本发明涉及一种将衬底洗净的衬底处理装置及衬底处理方法。
背景技术：
1、为了对液晶显示装置或有机el(electro luminescence，电致发光)显示装置等中所使用的fpd(flatpaneldisplay，平板显示器)用衬底、半导体衬底、光盘用衬底、磁盘用衬底、磁光盘用衬底、光罩用衬底、陶瓷衬底或太阳电池用衬底等各种衬底进行各种处理，而使用衬底处理装置。为了将衬底洗净，而使用衬底洗净装置。
2、例如，日本专利第5904169号公报中所记载的衬底洗净装置具备：2个吸附垫，保持晶圆的背面周缘部；旋转夹头，保持晶圆的背面中央部；及刷，将晶圆的背面洗净。2个吸附垫保持着晶圆沿横向移动。在该状态下，晶圆的背面中央部被刷洗净。之后，旋转夹头从吸附垫接收晶圆，旋转夹头一边保持晶圆的背面中央部一边旋转。在该状态下，晶圆的背面周缘部被刷洗净。
技术实现思路
1、在衬底洗净装置中，随着反复对衬底进行洗净，刷的清洁度逐渐降低。如果刷的清洁度降低，那么将无法适当地将衬底洗净。
2、在所述衬底洗净装置中，以用于将晶圆洗净的上表面露出的状态设置刷。为了防止刷的清洁度降低，考虑向刷喷出洗净液，将该刷洗净。然而，当刷洗净所使用的洗净液在衬底洗净装置内飞散时，可能会因飞散的洗净液而导致衬底及其洗净环境的清洁度降低。
3、本发明的目的在于，提供一种能够防止利用清洁度降低的刷对衬底进行洗净，并且能够减少由刷洗净所引起的衬底的清洁度降低及衬底的洗净环境的清洁度降低的衬底处理装置及衬底处理方法。
4、本发明的一态样的衬底处理装置具备：处理室；搬送装置，构成为能够进行向所述处理室搬入衬底的搬入动作及从所述处理室搬出衬底的搬出动作；第1衬底保持部，设置在所述处理室内，保持由所述搬送装置搬入的衬底；刷洗净部，设置在所述处理室内，构成为能够使刷与由所述第1衬底保持部保持的衬底接触而将衬底的下表面洗净；洗净喷嘴，设置在所述处理室内，构成为能够向所述刷喷出用于将该刷洗净的刷洗净液；洗净液供给部，能够向所述洗净喷嘴供给所述刷洗净液；以及控制部，通过控制所述洗净液供给部，而在利用所述搬送装置进行所述搬入动作的期间及进行所述搬出动作的期间中的至少一部分期间，停止向所述洗净喷嘴供给所述刷洗净液。
5、本发明的另一态样的衬底处理装置具备：第1衬底保持部，构成为能够保持衬底；刷洗净部，构成为能够使刷与由所述第1衬底保持部保持的衬底接触而将衬底的下表面洗净；第2衬底保持部，构成为能够保持衬底；处理部，对由所述第2衬底保持部保持的衬底进行规定处理；相对移动部，为了将由所述第1衬底保持部保持衬底的状态切换成由所述第2衬底保持部保持衬底的状态，而进行相对移动动作，即，通过使所述第1衬底保持部、所述第2衬底保持部及衬底中的至少一个移动，而使所述第1衬底保持部与衬底的相对位置发生变化；洗净喷嘴，构成为能够向所述刷喷出用于将该刷洗净的刷洗净液；洗净液供给部，能够向所述洗净喷嘴供给所述刷洗净液；以及控制部，通过控制所述洗净液供给部，而在所述相对移动部的所述相对移动动作时，停止向所述洗净喷嘴供给所述刷洗净液。
6、本发明的又一态样的衬底处理装置具备：第1衬底保持部，构成为能够保持衬底；刷洗净部，构成为能够使刷与由所述第1衬底保持部保持的衬底接触而将衬底的下表面洗净；洗净喷嘴，构成为能够向所述刷喷出用于将该刷洗净的刷洗净液；洗净液供给部，能够向所述洗净喷嘴供给所述刷洗净液；以及控制部，通过控制所述洗净液供给部，而在利用所述第1衬底保持部保持衬底的期间中的至少一部分期间，停止向所述洗净喷嘴供给所述刷洗净液。
7、本发明的又一态样的衬底处理装置具备：第1衬底保持部，构成为能够保持衬底；刷，通过与衬底的下表面接触而将所述下表面洗净；刷移动部，构成为能够使所述刷在与由所述第1衬底保持部保持的衬底的所述下表面接触的洗净位置、和比所述第1衬底保持部更靠下方且与由所述第1衬底保持部保持的衬底相隔的待机位置之间移动；第2衬底保持部，设置在比所述第1衬底保持部更靠上方的位置，构成为能够保持衬底；处理部，对由所述第2衬底保持部保持的衬底进行规定处理；洗净喷嘴，构成为能够向所述刷喷出用于将该刷洗净的刷洗净液；洗净液供给部，能够向所述洗净喷嘴供给所述刷洗净液；以及控制部，通过控制所述洗净液供给部，而在由所述第2衬底保持部保持着衬底的状态且所述刷处于所述待机位置以外的位置的状态下，停止向所述洗净喷嘴供给所述刷洗净液。
8、本发明的又一态样的衬底处理装置具备：第1衬底保持部，构成为能够保持衬底；刷洗净部，构成为能够使刷与由所述第1衬底保持部保持的衬底接触而将衬底的下表面洗净；第2衬底保持部，设置在比所述第1衬底保持部更靠上方的位置，构成为能够保持衬底；处理部，对由所述第2衬底保持部保持的衬底进行规定处理；洗净喷嘴，构成为能够向所述刷喷出用于将该刷洗净的刷洗净液；洗净液供给部，能够向所述洗净喷嘴供给所述刷洗净液；操作部，用于输入由所述处理部对衬底进行所述规定处理的期间中利用所述洗净液供给部供给所述刷洗净液的供给条件；受理部，受理由所述操作部输入的所述刷洗净液的所述供给条件；以及控制部，通过根据由所述受理部受理的所述供给条件来控制所述洗净液供给部，而在由所述处理部对衬底进行所述规定处理的期间中，调整所述刷洗净液向所述洗净喷嘴的供给状态。
9、本发明的一态样的衬底处理方法包含如下步骤：使用构成为能够进行向处理室搬入衬底的搬入动作及从所述处理室搬出衬底的搬出动作的搬送装置，向所述处理室搬入衬底；在所述处理室内，利用第1衬底保持部保持由所述搬送装置搬入的衬底；在所述处理室内，使刷与由所述第1衬底保持部保持的衬底接触而将衬底的下表面洗净；在所述处理室内，通过向洗净喷嘴供给用于将所述刷洗净的刷洗净液而从所述洗净喷嘴向所述刷喷出所述刷洗净液；以及使用所述搬送装置从所述处理室搬出衬底；且向所述刷喷出所述刷洗净液的步骤包含：在通过所述搬送装置进行所述搬入动作的期间及进行所述搬出动作的期间中的至少一部分期间，停止向所述洗净喷嘴供给所述刷洗净液。
10、本发明的另一态样的衬底处理方法包含如下步骤：利用第1衬底保持部保持衬底；使刷与由所述第1衬底保持部保持的衬底接触而将衬底的下表面洗净；利用第2衬底保持部保持衬底；对由所述第2衬底保持部保持的衬底进行规定的处理；为了将由所述第1衬底保持部保持衬底的状态切换成由所述第2衬底保持部保持衬底的状态，而进行相对移动动作，即，通过使所述第1衬底保持部、所述第2衬底保持部及衬底中的至少一个移动，而使所述第1衬底保持部与衬底的相对位置发生变化；以及通过向洗净喷嘴供给用于将所述刷洗净的刷洗净液，而从所述洗净喷嘴向所述刷喷出所述刷洗净液；且向所述刷喷出所述刷洗净液的步骤包含：在所述相对移动动作时，停止向所述洗净喷嘴供给所述刷洗净液。
11、本发明的又一态样的衬底处理方法包含如下步骤：利用第1衬底保持部保持衬底；使刷与由所述第1衬底保持部保持的衬底接触而将衬底的下表面洗净；以及通过向洗净喷嘴供给用于将所述刷洗净的刷洗净液，而从所述洗净喷嘴向所述刷喷出所述刷洗净液；且向所述刷喷出所述刷洗净液的步骤包含：在利用所述第1衬底保持部保持衬底的期间中的至少一部分期间，停止向所述洗净喷嘴供给所述刷洗净液。
12、本发明的又一态样的衬底处理方法包含如下步骤：利用第1衬底保持部保持衬底；使通过与衬底的下表面接触而将所述下表面洗净的刷在与由所述第1衬底保持部保持的衬底的所述下表面接触的洗净位置、和比所述第1衬底保持部更靠下方且与由所述第1衬底保持部保持的衬底相隔的待机位置之间移动；利用设置在比所述第1衬底保持部更靠上方的位置的第2衬底保持部来保持衬底；以及对由所述第2衬底保持部保持的衬底进行规定的处理；通过向洗净喷嘴供给用于将所述刷洗净的刷洗净液，而从所述洗净喷嘴向所述刷喷出所述刷洗净液；且向所述刷喷出所述刷洗净液的步骤包含：在由所述第2衬底保持部保持着衬底的状态且所述刷处于所述待机位置以外的位置的状态下，停止向所述洗净喷嘴供给所述刷洗净液。
13、本发明的又一态样的衬底处理方法包含如下步骤：利用第1衬底保持部保持衬底；使刷与由所述第1衬底保持部保持的衬底接触而将衬底的下表面洗净；利用设置在比所述第1衬底保持部更靠上方的位置的第2衬底保持部来保持衬底；对由所述第2衬底保持部保持的衬底进行规定的处理；通过向洗净喷嘴供给用于将所述刷洗净的刷洗净液，而从所述洗净喷嘴向所述刷喷出所述刷洗净液；当将对由所述第2衬底保持部保持的衬底进行所述规定处理的期间中所述刷洗净液向所述洗净喷嘴的供给条件输入到操作部时，受理利用所述操作部输入的所述刷洗净液的所述供给条件；以及受理利用所述操作部输入的所述刷洗净液的所述供给条件；且向所述刷喷出所述刷洗净液的步骤包含：在根据所述受理步骤中受理的所述供给条件，对衬底进行所述规定处理的期间中，调整所述刷洗净液向所述洗净喷嘴的供给状态。
14、根据本发明，能够防止利用清洁度降低的刷对衬底进行洗净，并且能够减少由刷洗净所引起的衬底的清洁度降低及衬底的洗净环境的清洁度降低。
1.一种衬底处理装置，具备：
2.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中所述搬送装置包含：
3.根据权利要求1或2所述的衬底处理装置，其中所述刷洗净部包含：
4.一种衬底处理装置，具备：
5.根据权利要求4所述的衬底处理装置，其中所述刷洗净部构成为能够使所述刷与由所述第1衬底保持部保持的衬底的下表面中的第1区域接触而将该第1区域洗净，且构成为能够使所述刷与由所述第2衬底保持部保持的衬底的下表面中与所述第1区域不同的第2区域接触而将该第2区域洗净；
6.根据权利要求4或5所述的衬底处理装置，其中还具备处理室，该处理室收容所述第1衬底保持部、所述刷洗净部、所述第2衬底保持部、所述处理部、所述洗净喷嘴及所述洗净液供给部，
7.一种衬底处理装置，具备：
8.根据权利要求7所述的衬底处理装置，其中所述第1衬底保持部构成为能够使所保持的衬底旋转，
9.根据权利要求7或8所述的衬底处理装置，其中还具备处理室，该处理室收容所述第1衬底保持部、所述刷洗净部、所述洗净喷嘴及所述洗净液供给部，
10.一种衬底处理装置，具备：
11.根据权利要求10所述的衬底处理装置，其中还具备处理室，该处理室收容所述第1衬底保持部、所述刷、所述刷移动部、所述第2衬底保持部、所述处理部、所述洗净喷嘴及所述洗净液供给部，
12.一种衬底处理装置，具备：
13.根据权利要求12所述的衬底处理装置，其中还具备处理室，该处理室收容所述第1衬底保持部、所述刷洗净部、所述第2衬底保持部、所述处理部、所述洗净喷嘴及所述洗净液供给部，
14.一种衬底处理方法，包含如下步骤：
15.一种衬底处理方法，包含如下步骤：
16.一种衬底处理方法，包含如下步骤：
17.一种衬底处理方法，包含：
18.一种衬底处理方法，包含：
