一种堤坝沉降监测仪的制作方法

专利2026-03-09  31


本技术涉及水利工程监测,具体为一种堤坝沉降监测仪。


背景技术:

1、为保证堤坝的安全稳定运行,需要对堤坝的沉降情况进行监测,实时监控堤坝的安全运行状态,以便及时发现和处理堤坝异常情况。

2、目前堤坝沉降的监测,主要通过人工进行水准测量,虽然测量精度较高,但是存在作业工作量大,观测效率低,受外界环境影响大,自动化程度不高的问题。随着技术的发展,逐渐开始出现了基于gnss的堤坝沉降和变形监测方法,此方法虽然可做到实时监测,但建立gnss基站的费用昂贵,并且对于高程监测精度较差。

3、公开号:cn214199991u,“一种大坝位移监测系统”,通过设置激光发射模块、编码靶屏及成像模块,激光发射模块发出的激光打在所述的编码靶屏上,所述的成像模块获取编码靶屏上的图像,并将该图像传输给数据处理单元,所述的数据处理单元接收所述的图像后,读取图像上的激光所在位置的编码,并对编码进行数据分析,识别得出激光成像点所在位置的坐标数据,再根据坐标数据判断大坝是否存在位移的现象。上述专利将大坝某一点的沉降位移转化为激光的偏移,直接将激光打在编码靶屏上,由于光线传输距离短,若堤坝沉降微小,前后两次测量光斑位置改变小,监测结果不够准确,且整个装置只能监测大坝一点的沉降,对于大坝局部小范围不均匀沉降、倾斜无法准确监测。

4、为了解决上述问题,本案由此而生。


技术实现思路

1、(一)解决的技术问题

2、本实用新型的目的在于提供一种堤坝沉降监测仪,以解决上述背景技术中提出的问题。

3、(二)技术方案

4、为实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案予以实现:一种堤坝沉降监测仪,包括激光发射模块和编码屏,所述编码屏分为编码屏一和编码屏二,所述激光发射模块和编码一屏设于支撑柱一顶端,所述支撑柱一底端设有沉降板,所述编码屏二设于支撑柱二顶端,沉降板和支撑柱二底端分别安装于堤坝沉降监测点和基点,所述编码屏一和编码屏二平行且相对,所述激光发射模块射出的激光先射向编码屏二后反射向编码屏一且在两屏之间反射若干次。

5、优选的,所述支撑柱一底端设有沉降板,所述沉降板固定在堤坝上,所述沉降板面积为2m2~4m2。

6、优选的,所述编码屏一和编码屏二相对的一侧均设有挡板。

7、优选的,所述激光发射模块包括底座和激光发射器,所述激光发射器和底座旋转连接。

8、(三)有益效果

9、采用上述技术方案后,本实用新型与现有技术相比,具备以下优点:本实用新型一种堤坝沉降监测仪,通过设置两块相对的编码屏,使射出的激光在两块编码屏上来回反射,在两块编码屏上留下多个光斑,对这些光斑进行位置分析与相应的计算,再与前一次测量的光斑位置进行对比,即可方便得出堤坝沉降情况以及数值,且激光随着反射次数的增加,堤坝沉降对激光光斑位置的偏移更加明显,因此监测精度更高,并且设置了大面积的沉降板,增大了监测有效范围,能够监测堤坝局部小范围不均匀沉降。



技术特征:

1.一种堤坝沉降监测仪,所述堤坝监测仪设于固定基点(1)和堤坝(2)沉降监测点上,所述固定基点(1)应位于堤坝(2)沉降变形区外稳定区域,其特征在于:包括支撑柱一(3)和支撑柱二(6),所述支撑柱一(3)设于堤坝(2)沉降监测点上,所述支撑柱一(3)上设有激光发射模块(4)和编码屏一(5),所述支撑柱二(6)设于固定基点(1)上,所述支撑柱二(6)上设有编码屏二(7),所述编码屏一(5)和编码屏二(7)平行且相对,所述激光发射模块(4)射出的激光先射向编码屏二(7)后反射向编码屏一(5)且在两屏之间反射若干次。

2.根据权利要求1所述的一种堤坝沉降监测仪,其特征在于:所述支撑柱一(3)底端设有沉降板(8),所述沉降板(8)固定在堤坝(2)上,所述沉降板(8)面积为2m2~4m2。

3.根据权利要求1所述的一种堤坝沉降监测仪,其特征在于:所述编码屏一(5)和编码屏二(7)相对的一侧均设有挡板(9)。

4.根据权利要求1所述的一种堤坝沉降监测仪,其特征在于:所述激光发射模块(4)包括底座(41)和激光发射器(42),所述激光发射器(42)和底座(41)旋转连接。


技术总结
本技术提供一种堤坝沉降监测仪,包括激光发射模块和编码屏,所述编码屏分为编码屏一和编码屏二,所述激光发射模块和编码一屏设于支撑柱一顶端,所述支撑柱一底端设有沉降板,所述编码屏二设于支撑柱二顶端,沉降板和支撑柱二底端分别安装于堤坝沉降监测点和基点,所述编码屏一和编码屏二平行且相对。设置两块相对的编码屏,射出的激光在两块编码屏上来回反射,在两块编码屏上留下多个光斑,对这些光斑进行位置分析与计算,再与前一次测量的光斑位置进行对比,可方便得出堤坝沉降情况,激光随着反射次数的增加,堤坝沉降导致光斑位置的偏移更加明显,监测精度更高,设置大面积的沉降板,增大监测有效范围,能够监测堤坝局部小范围不均匀沉降。

技术研发人员:陈文亮,叶锋,瞿晨瑶,孟金波,叶岸青,潘海平,王坤雪,葛士磊,方旭辉,郑俊杰,郑念念
受保护的技术使用者:浙江广川工程咨询有限公司
技术研发日:20231208
技术公布日:2024/6/26
转载请注明原文地址:https://doc.8miu.com/read-1828701.html

最新回复(0)