电气安装箱，该电气安装箱收纳有用于使所述送液部工作的电气部件，
44、在所述送液单元，
45、所述电气安装箱配置于所述送液部的上方，
46、设置有使所述电气安装箱向所述承载区块的进深方向上的近前侧滑动移动的机构。
47、(12)根据(1)～(11)中任一项所述的基板处理装置，其中，
48、所述基板处理装置具备送液单元，所述送液单元包括：所述送液部；和电气安装箱，该电气安装箱收纳有用于使所述送液部工作的电气部件，
49、在所述送液单元，
50、设置有使所述送液单元向所述承载区块的进深方向上的近前侧滑动移动的机构。
51、实用新型的效果
52、根据本实用新型，不将配置有用于积存处理液的瓶的液积存部新设置于基板处理装置的外部，就能够使可使用于基板的液处理的上述瓶的个数增加。
1.一种基板处理装置，其特征在于，
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，
5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，
6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，
7.根据权利要求2～6中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
8.根据权利要求2～6中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
9.根据权利要求1～6中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
10.根据权利要求1～6中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
11.根据权利要求1～6中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
12.根据权利要求1～6中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
