背景技术：
1、本公开涉及用于等离子体处理衬底的方法和装置。更具体地，本公开涉及用于将边缘环夹持在等离子体处理室中的方法和装置。
2、在等离子体处理中，具有边缘环的等离子体处理室可用于提供改进的工艺控制。
技术实现思路
1、为了实现上述目的并根据本公开的目的，提供一种用于在等离子体处理室中利用静电环夹持件静电夹持边缘环的方法，该静电环夹持件具有用于向所述边缘环提供气流以调节温度的至少一个环背面温度通道。向所述至少一个环背面温度通道提供真空。测量所述至少一个环背面温度通道中的压强。当所述至少一个环背面温度通道中的所述压强达到阈值最大压强时，提供静电环夹持电压。中断所述至少一个环背面温度通道的所述真空。测量所述至少一个环背面温度通道中的压强。如果所述至少一个环背面温度通道中的压强上升快于阈值速率，则表明密封失效。如果所述至少一个环背面温度通道中的压强上升没有比所述阈值速率快，则继续等离子体处理，使用所述至少一个环背面温度通道来调节所述边缘环的温度。
2、在另一种表现形式中，提供了一种用于与吸盘一起用于等离子体处理室中的边缘环。边缘环具有第一表面，该第一表面被放置在吸盘上方并面向吸盘，其中该第一表面形成围绕孔的环。第一弹性体环整合到第一表面并围绕孔延伸。
3、本发明的这些特征和其它特征将在下面在本发明的详细描述中并结合以下附图进行更详细的描述。
1.一种用于在等离子体处理室中利用静电环夹持件静电夹持边缘环的方法，所述静电环夹持件具有用于向所述边缘环提供气流以调节温度的至少一个环背面温度通道；所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其中在所述向所述至少一个环背面温度通道提供真空期间，所述等离子体处理室处于大气压下。
3.根据权利要求1所述的方法，其还包括如果指示密封失效则重新密封所述边缘环。
4.根据权利要求1所述的方法，其中提供所述等离子体处理包括：
5.根据权利要求4所述的方法，其中提供所述等离子体处理进一步包括：
6.根据权利要求1所述的方法，其还包括在向所述至少一个环背面温度通道提供所述真空之前将所述边缘环放置在所述静电环夹持件上。
7.根据权利要求6所述的方法，其中将所述边缘环放置在所述静电环夹持件上使得在向所述至少一个环背面温度通道提供所述真空之前所述边缘环与所述静电环夹持件间隔开10微米至50微米。
8.根据权利要求7所述的方法，其中向所述至少一个环背面温度通道提供所述真空使得所述边缘环与所述静电环夹持件间隔开小于20微米。
