本技术涉及青瓷加工，特别涉及一种可调节速率的青瓷加工旋转台。
背景技术：
1、青瓷是一种表面施有青色釉的瓷器，是中国陶瓷烧制工艺的珍品。青瓷色调的形成，主要是胎釉中含有一定量的氧化铁，在还原焰气氛中焙烧所致。但有些青瓷因含铁不纯，还原气氛不充足，色调便呈现黄色或黄褐色；
2、而在青瓷生产加工的过程中，需要将青瓷置于一个能够转动的加工台上进行加工，然而现有的加工台在进行加工时，大多缺少导流结构，因此加工时的冲洗液容易因加工台的旋转向外甩出，导致冲洗液难以汇集清理，并且现有的加工台在结构上，其支撑结构与转动结构为一体，长期使用用于导致转动结构负载过大损坏，影响其使用寿命。
技术实现思路
1、本实用新型的目的在于克服现有技术中的缺陷，提供一种可调节速率的青瓷加工旋转台。
2、为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：
3、本实用新型公开了一种可调节速率的青瓷加工旋转台，包括转台主体和设置于所述转台主体的下方边缘处的集液槽(集液槽的上连接有清液水管，用于排出集液槽内部冲洗液)，所述转台主体的中心处下方安装有转轴，所述转台主体上方采用具有坡面结构的圆台型结构，所述转台主体的上表面开设有导流槽，所述导流槽由所述转台主体的中部向边缘处延伸，并且所述导流槽位于所述转台主体边缘处的一端开设有导流孔，该加工旋转台在使用时，待加工的青瓷置于转台主体上方，通过转轴的转动带动转台主体转动，从而使其上方的青瓷转动，在加工的过程中，冲洗液向下流动，进入到导流槽内，经过导流槽的导流以及旋转台转动的离心力，冲洗液会流动到导流孔的位置，再经过导流孔汇集到集液槽的内部，这样的导液结构设置可以避免转台主体在转动时，冲洗液因离心力的作用向外洒出的情况。
4、作为优选的，所述转台主体的下方边缘处设置有扣合槽，所述导流孔处于所述扣合槽内，所述集液槽的截面呈“u”型，所述集液槽的一个竖直端位于所述扣合槽内，并且所述导流孔位于所述导流槽的范围内，这样可以保证冲洗液能够顺畅的通过导流孔流入到集液槽内，并且这样的结构设置使得集液槽不需要跟随转台主体进行转动，方便排液。
5、作为优选的，所述转台主体的上台面边缘处具有搭接台阶，所述搭接台阶内卡合安装有网板，所述转台主体的上台面位于所述网板的下方处设置有下沉槽，所述导流槽的一端延伸至所述下沉槽内，这样的结构设置使得在青瓷加工时，冲洗液由青瓷表面流下时能够直接进入到下沉槽内部，避免冲洗液被甩出，方便集液。
6、作为优选的，所述导流槽共开设有若干条，若干条所述导流槽呈环形阵列分布，保证集液顺畅。
7、作为优选的，所述转台主体的下表面还开设有环槽，所述环槽的下方设置有多个辅助支撑板，所述辅助支撑板的顶部卡合在所述环槽内，并且所述辅助支撑板的顶部嵌设有滚珠，在进行加工时，辅助支撑板起到了辅助支撑整个转台主体的作用，这样转轴就不会承受过大的压力，增加了转台主体的稳定性和装置的使用寿命。
8、作为优选的，所述转轴上安装有齿轮组，所述齿轮组由多个齿数不同的齿轮组成，可以通过外界齿轮与齿轮组中的某一齿轮啮合控制转轴的转动，当啮合不同的齿轮时，转轴的转速改变，实现调速的效果，齿轮组还可替换为链轮组，通过链条驱动链轮组，并且实现调速的效果。
9、与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：
10、该装置中转台主体的上表面开设有导流槽，导流槽由转台主体的中部向边缘处延伸，并且导流槽位于转台主体边缘处的一端开设有导流孔，因此在加工的过程中，冲洗液向下流动，进入到导流槽内，经过导流槽的导流以及旋转台转动的离心力，冲洗液会流动到导流孔的位置，再经过导流孔汇集到集液槽的内部,避免转台主体在转动时，冲洗液因离心力的作用向外洒出的情况；
11、该装置中转台主体的下表面还开设有环槽，环槽的下方设置有多个辅助支撑板，辅助支撑板的顶部卡合在环槽内，并且辅助支撑板的顶部嵌设有滚珠，因此在进行加工时，辅助支撑板起到了辅助支撑整个转台主体的作用，这样转轴就不会承受过大的压力，增加了转台主体的稳定性和装置的使用寿命。
1.一种可调节速率的青瓷加工旋转台，包括转台主体(2)和设置于所述转台主体(2)的下方边缘处的集液槽(1)，所述转台主体(2)的中心处下方安装有转轴(4)，其特征在于：所述转台主体(2)上方采用具有坡面结构的圆台型结构；
2.根据权利要求1所述的一种可调节速率的青瓷加工旋转台，其特征在于：所述转台主体(2)的下方边缘处设置有扣合槽(205)，所述导流孔(206)处于所述扣合槽(205)内，所述集液槽(1)的截面呈“u”型，所述集液槽(1)的一个竖直端位于所述扣合槽(205)内，并且所述导流孔(206)位于所述导流槽(201)的范围内。
3.根据权利要求1所述的一种可调节速率的青瓷加工旋转台，其特征在于：所述转台主体(2)的上台面边缘处具有搭接台阶(203)，所述搭接台阶(203)内卡合安装有网板(3)，所述转台主体(2)的上台面位于所述网板(3)的下方处设置有下沉槽(204)，所述导流槽(201)的一端延伸至所述下沉槽(204)内。
4.根据权利要求1所述的一种可调节速率的青瓷加工旋转台，其特征在于：所述导流槽(201)共开设有若干条，若干条所述导流槽(201)呈环形阵列分布。
5.根据权利要求1所述的一种可调节速率的青瓷加工旋转台，其特征在于：所述转台主体(2)的下表面还开设有环槽(202)，所述环槽(202)的下方设置有多个辅助支撑板(5)，所述辅助支撑板(5)的顶部卡合在所述环槽(202)内，并且所述辅助支撑板(5)的顶部嵌设有滚珠(501)。
6.根据权利要求1所述的一种可调节速率的青瓷加工旋转台，其特征在于：所述转轴(4)上安装有齿轮组(401)，所述齿轮组(401)由多个齿数不同的齿轮组成。
