一种散热结构的制作方法

专利2025-06-29  3


本技术涉及散热器的,尤其涉及一种散热结构。


背景技术:

1、现有技术中,散热器通常设置多个平行的散热翅片,并在散热翅片上安装上散热风扇,加大空气的流通,带走散热翅片上的热量,虽然能够提高散热的效率,但是风扇吹出的风会往四周扩散,使得散热风扇吹出的风利用率不高,导致散热器的散热效果并不理想,基于上述问题,有必要设计一种散热效果较好的散热结构。


技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种散热结构,其旨在解决现有的散热结构散热效果较差的技术问题。

2、为解决上述技术问题,提供一种散热结构,包括:

3、散热主体,包括主体部以及从所述主体部延伸出的多个散热翅片,多个所述散热翅片之间形成有间隙;

4、遮挡件,所述遮挡件用于封盖所述间隙以形成散热通道,所述散热通道与所述散热翅片的延伸方向相同;

5、风扇,所述风扇设于所述散热主体和/或所述遮挡件上。

6、进一步地,所述遮挡件包括遮挡部、以及与所述遮挡部连接的固定部,所述固定部与所述散热翅片连接,所述遮挡部与所述散热翅片抵接,所述风扇设置于所述遮挡部上。

7、进一步地,所述遮挡件抵接于所述散热翅片且背离所述主体部的一端,所述风扇设置于所述遮挡件背离所述散热主体的一端,所述遮挡部上设置有通风口。

8、进一步地,所述散热结构还包括固定件,所述固定部通过所述固定件连接于所述散热翅片上。

9、进一步地,所述固定部远离所述遮挡部的一端设置有凸起,所述散热翅片上形成有与所述凸起适配的凹槽,且所述固定部能够发生弹性形变。

10、进一步地,所述固定部上形成有形变槽以使所述形变槽位置的劲度系数小于所述固定部的其他部分。

11、进一步地,所述形变槽设置于靠近所述遮挡部的位置且背离所述凸起的一端。

12、进一步地,所述风扇安装于所述遮挡件且靠近所述散热翅片的一侧,所述风扇与所述散热翅片之间具有间隔。

13、进一步地,所述散热通道设有多个且相互平行设置。

14、进一步地,所述散热通道从所述散热结构的第一端延伸至第二端,且所述第一端与所述第二端相对设置。

15、实施本实用新型实施例,将具有如下有益效果:

16、本实施例中的散热结构,由于设置遮挡件,将散热翅片封盖住,从而让散热翅片与遮挡件之间形成散热通道,且散热通道与散热翅片的延伸方向相同,使得风扇吹出的风能够沿着散热通道流动,也即是说,风扇吹出的风能够沿着散热翅片的延伸方向流动,从而增大了气流与散热翅片的接触面积,使得散热风扇吹出的风利用率较高,克服现有的散热结构散热效果较差的技术问题。



技术特征:

1.一种散热结构,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的散热结构,其特征在于,所述遮挡件包括遮挡部、以及与所述遮挡部连接的固定部,所述固定部与所述散热翅片连接,所述遮挡部与所述散热翅片抵接,所述风扇设置于所述遮挡部上。

3.根据权利要求2所述的散热结构,其特征在于,所述遮挡件抵接于所述散热翅片且背离所述主体部的一端,所述风扇设置于所述遮挡件背离所述散热主体的一端,所述遮挡部上设置有通风口。

4.根据权利要求3所述的散热结构,其特征在于,所述散热结构还包括固定件,所述固定部通过所述固定件连接于所述散热翅片上。

5.根据权利要求3所述的散热结构,其特征在于,所述固定部远离所述遮挡部的一端设置有凸起,所述散热翅片上形成有与所述凸起适配的凹槽,且所述固定部能够发生弹性形变。

6.根据权利要求5所述的散热结构,其特征在于,所述固定部上形成有形变槽以使所述形变槽位置的劲度系数小于所述固定部的其他部分。

7.根据权利要求6所述的散热结构,其特征在于,所述形变槽设置于靠近所述遮挡部的位置且背离所述凸起的一端。

8.根据权利要求2所述的散热结构,其特征在于,所述风扇安装于所述遮挡件且靠近所述散热翅片的一侧,所述风扇与所述散热翅片之间具有间隔。

9.根据权利要求1-7任一项所述的散热结构,其特征在于,所述散热通道设有多个且相互平行设置。

10.根据权利要求1-7任一项所述的散热结构,其特征在于,所述散热通道从所述散热结构的第一端延伸至第二端,且所述第一端与所述第二端相对设置。


技术总结
本技术涉及一种散热结构,包括散热主体、遮挡件和风扇。散热主体包括主体部以及从主体部延伸出的多个散热翅片,多个散热翅片之间形成有间隙;遮挡件用于封盖间隙以形成散热通道,散热通道与散热翅片的延伸方向相同;风扇设于散热主体和/或遮挡件上。本申请的散热结构,由于设置遮挡件,将散热翅片封盖住,从而让散热翅片与遮挡件之间形成散热通道,且散热通道与散热翅片的延伸方向相同,使得风扇吹出的风能够沿着散热通道流动,也即是说,风扇吹出的风能够沿着散热翅片的延伸方向流动,从而增大了气流与散热翅片的接触面积,使得散热风扇吹出的风利用率较高,克服现有的散热结构散热效果较差的技术问题。

技术研发人员:姚明,吴家敏
受保护的技术使用者:深圳市鼎拓达机电有限公司
技术研发日:20231128
技术公布日:2024/6/26
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