显示基板及其制备方法和显示装置与流程

专利2026-03-03  8


本申请涉及显示,尤其涉及一种显示基板及其制备方法和显示装置。


背景技术:

1、oled(organic light emitting diode,有机发光二极管)显示装置是一种有机薄膜电致发光的器件,相较于lcd(liquid crystal display,液晶显示器),由于具有轻薄、对比度高、亮度高、能耗低、响应速度快、清晰度好、可柔性显示、发光效率高、制作容易、驱动电压低等优点,使其在电子产品、交通、医用、工业控制等领域具有巨大发展空间,是极具竞争力的下一代显示技术。


技术实现思路

1、有鉴于此,本申请的目的在于提出一种显示基板及其制备方法和显示装置。

2、基于上述目的,本申请第一方面提供了一种显示基板,包括基底及设置在所述基底上的衬底层,所述显示基板包括对位标志区域,位于所述对位标志区域的所述衬底层上间隔设有至少一个对位标志图案,所述衬底层包括叠置的非金属层和/或金属层。

3、可选地,所述对位标志区域至少包括依次相邻设置的第一对位区域、第二对位区域和第三对位区域,所述第一对位区域和所述第三对位区域内均设有所述对位标志图案。

4、可选地,所述对位标志图案在所述基底上的正投影与所述第一对位区域和第三对位区域在所述基底上的正投影完全重合。

5、可选地,所述对位标志区域至少包括依次相邻设置的第一对位区域、第二对位区域和第三对位区域,所述第二对位区域内设有所述对位标志图案,所述衬底层包括叠置的非金属层和金属层。

6、可选地,所述对位标志图案在所述基底上的正投影与所述第二对位区域在所述基底上的正投影完全重合。

7、可选地,所述金属层在所述基底上的正投影与所述对位标志区域在所述基底上的正投影完全重合。

8、可选地,所述金属层靠近所述基底设置。

9、可选地,所述对位标志图案由遮光材料制成。

10、可选地,还包括彩膜层,所述彩膜层覆盖所述衬底层和所述对位标志图案。

11、基于同一发明构思,本申请第二方面还提供了一种显示基板的制备方法,包括:

12、提供一基底,所述基底包括对位标志区域;

13、在所述基底上制作衬底层,所述衬底层包括叠置的非金属层和/或金属层;

14、在位于所述对位标志区域的所述衬底层上间隔制作至少一个对位标志图案。

15、基于同一发明构思,本申请第三方面还提供了一种显示装置,包括上述第一方面任一项所述的显示基板和上述第二方面所述的制备方法制备得到的显示基板。

16、从上面所述可以看出,本申请提供的显示基板及其制备方法和显示装置,通过将衬底层设置为叠置的非金属层和/或金属层来提升衬底层的反光能力,进而提升其对比度,同时,在衬底层上间隔设置对位标志图案来提升衬底层的明暗对比度,两种方式相结合,可以显著提升衬底层的对位标志区域的对比度,进而提升曝光机的对位准确度,避免人工干预,减少对位时间,进而减少曝光工艺和显影工艺之间的间隔时间,提高产品的光学性能。



技术特征:

1.一种显示基板,其特征在于,包括基底及设置在所述基底上的衬底层,所述显示基板包括对位标志区域,位于所述对位标志区域的所述衬底层上间隔设有至少一个对位标志图案,所述衬底层包括叠置的非金属层和/或金属层。

2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述对位标志区域至少包括依次相邻设置的第一对位区域、第二对位区域和第三对位区域,所述第一对位区域和所述第三对位区域内均设有所述对位标志图案。

3.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述对位标志图案在所述基底上的正投影与所述第一对位区域和第三对位区域在所述基底上的正投影完全重合。

4.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述对位标志区域至少包括依次相邻设置的第一对位区域、第二对位区域和第三对位区域,所述第二对位区域内设有所述对位标志图案,所述衬底层包括叠置的非金属层和金属层。

5.根据权利要求4所述的显示基板,其特征在于,所述对位标志图案在所述基底上的正投影与所述第二对位区域在所述基底上的正投影完全重合。

6.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述金属层在所述基底上的正投影与所述对位标志区域在所述基底上的正投影完全重合。

7.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述金属层靠近所述基底设置。

8.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述对位标志图案由遮光材料制成。

9.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,还包括彩膜层,所述彩膜层覆盖所述衬底层和所述对位标志图案。

10.一种显示基板的制备方法,其特征在于,包括:

11.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1~9任一项所述的显示基板和权利要求10所述的制备方法制备得到的显示基板。


技术总结
本申请提供一种显示基板及其制备方法和显示装置,所述显示基板包括基底及设置在所述基底上的衬底层,所述显示基板包括对位标志区域,位于所述对位标志区域的所述衬底层上间隔设有至少一个对位标志图案,所述衬底层包括叠置的非金属层和/或金属层。通过将衬底层设置为叠置的非金属层和/或金属层,来提升衬底层的反光能力,进而提升其对比度,同时,在衬底层上间隔设置对位标志图案来提升衬底层的明暗对比度,两种方式相结合,可以显著提升衬底层的对位标志区域的对比度,进而提升曝光机的对位准确度,减少对位时间,进而减少曝光工艺和显影工艺之间的间隔时间,提高产品的光学性能。

技术研发人员:郭强,成学佩,陈礼龙,刘正德,刘宴岑,张小红
受保护的技术使用者:绵阳京东方光电科技有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/6/26
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