本发明涉及光刻胶喷涂，具体的，涉及一种光刻胶稳定喷涂装置。
背景技术：
1、光刻胶，又称光致抗蚀剂，是一种对光或其他形式辐射敏感的特殊树脂材料，需要喷涂光刻胶的产品主要集中在微电子和相关高科技产业中，特别是那些需要通过光刻工艺在基底材料上形成微米甚至纳米级别精细图案的器件或组件，因此光刻胶在微电子技术中扮演着关键角色，其性能直接影响半导体器件的集成度、尺寸精度和生产效率。
2、晶圆、芯片等产品制造中，需要通过在半导体元件上喷涂光刻胶以为下一步刻蚀做好工艺准备，喷涂时通常使用专门的光刻胶涂布设备，也称为涂胶机。这类设备设计用于在晶圆表面均匀且精确地涂覆一层光刻胶。其中，超声波喷涂技术因其能提供均匀度高、对微结构包裹性好的涂层而成为一种先进的涂覆方法。例如，一些专业厂商如驰飞超声波和东方金荣超声提供的超声波喷涂设备就被用于半导体硅片的光刻胶涂覆。
3、以晶圆为例，其喷涂光刻胶的步骤是：
4、1、晶圆装载。晶圆通常以晶舟、晶圆盒或晶圆卡盘等形式存放和运输，上料时，操作人员将装有晶圆的容器从外部洁净室搬运至涂胶机附近的洁净工作台。
5、2、容器对接。涂胶机配备自动化的晶圆装载系统，如机械臂或传送装置。操作人员将晶圆容器与涂胶机的接口对接，确保密封良好，防止洁净度下降。
6、3、自动取片。设备内部的机械手或传送机构根据预设程序，从晶圆容器中逐一取出晶圆。这个过程可能包括识别晶圆位置、夹持晶圆边缘、平稳提升晶圆等动作，确保晶圆在整个过程中不受物理损伤。
7、4、定位与装载。取出的晶圆被精确地放置到涂胶机内部的载片台上。载片台具有精密的定位功能，确保晶圆中心与涂胶机的涂覆区域精确对准。载片台还具备温控功能，以维持晶圆在适宜的温度下进行涂胶。
8、5、真空吸附。载片台表面通常设有真空吸孔，通过抽真空使晶圆牢固地吸附在载片台上，防止在涂胶过程中因离心力等因素导致晶圆移动或脱落。
9、6、涂胶开始。 完成晶圆装载和定位后，涂胶机开始进行光刻胶的涂覆。涂胶方式根据设备类型可能包括旋涂、滚涂、喷雾涂布、超声波喷涂等。在涂覆过程中，设备监控涂胶参数（如涂覆速率、旋转速度、温度等），确保涂胶均匀性和厚度符合工艺要求。
10、7、涂胶结束与卸载。涂胶完成后，晶圆被释放并由机械手或传送机构送回原容器或转移到下一步工艺设备中。整个过程需确保晶圆表面新涂覆的光刻胶不受污染或损坏。
11、上述操作步骤中，通常需要操作人员人工手动将装有晶圆的容器从外部洁净室搬运至涂胶机附近的洁净工作台，这一步骤一是会浪费人力，二是人工手动搬运易出现意外情况，造成晶圆受损。因此为提高晶圆的转运效率，进而稳定的进行喷涂，需要对现有的喷涂设备进行改进。
技术实现思路
1、本发明提出一种光刻胶稳定喷涂装置，解决了相关技术中光刻胶喷涂时，人工手动转运晶圆效率低下且易使晶圆受损的问题。
2、本发明的技术方案如下：
3、一种光刻胶稳定喷涂装置，用于对元件进行喷涂，包括，
4、存放转运机构，所述存放转运机构包括，
5、底座；
6、转盘，转动设置在所述底座上，所述转盘上具有间隔分布的一圈通孔；
7、托板，有若干个，分别升降设置在若干个所述通孔的上方，所述托板上用于存放所述元件；
8、夹持件，相对于所述底座升降且移动设置，用于夹持所述元件进行转运；
9、运输机构，位于所述存放转运机构的一侧，用于运输所述存放转运机构转运来的所述元件；
10、喷涂机，位于所述运输机构的一侧，用于喷涂所述元件。
11、作为进一步的技术方案，所述存放转运机构还包括，
12、导柱，有若干个，每个所述通孔外围均设置有多个所述导柱，所述托板套设在所述导柱上进行升降，多个所述导柱和所述托板形成限位空间，所述限位空间用于对于存放的所述元件进行限位；
13、线性驱动件，设置所述底座上，位于所述夹持件下方，所述线性驱动件的输出端穿过所述通孔驱动所述托板升降。
14、作为进一步的技术方案，所述运输机构包括，
15、机架，位于所述底座和所述喷涂机之间；
16、输送带，循环输送设置在所述机架上；
17、隔板，有若干个，间隔设置在所述输送带上，相邻的两个所述隔板之间用于放置所述元件。
18、作为进一步的技术方案，还包括，
19、锁紧机构，有若干个，分别设置在若干个所述隔板上，用于夹紧所述元件。
20、作为进一步的技术方案，所述锁紧机构包括，
21、外壳，设置在所述隔板上；
22、锁紧件一，移动设置在所述外壳内；
23、锁紧件二，移动设置在所述外壳内，所述锁紧件二的移动方向和所述锁紧件一的移动方向相反，所述锁紧件一和所述锁紧件二用于配合夹紧或松开所述元件。
24、作为进一步的技术方案，所述锁紧机构还包括，
25、导向件，设置在所述外壳内，所述锁紧件一和所述锁紧件二均移动设置在所述导向件上；
26、弹性件一，一端作用于所述外壳，另一端作用于所述锁紧件一，用于提供所述锁紧件一靠近所述锁紧件一的力；
27、弹性件二，一端作用于所述外壳，另一端作用于所述锁紧件二，用于提供所述锁紧件二远离所述锁紧件一的力；
28、链轮，相对于所述外壳转动设置，位于所述外壳外侧；
29、链条，一端设置在所述锁紧件一上，另一端设置在所述锁紧件二上，所述链轮转动后用于驱动所述链条带动所述锁紧件一和所述锁紧件二彼此远离。
30、作为进一步的技术方案，还包括，
31、转轴，转动设置在所述外壳上，所述链轮设置所述转轴上；
32、齿轮，设置在所述转轴上，位于所述链轮的一侧；
33、齿条，设置在所述机架上，所述齿轮与所述齿条抵接后，带动所述转轴转动。
34、作为进一步的技术方案，所述齿条至少有两个，分别位于所述机架上处于所述输送带的两端的位置。
35、作为进一步的技术方案，所述锁紧件一具有锁紧部一。
36、作为进一步的技术方案，所述锁紧件二具有锁紧部二。
37、本发明的工作原理及有益效果为：
38、1、本发明中，人工手动转运晶圆效率低下且易使晶圆受损的问题，设计了存放转运机构和运输机构来代替人工手动装载元件，可持续供给晶圆盒，大大节省了人力，且减少了意外情况的出现，还提高了喷涂的效率。
39、2、本发明中，锁紧机构可使得晶圆盒在输送带上平稳输送，不会意外晃动倾倒，且在喷涂时，大大降低了晶圆盒晃动不稳的情况，保证了喷涂的持续性。
1.一种光刻胶稳定喷涂装置，用于对元件（1）进行喷涂，其特征在于，包括，
2.根据权利要求1所述的一种光刻胶稳定喷涂装置，其特征在于，所述存放转运机构（2）还包括，
3.根据权利要求1或2所述的一种光刻胶稳定喷涂装置，其特征在于，所述运输机构（8）包括，
4.根据权利要求3所述的一种光刻胶稳定喷涂装置，其特征在于，还包括，
5.根据权利要求4所述的一种光刻胶稳定喷涂装置，其特征在于，所述锁紧机构（16）包括，
6.根据权利要求5所述的一种光刻胶稳定喷涂装置，其特征在于，所述锁紧机构（16）还包括，
7.根据权利要求6所述的一种光刻胶稳定喷涂装置，其特征在于，还包括，
8.根据权利要求7所述的一种光刻胶稳定喷涂装置，其特征在于，所述齿条（27）至少有两个，分别位于所述机架（13）上处于所述输送带（14）的两端的位置。
9.根据权利要求5-8所述的一种光刻胶稳定喷涂装置，其特征在于，所述锁紧件一（18）具有锁紧部一（28）。
10.根据权利要求5-8所述的一种光刻胶稳定喷涂装置，其特征在于，所述锁紧件二（19）具有锁紧部二（29）。
