本发明涉及清洗基板的基板清洗装置及基板清洗方法。
背景技术：
1、为了对液晶显示装置或有机el(electro luminescence)显示装置等使用的fpd(flat panel display：平板显示器)用基板、半导体基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板或太阳电池用基板等各种基板进行多种处理而使用基板处理装置。为了对基板进行清洗而使用基板清洗装置。
2、例如，日本特开2022-103731号公报中记载了一种对基板的下表面进行清洗的基板清洗装置。在该基板清洗装置中，水平延伸的下表面刷保持部件由气缸支承。在下表面刷保持部件的一端部设有朝向上方延伸的旋转轴。在旋转轴的上端部安装有下表面刷。气缸对下表面刷保持部件施加朝向上方的力。在该情况下，下表面刷上升，与基板的下表面接触。由此，基板的下表面被清洗。
3、在下表面刷保持部件的另一端部的上方安装有载荷传感器。在气缸对下表面刷保持部件施加超过所支承的多个构成要素的合计重量的力的情况下，下表面刷保持部件的另一端部与载荷传感器抵接。此时，载荷传感器输出表示从由气缸对下表面刷保持部件施加的力减去上述合计重量的力的信号。基于从载荷传感器输出的信号来调整气缸对下表面刷保持部件施加的力。
技术实现思路
1、在日本特开2022-103731号公报中记载了，能够通过上述的基板清洗装置将下表面刷以预先设定的力按压于基板的下表面。但是，根据下表面刷的水分保持量或下表面刷的干燥度等下表面刷的状态，下表面刷的重量变化。在该情况下，在日本特开2022-103731号公报记载的基板清洗装置中，将下表面刷向基板的下表面按压的力可能会变化。因此，基板的清洗有时变得不均匀。
2、本发明的目的在于提供能够均匀地清洗基板的基板清洗装置及基板清洗方法。
3、本发明的一个方面的基板清洗装置包括：下表面刷，其对基板的下表面进行清洗；支承部，其支承所述下表面刷；第1致动器，其通过使所述支承部升降来调整从所述下表面刷向所述基板的载荷；以及载荷检测部，其设置在所述支承部与所述第1致动器之间，检测所述支承部与所述第1致动器之间的载荷。
4、本发明的另一方面的基板清洗装置包括：下表面刷，其包含对基板的下表面进行清洗的刷主体及安装有所述刷主体的刷底座；支承部，其支承所述下表面刷的所述刷底座；第1致动器，其通过使所述支承部升降来调整从所述下表面刷向所述基板的载荷；载荷检测部，其设置在所述刷主体与所述刷底座之间，检测所述刷主体与所述刷底座之间的二维载荷的分布；以及载荷控制部，其基于由所述载荷检测部检测的载荷的分布来控制所述第1致动器的动作。
5、本发明的另一方面的基板清洗方法包含下述处理：通过下表面刷的刷主体对基板的下表面进行清洗；通过第1致动器使支承所述下表面刷的刷底座的支承部升降；以及通过载荷检测部检测所述刷主体与所述刷底座之间的二维载荷的分布，使所述支承部升降的处理包含基于由所述载荷检测部检测的载荷的分布来调整从所述刷主体向所述基板的载荷。
6、根据本发明，能够均匀地对基板进行清洗。
1.一种基板清洗装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，还包括：
3.根据权利要求1或2所述的基板清洗装置，其特征在于，
4.一种基板清洗装置，其特征在于，包括：
5.根据权利要求4所述的基板清洗装置，其特征在于，
6.根据权利要求4或5所述的基板清洗装置，其特征在于，
7.根据权利要求4～6中任一项所述的基板清洗装置，其特征在于，
8.根据权利要求4～7中任一项所述的基板清洗装置，其特征在于，
9.一种基板清洗方法，其特征在于，包含下述处理：
10.根据权利要求9所述的基板清洗方法，其特征在于，
11.根据权利要求9或10所述的基板清洗方法，其特征在于，
12.根据权利要求9～11中任一项所述的基板清洗方法，其特征在于，
