成膜装置的制作方法

专利2025-06-12  9


本发明涉及一种一边使保持在载体上的基板在多个腔室之间依次输送一边进行成膜处理的成膜装置。


背景技术:

1、近年来,磁记录装置的适用范围明显增大,其重要性增加,并且对于在这些装置中使用的磁记录介质,正在谋求其记录密度的明显提高。

2、作为磁记录介质的制造方法,例如有在非磁性基板上形成软磁性层、中间层、记录磁性层等之后,在其上形成保护层的方法。

3、在该制造方法的情况下,优选尽量使用1个成膜装置连续地进行,以防止在处理时基板被污染,并且减少处理工序等,使制造工序效率化和产品成品率良好,提高磁记录介质的生产率。

4、因此,在制造这样的磁记录介质时,提出了使用在线式成膜装置,一边使保持有多张非磁性基板的载体在多个腔室之间依次输送,一边在这些非磁性基板的两面依次成膜磁性层等。

5、作为这样的在线式成膜装置,例如,在专利文献1中公开了将载体依次输送到沿多边形状的输送路径配置的多个真空室的结构的在线式成膜装置。在专利文献2中公开了一种具有将载体依次输送到沿圆形状的输送路径配置的多个真空室的结构的在线式成膜装置。

6、【现有技术文献】

7、【专利文献】

8、【专利文献1】日本特开平8-274142号公报

9、【专利文献2】日本特表2006-517324号公报


技术实现思路

1、【发明所要解决的课题】

2、在线式成膜装置中,通过使保持基板的载体在多个腔室之间依次输送,从而在基板表面形成多层膜。该载体的输送机构使用多个旋转部件。但是,存在的问题是,在该旋转部件和载体的接触部产生尘屑,这成为成膜处理的产品的污染原因。

3、本发明的一个方式是为了解决这样的问题而提出的,其目的在于提供一种能够抑制在输送机构中产生尘屑的成膜装置。

4、【解决课题的手段】

5、本发明提供了以下手段。

6、[1]一种成膜装置(1),其中,

7、具有:进行成膜处理的多个腔室(5);

8、在所述多个腔室(5)内保持作为成膜对象的基板(9)的载体(7);以及

9、将所述载体(7)在所述多个腔室(5)之间依次输送的输送机构(11),

10、所述载体(7)具有用于在所述载体(7)的输送时从下方支承所述载体(7)的支承面(42),

11、所述支承面(42)与输送方向平行设置,

12、在所述多个腔室(5)内设置有多个旋转部件(51),该旋转部件在所述载体(7)的输送时与所述支承面(42)相接,与输送方向平行地设置,

13、所述旋转部件(51)由磁性材料构成,

14、在所述旋转部件(51)的周围设有磁体(52)。

15、[2]根据[1]所述的成膜装置(1),所述磁体(52)的上端(54),相对于所述旋转部件(51)的最上部(53)以所述旋转部件(51)的直径的1/3以上的量设置于下方。

16、[3]根据[1]所述的成膜装置(1),还包括:旋转部件单元(50),由与所述输送方向平行地配置成一列的多个所述旋转部件(51)构成;和磁体单元(56),包括所述磁体(52)。

17、[4]根据[3]所述的成膜装置(1),所述磁体单元(56)包含非磁性材料(55),一个或多个所述磁体(52)经由所述非磁性材料(55)安装在所述旋转部件单元(50)上。

18、【发明的效果】

19、本发明的一个方式能够抑制输送机构中产生尘屑。根据本发明的一个方式,可以减少由尘屑引起的产品的污染,并且可以提高产品的成品率。



技术特征:

1.一种成膜装置,其中,

2.根据权利要求1所述的成膜装置,其中,

3.根据权利要求1所述的成膜装置,其中,

4.根据权利要求3所述的成膜装置,其中,


技术总结
本发明提供一种能够抑制在输送机构中产生尘屑的成膜装置。根据本发明的成膜装置,具有:进行成膜处理的多个腔室(5);在所述多个腔室(5)内保持作为成膜对象的基板(9)的载体(7);以及将所述载体(7)在所述多个腔室(5)之间依次输送的输送机构(11),所述载体(7)具有用于在所述载体(7)的输送时从下方支承所述载体(7)的支承面(42),所述支承面(42)与输送方向平行设置,在所述多个腔室(5)内设置有多个旋转部件(51),该旋转部件在所述载体(7)的输送时与所述支承面(42)相接,与输送方向平行地设置,所述旋转部件(51)由磁性材料构成,在所述旋转部件(51)的周围设有磁体(52)。

技术研发人员:田村千寻
受保护的技术使用者:株式会社力森诺科
技术研发日:
技术公布日:2024/6/26
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