本发明构思的实施方式总体涉及一种显示装置和制造显示装置的方法。
背景技术：
1、显示装置包括像素电路和发光二极管，其中，像素电路产生驱动电流，并且发光二极管发射与驱动电流相对应的光。为了实现像素电路和发光二极管，显示装置具有其中堆叠了各种图案的堆叠结构。
2、同时，在显示装置的制造工艺中可能产生异物。由于异物导致图案中可能出现裂纹或者显示装置中可能出现暗点，并且因此，显示装置的良率可能降低。
3、异物可以通过清洁工艺被去除。然而，当异物定位于图案的边界处时，存在由于由图案形成的台阶差导致异物不易被去除的问题。
技术实现思路
1、实施例提供了一种具有改善的良率的显示装置。
2、实施例提供了一种制造显示装置的方法。
3、根据实施例的显示装置可以包括：连接电极，设置在基底上；通孔图案，设置在所述连接电极上，所述通孔图案在第一区域中具有第一高度并且在围绕所述第一区域的第二区域中具有低于所述第一高度的第二高度；像素电极，设置在所述通孔图案上，并且在所述第二区域中与所述连接电极接触；以及像素限定图案，设置在所述像素电极上，并且与所述第二区域重叠地容纳在所述通孔图案中。
4、在实施例中，所述第一区域可以具有多边形形状，并且所述第二区域可以沿着所述第一区域的边缘完全围绕所述第一区域。
5、在实施例中，所述第一区域可以具有八边形形状。
6、在实施例中，所述通孔图案可以包括：第一上表面，具有所述第一高度；和第二上表面，具有所述第二高度。与所述连接电极接触的所述像素电极的上表面可以定位为低于所述第二上表面。
7、在实施例中，所述像素电极可以通过穿透所述通孔图案的接触孔与所述连接电极接触，并且所述接触孔可以被限定在所述第二区域的一部分中。
8、在实施例中，所述像素限定图案可以具有曲率，并且所述像素限定图案的最大高度可以高于所述第一高度。
9、在实施例中，所述像素限定图案可以具有所述第一高度，并且可以平坦地容纳在所述通孔图案中。
10、在实施例中，所述像素限定图案可以具有高于所述第一高度的高度，并且可以平坦地容纳在所述通孔图案中。
11、在实施例中，所述显示装置还可以包括：公共发射层，设置在所述像素电极和所述像素限定图案上。
12、在实施例中，所述显示装置还可以包括：下部金属图案，设置在所述基底上；和有源图案，设置在所述下部金属图案上。
13、在实施例中，所述显示装置还可以包括：转换基底，定位为面向所述基底。
14、根据实施例的制造显示装置的方法可以包括：在基底上形成连接电极；在所述连接电极上形成通孔层，其中，所述通孔层包括第一区域和围绕所述第一区域的第二区域；形成穿透所述通孔层的接触孔，以将所述连接电极暴露在所述第二区域中；通过局部地去除所述通孔层形成通孔图案，使得所述第一区域的第一高度高于所述第二区域的第二高度；在所述第二区域中形成与所述连接电极接触的像素电极；并且形成像素限定图案，所述像素限定图案与所述第二区域重叠地容纳在所述通孔图案中。
15、在实施例中，所述接触孔可以和所述通孔图案一起形成。
16、在实施例中，可以使用半色调掩模形成所述通孔图案。
17、在实施例中，所述半色调掩模可以包括：阻挡区域，与所述第一区域相对应；开口区域，与所述接触孔相对应；以及半色调区域，与所述第二区域相对应。
18、在实施例中，形成所述像素限定图案可以包括：形成像素限定层，以完全覆盖在所述通孔图案上的所述像素电极；并且在所述像素限定层中形成暴露所述第一区域的所述像素电极的开口。
19、在实施例中，所述方法还可以包括：在所述像素电极和所述像素限定图案上形成公共发射层。
20、在实施例中，所述方法还可以包括：接合颜色转换基底，以面向所述基底。
21、根据实施例的显示装置可以包括通孔图案和像素限定图案。所述通孔图案可以在第一区域中具有第一高度并且在第二区域中具有第二高度，其中，所述第二高度低于所述第一高度。换言之，所述通孔图案可以包括具有不同高度的上表面，并且所述第一区域的第一上表面可以高于所述第二区域的第二上表面。因此，容纳空间可以形成在所述第二区域的所述通孔图案中。
22、在实施例中，所述像素限定图案可以容纳在所述通孔图案中以与所述第二区域重叠。换言之，所述像素限定图案可以容纳在所述容纳空间中。因此，所述像素限定图案在所述容纳空间中可以具有足够的厚度，并且所述通孔图案和所述像素限定图案之间的台阶差可以减小。
23、在实施例中，一种显示装置包括：连接电极，设置在基底上；通孔图案，设置在所述连接电极上，其中，所述通孔图案在第一区域中具有第一高度并且在第二区域中具有第二高度，其中，所述第二区域围绕所述第一区域，并且其中，所述第二高度低于所述第一高度。所述显示装置还包括：像素电极，设置在所述通孔图案上，并且在所述第二区域中与所述连接电极接触；像素限定图案，设置在所述像素电极上，并且与所述第二区域重叠地设置在所述通孔图案中，其中，所述第一区域完全被所述第二区域围绕，并且其中，所述第一区域是多边形形状。
24、在实施例中，在制造显示装置的工艺中产生的异物可以被定位于像素限定图案周围。在这种情况下，由于通孔图案和像素限定图案之间的台阶差减小，因此可以容易地去除定位于像素限定图案周围的异物。
25、在实施例中，可以使用半色调掩模来制造通孔图案。半色调掩模可以包括阻挡区域、半色调区域和开口区域，并且具有不同高度的上表面和形成在通孔图案中的接触孔可以一起形成。因此，制造显示装置的工艺可以缩短。
1.一种显示装置，其中，所述显示装置包括：
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第一区域具有多边形形状，并且
3.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述第一区域具有八边形形状。
4.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述通孔图案包括：
5.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述像素电极通过穿透所述通孔图案的接触孔与所述连接电极接触，并且
6.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述像素限定图案具有曲率，并且
7.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述像素限定图案具有等于所述第一高度的高度，并且平坦地设置在所述通孔图案中。
8.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述像素限定图案具有高于所述第一高度的高度，并且平坦地设置在所述通孔图案中。
9.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述显示装置还包括：
10.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述显示装置还包括：
11.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述显示装置还包括：
12.一种制造显示装置的方法，其中，所述方法包括：
13.根据权利要求12所述的方法，其中，所述接触孔和所述通孔图案一起形成。
14.根据权利要求13所述的方法，其中，使用半色调掩模形成所述通孔图案。
15.根据权利要求14所述的方法，其中，所述半色调掩模包括：
16.根据权利要求12所述的方法，其中，形成所述像素限定图案包括：
17.根据权利要求12所述的方法，其中，所述方法还包括：
18.根据权利要求12所述的方法，其中，所述方法还包括：
19.一种显示装置，其中，所述显示装置包括：
20.根据权利要求19所述的显示装置，其中，所述通孔图案包括：
