本实用新型属于精密加工制造技术领域，尤其涉及一种适用硅晶圆涂胶清洗的旋转摆臂机构。
背景技术：
目前，半导体硅晶圆在进行切割加工(金刚石刀轮加工或激光加工)时，半导体硅晶圆产品先是粘贴专用的铁环(目前一般8寸到12寸)在产品表面不允许有杂质或细微颗粒存在，这些杂质或细微颗粒的存在直接会影响产品的品质，所以，在进行加工之前，会在产品表面均匀涂覆一层水溶胶，然后进行加工，加工完成后，需要将水溶胶清洗掉。在进行涂胶的时候，喷胶头需要在晶圆片的中心位置将水溶胶滴在晶圆片上，水溶胶在主轴高速旋转下均匀涂布在晶圆表面，为了防止喷胶头的滴漏，在进行旋转涂胶的时候，喷胶头需要在喷胶完毕后，旋转移开晶圆片区域。在激光加工完毕后，还需要将水溶胶清洗掉，此时，晶圆片在主轴的高速旋转带动下，清洗喷头需要来回摆动，将水溶胶清洗掉。不管是喷胶头还是清洗喷头，其水或者胶的管道都需要旋转摆动，传统的管路使用非同轴旋转摆动，在摆动过程中，传输水或者水溶胶的管道会受到频繁的扭曲，管道容易损坏。
为了克服清洗涂胶系统以上提及的问题，满足涂胶清洗的需要，提出一种适用硅晶圆涂胶清洗的旋转摆臂机构。
技术实现要素：
本实用新型克服了现有技术的不足，提供一种适用硅晶圆涂胶清洗的旋转摆臂机构，以解决现有技术中存在的问题。
为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案为：一种适用硅晶圆涂胶清洗的旋转摆臂机构，包括安装座以及位于所述安装座上的摆臂组件；所述安装座上设置有上层块与下层块，所述摆臂组件包括驱动马达与由所述驱动马达驱动的摆臂转轴，所述驱动马达通过马达固定板与所述安装座连接，所述摆臂转轴通过同步带结构与所述驱动马达连接，所述摆臂转轴为空心结构体，所述摆臂转轴一端通过上层轴承与所述上层块连接，所述摆臂转轴另一端通过下层轴承与所述下层块连接。
本实用新型一个较佳实施例中，所述同步带结构包括主动带轮、从动带轮以及用于传动的同步皮带，所述主动带轮位于所述驱动马达上，所述从动带轮与所述摆臂转轴相连，所述同步皮带将所述主动带轮与所述从动带轮连接。
本实用新型一个较佳实施例中，所述从动带轮位于所述摆臂转轴靠近所述下层轴承一端。
本实用新型一个较佳实施例中，所述马达固定板上设置有限位开关。
本实用新型一个较佳实施例中，所述同步带结构上设置有限位感应片，所述限位感应片与所述限位开关位置对应。
本实用新型一个较佳实施例中，所述摆臂转轴靠近所述上层轴承一端设置有上层外压圈，所述摆臂转轴靠近所述下层轴承一端设置有下层外压圈。
本实用新型解决了背景技术中存在的缺陷，本实用新型具备以下有益效果：
本实用新型在安装座与摆臂组件的配合作用下，摆臂组件包括驱动马达与摆臂转轴，摆臂转轴采用上层轴承与下层轴承进行导向，保证了摆臂转轴的跳动精度，摆臂转轴的中空实现了传输管道的同轴转动，马达固定板上的限位开关，精确控制了摆臂转轴的来回摆动角度，本实用新型结构简单，稳定性强，使用方便，应用前景广阔。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明；
图1为本实用新型优选实施例的整体结构示意图；
图2为本实用新型优选实施例的剖视图；
图中：1、安装座；2、摆臂组件；21、驱动马达；22、摆臂转轴；3、上层块；4、下层块；5、马达固定板；6、同步带结构；61、主动带轮；62、从动带轮；63、同步皮带；7、上层轴承；8、下层轴承；9、限位开关；10、限位感应片；11、上层外压圈；12、下层外压圈。
具体实施方式
现在结合附图和实施例对本实用新型作进一步详细的说明，这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。
如图1与图2所示，一种适用硅晶圆涂胶清洗的旋转摆臂机构，包括安装座1以及位于安装座1上的摆臂组件2；安装座1上设置有上层块3与下层块4，摆臂组件2包括驱动马达21与由驱动马达21驱动的摆臂转轴22，驱动马达21通过马达固定板5与安装座1连接，摆臂转轴22通过同步带结构6与驱动马达21连接，摆臂转轴22为空心结构体，摆臂转轴22一端通过上层轴承7与上层块3连接，摆臂转轴22另一端通过下层轴承8与下层块4连接。
在本实施例中，摆臂转轴22上方为出口，下方为入口，在摆臂转轴22的入口位置处设置旋转接头，出口位置处安装喷水头或喷胶头，将水或水溶胶泵入，从上部泵出即可，上层轴承7与下层轴承8的存在，能够保证摆臂转轴22进行稳定转动且跳动精度良好，摆臂转轴22为中空结构，使得入口位置处的旋转接头在来回摆动时接入的管道不会跟随摆臂转轴22进行摆动。
具体地，在本实施例中，同步带结构6包括主动带轮61、从动带轮62以及用于传动的同步皮带63，主动带轮61位于驱动马达21上，从动带轮62与摆臂转轴22相连，同步皮带63将主动带轮61与从动带轮62连接。
具体而言，从动带轮62位于摆臂转轴22靠近下层轴承8一端。
在本实施例中，马达固定板5上设置有限位开关9，限位开关9能够对主动带轮61进行限位，实现摆动角度的精确控制。
进一步地，同步带结构6上设置有限位感应片10，限位感应片10与限位开关9位置对应，由限位感应片10与限位开关9配合，实现对摆动角度的精确控制。
在本实施例中，摆臂转轴22靠近上层轴承7一端设置有上层外压圈11，摆臂转轴22靠近下层轴承8一端设置有下层外压圈12，上层外压圈11对上层轴承7进行锁紧，下层外压圈12对下层轴承8进行锁紧。
总而言之，本实用新型在安装座1与摆臂组件2的配合作用下，摆臂组件2包括驱动马达21与摆臂转轴22，摆臂转轴22采用上层轴承7与下层轴承8进行导向，保证了摆臂转轴22的跳动精度，摆臂转轴22的中空实现了传输管道的同轴转动，马达固定板5上的限位开关9，精确控制了摆臂转轴22的来回摆动角度，本实用新型结构简单，稳定性强，使用方便，应用前景广阔。
以上依据本实用新型的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关人员完全可以在不偏离本项实用新型技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项实用新型的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定技术性范围。
1.一种适用硅晶圆涂胶清洗的旋转摆臂机构，其特征在于，包括安装座以及位于所述安装座上的摆臂组件；所述安装座上设置有上层块与下层块，所述摆臂组件包括驱动马达与由所述驱动马达驱动的摆臂转轴，所述驱动马达通过马达固定板与所述安装座连接，所述摆臂转轴通过同步带结构与所述驱动马达连接，所述摆臂转轴为空心结构体，所述摆臂转轴一端通过上层轴承与所述上层块连接，所述摆臂转轴另一端通过下层轴承与所述下层块连接。
2.根据权利要求1所述的一种适用硅晶圆涂胶清洗的旋转摆臂机构，其特征在于，所述同步带结构包括主动带轮、从动带轮以及用于传动的同步皮带，所述主动带轮位于所述驱动马达上，所述从动带轮与所述摆臂转轴相连，所述同步皮带将所述主动带轮与所述从动带轮连接。
3.根据权利要求2所述的一种适用硅晶圆涂胶清洗的旋转摆臂机构，其特征在于，所述从动带轮位于所述摆臂转轴靠近所述下层轴承一端。
4.根据权利要求1所述的一种适用硅晶圆涂胶清洗的旋转摆臂机构，其特征在于，所述马达固定板上设置有限位开关。
5.根据权利要求4所述的一种适用硅晶圆涂胶清洗的旋转摆臂机构，其特征在于，所述同步带结构上设置有限位感应片，所述限位感应片与所述限位开关位置对应。
6.根据权利要求1所述的一种适用硅晶圆涂胶清洗的旋转摆臂机构，其特征在于，所述摆臂转轴靠近所述上层轴承一端设置有上层外压圈，所述摆臂转轴靠近所述下层轴承一端设置有下层外压圈。
技术总结