光路转折元件、成像镜头模块及电子装置的制作方法

专利2026-07-26  18


本揭示涉及一种光路转折元件、成像镜头模块及电子装置,特别是一种适用于电子装置的光路转折元件及成像镜头模块。


背景技术:

1、随着科技日新月异,具有高光学品质的镜头俨然成为不可或缺的一环。并且,配备光学镜头的电子装置的应用范围更加广泛,对于光学镜头的要求也是更加多样化。

2、然而,近年来传统的光学镜头已难以满足多元化发展下的电子产品的高光学品质需求,特别是在具有光轴转折配置的光学镜头内部的非成像反射光会造成光学品质不佳。已知的具有光轴转折配置的光学镜头其内部常会形成易产生非成像反射光的配置,故无法满足目前日渐严格的光学品质市场需求。因此,如何改良光学镜头的光轴转折元件来避免产生非成像反射光,以满足现今对电子装置高规格的需求,已成为目前相关领域的重要议题。


技术实现思路

1、本揭示提供一种光路转折元件、成像镜头模块以及电子装置。其中,光路转折元件具有能够降低反射率的消光结构或光线吸收膜层,借此避免杂散光于光路转折元件的内部反射,从而满足高成像品质的需求。

2、本揭示提供一种光路转折元件,包含一主体、一光线吸收膜层以及一消光结构。主体具有一光学表面,且光学表面包含一入射面、一反射面以及一出射面。一光线由入射面进入光路转折元件。反射面用于反射光线,以使光线的行进方向改变。光线由出射面离开光路转折元件。光线吸收膜层用于降低反射率。光线吸收膜层与至少部分光学表面相邻设置,且光线吸收膜层与光路转折元件的主体实体接触。消光结构与至少部分光学表面相邻设置。消光结构使光路转折元件的表面轮廓具有凹凸起伏,且消光结构与光路转折元件的主体一体成型。

3、本揭示另提供一种光路转折元件,包含一主体以及一光线吸收膜层。主体具有一光学表面,且光学表面包含一入射面、一反射面以及一出射面。一光线由入射面进入光路转折元件。反射面用于反射光线,以使光线的行进方向改变。光线由出射面离开光路转折元件。光线吸收膜层用于降低反射率。光线吸收膜层与至少部分光学表面相邻设置,且光线吸收膜层与光路转折元件的主体实体接触。光线吸收膜层自光学表面朝远离光路转折元件的方向上依序包含第一抗反射膜以及吸光膜。第一抗反射膜用以降低反射率,吸光膜包含一金属层,且金属层的主要成分为铬(cr)金属。

4、本揭示又另提供一种光路转折元件,包含一主体以及一光线吸收膜层。主体具有一反射面,其用于反射一光线,以使光线的行进方向改变。光线吸收膜层用于降低反射率。光线吸收膜层与至少部分光学表面相邻设置,且光线吸收膜层与光路转折元件的主体实体接触。光线吸收膜层包含一吸光膜,且吸光膜包含一金属层以及一氧化金属层。金属层的主要成分为铬金属。氧化金属层的主要成分为moy,其中m为钽(ta)金属、钛(ti)金属和铬金属中的任一者,且y满足下列条件:y≤1。

5、本揭示再另提供一种光路转折元件,包含一主体以及一消光结构。主体具有一光学表面,且光学表面包含一入射面、一反射面以及一出射面。一光线由入射面进入光路转折元件。反射面用于反射光线,以使光线的行进方向改变。光线由出射面离开光路转折元件。消光结构与至少部分光学表面相邻设置。消光结构使光路转折元件的表面轮廓具有凹凸起伏,且消光结构与光路转折元件的主体一体成型。至少部分光学表面的边缘具有一阶差结构,且阶差结构使光学表面相对于其周边的区域凸起或凹陷。

6、本揭示提供一种成像镜头模块,包含前述的光路转折元件、一第一透镜组以及一成像面。第一透镜组设置于光路转折元件的物侧,且第一透镜组包含一第一透镜以及一第一遮光件。第一透镜包含一第一光学有效部,且光线通过第一光学有效部。第一遮光件具有一第一通光孔,第一通光孔与光路转折元件对应设置,且光线通过第一通光孔。成像面接收来自于光路转折元件的光线。第一通光孔为第一透镜组中的最小通光孔,第一通光孔的最小孔径为φ1,第一通光孔与光路转折元件之间的最短垂直距离为d1,较佳地,其满足下列条件:

7、0.2≤φ1/(d1+1)≤9。

8、本揭示提供一种电子装置,其包含前述的光路转折元件。

9、根据以上所揭露的光路转折元件、成像镜头模块与电子装置,借由光线吸收膜层或消光结构的设置,有助于降低反射率,以避免杂散光(非成像光)于光路转折元件的内部反射。

10、当0.2≤φ1/(d1+1)≤9满足上述条件时,可有效阻挡杂散光。

11、以上关于本揭示内容的说明及以下的实施方式的说明用以示范与解释本揭示的精神与原理,并且提供本揭示的权利要求书更进一步的解释。



技术特征:

1.一种光路转折元件,其特征在于,包含:

2.根据权利要求1所述的光路转折元件,其特征在于,所述光线吸收膜层与所述反射面相邻设置。

3.根据权利要求1所述的光路转折元件,其特征在于,至少部分的所述光学表面的边缘具有一阶差结构,所述阶差结构使所述光学表面相对于其周边的区域凸起或凹陷。

4.根据权利要求1所述的光路转折元件,其特征在于,所述光线吸收膜层包含一吸光膜,且所述吸光膜包含一金属层。

5.根据权利要求4所述的光路转折元件,其特征在于,所述光线吸收膜层还包含一第一抗反射膜,所述第一抗反射膜相对所述吸光膜靠近所述光路转折元件的所述主体,所述第一抗反射膜包含一第一高折射率层以及一第一低折射率层,所述第一高折射率层的折射率大于所述第一低折射率层,且所述第一高折射率层与所述第一低折射率层交替堆叠。

6.根据权利要求5所述的光路转折元件,其特征在于,所述光线吸收膜层还包含一中介层,所述中介层设置于所述第一抗反射膜与所述吸光膜之间,所述中介层的主要成分与所述第一高折射率层的主要成分或所述第一低折射率层的主要成分相同。

7.根据权利要求5所述的光路转折元件,其特征在于,所述光线吸收膜层还包含一第二抗反射膜,所述第二抗反射膜相对所述吸光膜远离所述光路转折元件的所述主体,所述第二抗反射膜包含一第二高折射率层以及一第二低折射率层,所述第二高折射率层的折射率大于所述第二低折射率层,且所述第二高折射率层与所述第二低折射率层交替堆叠。

8.根据权利要求1所述的光路转折元件,其特征在于,所述消光结构与所述反射面相邻设置。

9.根据权利要求1所述的光路转折元件,其特征在于,所述消光结构的凹凸起伏为规则设置。

10.根据权利要求1所述的光路转折元件,其特征在于,所述入射面、所述反射面和所述出射面其中任一者的边缘轮廓具有多个突出部,所述突出部使所述光学表面的局部边缘轮廓朝远离所述光学表面中心的方向延伸。

11.根据权利要求1所述的光路转折元件,其特征在于,还包含一第二反射面,所述第二反射面用于反射所述光线以使所述光线的行进方向改变。

12.一种成像镜头模块,其特征在于,包含:

13.根据权利要求12所述的成像镜头模块,其特征在于,还包含:

14.根据权利要求13所述的成像镜头模块,其特征在于,还包含一第二光路转折元件,所述第二光路转折元件设置于所述第二透镜组的像侧。

15.一种光路转折元件,其特征在于,包含:

16.根据权利要求15所述的光路转折元件,其特征在于,所述光线吸收膜层与所述反射面相邻设置。

17.根据权利要求15所述的光路转折元件,其特征在于,至少部分的所述光学表面的边缘具有一阶差结构,所述阶差结构使所述光学表面相对其周边的区域凸起或凹陷。

18.根据权利要求15所述的光路转折元件,其特征在于,所述第一抗反射膜包含一第一高折射率层以及一第一低折射率层,所述第一高折射率层的折射率大于所述第一低折射率层,且所述第一高折射率层与所述第一低折射率层交替堆叠。

19.根据权利要求18所述的光路转折元件,其特征在于,所述光线吸收膜层还包含一中介层,所述中介层设置于所述第一抗反射膜与所述吸光膜之间,所述中介层的主要成分与所述第一高折射率层的主要成分或所述第一低折射率层的主要成分相同。

20.根据权利要求18所述的光路转折元件,其特征在于,所述光线吸收膜层还包含一第二抗反射膜,所述第二抗反射膜相对所述吸光膜远离所述光路转折元件的所述主体,所述第二抗反射膜包含一第二高折射率层以及一第二低折射率层,所述第二高折射率层的折射率大于所述第二低折射率层,且所述第二高折射率层与所述第二低折射率层交替堆叠。

21.根据权利要求15所述的光路转折元件,其特征在于,还包含一消光结构,所述消光结构与至少部分的所述光学表面相邻设置以使所述光路转折元件的表面轮廓具有规则设置的凹凸起伏,且所述消光结构与所述光路转折元件的所述主体一体成型。

22.根据权利要求15所述的光路转折元件,其特征在于,还包含一第二反射面,所述第二反射面用于反射所述光线以使所述光线的行进方向改变。

23.一种成像镜头模块,其特征在于,包含:

24.根据权利要求23所述的成像镜头模块,其特征在于,还包含:

25.根据权利要求24所述的成像镜头模块,其特征在于,还包含一第二光路转折元件,所述第二光路转折元件设置于所述第二透镜组的像侧。

26.一种光路转折元件,其特征在于,包含:

27.根据权利要求26所述的光路转折元件,其特征在于,还包含:

28.根据权利要求27所述的光路转折元件,其特征在于,所述光线吸收膜层与所述反射面相邻设置。

29.根据权利要求27所述的光路转折元件,其特征在于,所述光线吸收膜层包含一吸光膜,且所述吸光膜包含一金属层。

30.根据权利要求29所述的光路转折元件,其特征在于,所述光线吸收膜层还包含一第一抗反射膜,所述第一抗反射膜相对所述吸光膜靠近所述光路转折元件的所述主体,所述第一抗反射膜包含一第一高折射率层以及一第一低折射率层,所述第一高折射率层的折射率大于所述第一低折射率层,且所述第一高折射率层与所述第一低折射率层交替堆叠。

31.根据权利要求30所述的光路转折元件,其特征在于,所述光线吸收膜层还包含一中介层,所述中介层设置于所述第一抗反射膜与所述吸光膜之间,所述中介层的主要成分与所述第一高折射率层的主要成分或所述第一低折射率层的主要成分相同。

32.根据权利要求30所述的光路转折元件,其特征在于,所述光线吸收膜层还包含一第二抗反射膜,所述第二抗反射膜相对所述吸光膜远离所述光路转折元件的所述主体,所述第二抗反射膜包含一第二高折射率层以及一第二低折射率层,所述第二高折射率层的折射率大于所述第二低折射率层,且所述第二高折射率层与所述第二低折射率层交替堆叠。

33.根据权利要求26所述的光路转折元件,其特征在于,所述消光结构与所述反射面相邻设置。

34.根据权利要求26所述的光路转折元件,其特征在于,所述消光结构的凹凸起伏为规则设置。

35.根据权利要求26所述的光路转折元件,其特征在于,所述反射面的边缘轮廓具有多个突出部,所述突出部使所述反射面的局部边缘轮廓朝远离所述光学表面中心的方向延伸。

36.一种成像镜头模块,其特征在于,包含:

37.根据权利要求36所述的成像镜头模块,其特征在于,还包含:

38.根据权利要求37所述的成像镜头模块,其特征在于,还包含一第二光路转折元件,所述第二光路转折元件设置于所述第二透镜组的像侧。

39.一种电子装置,其特征在于,包含根据权利要求1、权利要求15或权利要求26所述的光路转折元件。


技术总结
本揭示公开一种光路转折元件,包含主体、光线吸收膜层以及消光结构。主体具有光学表面,其包含入射面、反射面以及出射面。光线由入射面进入光路转折元件。反射面用于反射光线,以使光线的行进方向改变。光线由出射面离开光路转折元件。光线吸收膜层用于降低反射率。光线吸收膜层与至少部分光学表面相邻设置,且光线吸收膜层与主体实体接触。消光结构与至少部分光学表面相邻设置。消光结构使光路转折元件的表面轮廓具有凹凸起伏,且消光结构与主体一体成型。本揭示还公开具有上述光路转折元件的成像镜头模块及具有光路转折元件的电子装置。

技术研发人员:刘思欣,范丞纬,吴建勋,蔡温祐,周明达
受保护的技术使用者:大立光电股份有限公司
技术研发日:20230905
技术公布日:2024/6/26
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