本技术涉及显示，具体涉及一种显示基板、显示面板、显示装置及测试模组。
背景技术：
1、有机发光二极管(organic light emitting diode，oled)以及基于发光二极管(light emitting diode，led)等技术的平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，而被广泛的应用于手机、电视、笔记本电脑、台式电脑等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。
2、但目前的oled显示产品的性能有待提升。
技术实现思路
1、本技术实施例提供一种显示基板、显示面板、显示装置及测试模组，能够提升显示产品的性能。
2、第一方面，本技术实施例提供一种显示基板，包括显示区至少部分包围显示区的非显示区，显示区包括阵列分布的多个第一子区，第一子区包括像素电路以及多个第一过孔，像素电路包括晶体管；非显示区包括至少一个第二子区，第二子区包括测试晶体管以及多个第二过孔；第二过孔的分布规律与第一过孔的分布规律一致。
3、在第一方面一种可能的实现方式中，第二子区周围包括多个第三子区，第三过孔的分布规律与第一过孔的分布规律一致；
4、优选地，第三子区内无晶体管；
5、优选地，第一子区、第二子区、第三子区的形状以及尺寸相同；
6、优选地，显示基板包括测试引线，测试引线通过第二过孔与测试晶体管连接；
7、优选地，显示基板包括沿显示基板的厚度方向层叠设置且相互绝缘的半导体层、第一金属层、第二金属层和第三金属层，第二金属层和第三金属层之间包括层间介质层，第一过孔和第二过孔为贯穿层间介质层的过孔。
8、在第一方面一种可能的实现方式中，第二子区包括第一遮光部，在显示基板的厚度方向上，第一遮光部与测试晶体管至少部分交叠；
9、优选地，第一子区包括与像素电路连接的第一电极，第一遮光部与第一电极位于相同膜层；
10、优选地，第二子区包括第二遮光部，在显示基板的厚度方向上，第二遮光部与测试晶体管至少部分交叠；
11、优选地，第一子区包括第一像素定义层，第二遮光部与第一像素定义层位于相同膜层。
12、在第一方面一种可能的实现方式中，至少一个测试晶体管为第一测试晶体管，像素电路包括驱动晶体管，第一测试晶体管的特性用于表征驱动晶体管的特性；
13、优选地，第一子区包括第一半导体图案，第二子区包括第二半导体图案，第二半导体图案和第一半导体图案相同；
14、优选地，第一测试晶体管的排布方向与驱动晶体管的排布方向相同。
15、在第一方面一种可能的实现方式中，第二子区还包括第一线段和第二线段，第一线段和第二线段沿第一方向延伸，第一线段和第二线段与第一测试晶体管的栅极位于相同膜层，且在与第一方向相交的第二方向上，第一线段和第二线段位于第一测试晶体管的栅极的两侧，在显示基板的厚度方向上，第一线段和第二线段与第二半导体图案无交叠；
16、优选地，第一线段与第一子区的扫描线的相对位置相同，第二线段与第一子区的发光控制信号线的相对位置相同；
17、优选地，第二子区还包括辅助极板，在显示基板的厚度方向上，辅助极板与第一测试晶体管的栅极至少部分交叠，其中一个第二过孔穿过辅助极板与第一测试晶体管的栅极连接；
18、优选地，第一子区内多个第一过孔包括第一甲过孔、第一乙过孔和第一丙过孔，第二子区内的多个第二过孔包括第二甲过孔、第二乙过孔和第二丙过孔，第一甲过孔、第一乙过孔和第一丙过孔的相对分布位置和第二甲过孔、第二乙过孔和第二丙过孔的相对分布位置相同；显示基板包括第一测试引线、第二测试引线和第三测试引线，第一测试引线通过第二甲过孔连接第一测试晶体管的栅极，第二测试引线通过第二乙过孔连接第一测试晶体管的第一极，第三测试引线通过第二丙过孔连接第一测试晶体管的第二极；
19、优选地，第一甲过孔连接像素电路的驱动晶体管的栅极，第一乙过孔连接第一电极，第一丙过孔连接电源线；
20、优选地，第一测试引线和第二测试引线之间的最小间距大于第一阈值，第一测试引线和第三测试引线之间的最小间距大于第一阈值。
21、在第一方面一种可能的实现方式中，至少一个测试晶体管为第二测试晶体管，像素电路包括多个开关晶体管，第二测试晶体管的特性用于表征开关晶体管的特性；
22、优选地，第一子区包括第一半导体图案，第二子区包括第三半导体图案，第三半导体图案和第一半导体图案中的部分区域的图案相同；
23、优选地，第二测试晶体管的沟道宽长比与多个开关晶体管中沟道宽长比最小的相同；
24、优选地，第二测试晶体管的排布方向与开关晶体管的排布方向相同。
25、在第一方面一种可能的实现方式中，第二子区周围包括多个第三子区，第三子区内多个第三过孔的分布规律与第一子区内多个第一过孔的分布规律一致；
26、在第一方向上相邻的第i个第一子区和第i+1个第一子区内多个第一过孔包括第一丁过孔、第一戊过孔和第一己过孔，第三子区内的多个第三过孔包括第三丁过孔，第二子区内的多个第二过孔包括第二戊过孔和第二己过孔，第一丁过孔、第一戊过孔和第一己过孔的相对分布位置和第三丁过孔、第二戊过孔和第二己过孔的相对分布位置相同；显示基板包括第四测试引线、第五测试引线和第六测试引线，第四测试引线通过第三丁过孔连接第二测试晶体管的栅极，第五测试引线通过第二戊过孔连接第二测试晶体管的第一极，第六测试引线通过第二己过孔连接第二测试晶体管的第二极；
27、优选地，第一丁过孔连接第i个第一子区中像素电路的驱动晶体管的栅极，第一戊过孔连接第i个第一子区对应的数据线，第一己过孔连接第i+1个第一子区中像素电路的驱动晶体管的栅极。
28、基于相同的发明构思，第二方面，本技术实施例还提供一种显示面板，包括如第一方面中任一项实施例所述的显示基板。
29、基于相同的发明构思，第三方面，本技术实施例还提供一种显示装置，包括如第二方面实施例所述的显示面板。
30、基于相同的发明构思，第四方面，本技术实施例还提供一种测试模组，包括：
31、模型组件，包括基准晶体管，基准晶体管占用的各个膜层的结构与显示基板的显示区内晶体管占用的膜层结构相同；
32、多个样本组件，样本组件包括样本晶体管，至少两个样本晶体管的关键特征不同，其中，关键特征包括影响晶体管特性的特征；
33、优选地，关键特征至少包括样本晶体管所在区域内过孔的分布规律，且至少一个样本晶体管所在区域内过孔的分布规律与基准晶体管所在区域内过孔的分布规律一致；
34、优选地，关键特征还包括下列中的至少一者：栅极走线的线宽、沟道的线宽、栅绝缘层厚度、源漏极电阻、晶体管密度、膜层结构是否完整、第二金属层是否有电压、静电是否均衡；
35、优选地，所示模型组件和显示基板位于同一母板，模型组件占用的面积小于显示基板的显示区的面积；
36、优选地，模型组件还包括测试垫，测试垫设置于母板的最顶层金属层以及阳极层。
37、根据本技术实施例，测试晶体管所属子区内的第二过孔的分布规律与像素电路所属子区内的第一过孔的分布规律相同，如此一来，可使得测试晶体管的氢化程度与像素电路中晶体管的氢化程度趋于一致，从而使得测试晶体管的特性与像素电路中晶体管的特性趋于一致，这样测试晶体管的特性能够表征像素电路中晶体管的实际特性。
38、上述说明仅是本技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本技术的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本技术的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举本技术的具体实施方式。
1.一种显示基板，包括显示区和非显示区；其特征在于，所述显示区包括阵列分布的多个第一子区，所述第一子区包括像素电路以及多个第一过孔，所述像素电路包括晶体管；所述非显示区至少部分包围所述显示区；其中，
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，
4.根据权利要求1至3任一项所述的显示基板，其特征在于，
5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，
6.根据权利要求1至3任一项所述的显示基板，其特征在于，
7.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，
8.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-7中任一项所述的显示基板。
9.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求8所述的显示面板。
10.一种测试模组，其特征在于，包括：
