本申请涉及电子设备壳体材料的，具体是涉及一种陶瓷材料、壳体及其制备方法和电子设备。
背景技术：
1、氧化锆陶瓷具有高硬度、高强度、温润如玉的质感，作为高端电子产品壳体材料备受消费者喜爱。但是氧化锆陶瓷密度高达6.0g/m3以上，导致氧化锆陶瓷壳体重量居高不下，不符合电子产品轻薄化设计要求，因此开发低密度轻质陶瓷壳体材料具有重要意义。
技术实现思路
1、本申请实施例第一方面提供了一种陶瓷材料，以质量百分占比计，由如下组分制备而成：
2、sio2，55～80wt％；
3、al2o3，5～15wt％；
4、li2o，5～15wt％；
5、na2o，1～5wt％；
6、着色剂，2.5～5wt％；
7、余量为成核剂。
8、本申请实施例第二方面提供了一种陶瓷材料，所述陶瓷材料包括质量占比大于90％的晶相结构、质量占比小于10％的非晶相结构以及质量占比2.5～5wt％着色剂；其中，所述晶相包括li2si2o5、lialsi2o6以及sio2。
9、第三方面，本申请实施例提供一种壳体，所述壳体包括上述实施例中所述的陶瓷材料。
10、第四方面，本申请实施例提供一种电子设备，所述电子设备包括显示屏模组、控制电路板以及上述实施例中所述的壳体，所述显示屏模组与所述壳体配合形成容置空间，所述控制电路板设于所述容置空间内并与所述显示屏模组电连接。
11、第五方面，本申请实施例提供一种陶瓷材料的制备方法，所述制备方法包括：
12、制备配料；其中，所述配料中包括sio2、al2o3、li2o、na2o、成核剂以及着色剂；
13、将所述配料熔成玻璃液；
14、将所述玻璃液制备形成玻璃锭或玻璃片；
15、将所述玻璃锭或玻璃片进行退火处理，接着进行陶瓷化处理，热弯，得到所述陶瓷材料。
16、另外，本申请实施例还提供一种壳体的制备方法，所述制备方法包括：对前述实施例中所述的方法制备得到的陶瓷材料进行抛光，并在其外表面依次镀上增反膜、防指纹膜。
17、本申请实施例提供的陶瓷材料，具有密度低、强度高、硬度适中、光泽度高、反射率高、介电常数低、断裂韧性高以及颜色纯的特点。
1.一种陶瓷材料，其特征在于，以质量百分占比计，由如下组分制备而成：
2.根据权利要求1所述的陶瓷材料，其特征在于，所述着色剂的质量占比为3～4wt％。
3.根据权利要求1所述的陶瓷材料，其特征在于，所述着色剂包括fe2o3、cr2o3、coo、nio、zno、cuo、mno中的任意一种或者多种。
4.根据权利要求3所述的陶瓷材料，其特征在于，所述成核剂包括zro2、p2o5、tio2中的至少一种。
5.根据权利要求4所述的陶瓷材料，其特征在于，所述陶瓷材料还包括澄清剂，所述澄清剂包括sb2o3。
6.根据权利要求5所述的陶瓷材料，其特征在于，各组分的质量百分占比如下：
7.根据权利要求6所述的陶瓷材料，其特征在于，各组分的质量百分占比如下：
8.一种陶瓷材料，其特征在于，所述陶瓷材料包括质量占比大于90％的晶相结构、质量占比小于10％的非晶相结构以及质量占比2.5～5wt％着色剂；其中，所述晶相结构包括li2si2o5、lialsi2o6以及sio2。
9.根据权利要求8所述的陶瓷材料，其特征在于，所述li2si2o5的质量占比为20～40％，lialsi2o6的质量占比为35～55％，sio2的质量占比为10～25％。
10.根据权利要求8所述的陶瓷材料，其特征在于，所述着色剂包括fe2o3、cr2o3、coo、nio、zno、cuo、mno中的任意一种或者多种。
11.根据权利要求8所述的陶瓷材料，其特征在于，所述着色剂的质量占比为3～4wt％。
12.根据权利要求8所述的陶瓷材料，其特征在于，所述晶相结构的显微形貌呈近似球形，晶粒的尺寸为50～300nm。
13.一种壳体，其特征在于，所述壳体包括权利要求1-7任一项或权利要求8-12任一项所述的陶瓷材料。
14.根据权利要求13所述的壳体，其特征在于，所述壳体还包括设于所述陶瓷材料表面的增反膜以及设于所述增反膜上的防指纹膜。
15.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括显示屏模组、控制电路板以及权利要求13或14所述的壳体，所述显示屏模组与所述壳体配合形成容置空间，所述控制电路板设于所述容置空间内并与所述显示屏模组电连接。
16.一种陶瓷材料的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
17.根据权利要求16所述的制备方法，其特征在于，所述将所述玻璃锭或玻璃片进行陶瓷化处理的步骤包括两步：第一步，形成晶核，处理条件是温度为600～700℃，时间为1～4h；第二步，晶粒长大，处理条件是温度为700～800℃，时间为2～10h。
18.根据权利要求16所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括：将陶瓷材料浸入盐溶液中进行钢化处理。
19.根据权利要求18所述的制备方法，其特征在于，所述盐溶液为纯度99.6％以上的nano3，钢化条件为：温度450～550℃，时间4～12h。
20.根据权利要求18所述的制备方法，其特征在于，所述将陶瓷材料浸入盐溶液中进行钢化处理的步骤包括两步，第一步，在由质量占比30～50wt％nano3和50～70wt％kno3组成的混合熔融盐中进行第一次钢化，钢化条件为：温度450～550℃，时间2～6h；第二步，在由质量占比0.5～5.0wt％nano3和95.0～99.5wt％kno3组成的混合熔融盐中进行第二次钢化，钢化条件为：温度400～500℃，时间4～8h。
21.一种壳体的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：对权利要求16-20任一项所述的方法制备得到的陶瓷材料进行抛光，并在其外表面依次镀上增反膜、防指纹膜。
