本实用新型涉及一种清洗装置和清洗方法，尤其涉及一种氮化镓反应釜的分部清洗装置。
背景技术：
氮化镓晶体是第三代半导体材料，其具有优异的光电性能、热稳定性和化学稳定性。生产氮化镓晶体的方法主要有氢化物气相外延法(hvpe)、助熔剂法(naflux)和氨热法(ammonothermalmethod)。其中，在采用氨热法生产氮化镓晶体时，生产结束时，其使用的反应釜的内壁会残留矿化物、氮化镓多晶及反应中间物等残留物，若不将残留物清洗干净，将影响反应釜的使用寿命及氮化镓晶体的生产质量。
现有授权公告号为cn209205968u的一件中国实用新型专利提供了一种用于生产氮化镓晶体的反应釜的清洗装置，其包括清洗工位、管路系统和控制系统，控制系统控制管路系统依次对清洗工位中的反应釜进行反应溶液清洗、去离子水清洗、高温氮烘干；但是这种清洗装置无法满足大尺寸的反应釜的清洗需求，因此有待改善。
技术实现要素：
为了克服现有技术的不足，本实用新型提供一种氮化镓反应釜的分部清洗装置，以解决上述的技术问题。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：
一种氮化镓反应釜的分部清洗装置，用于清洗至少具有釜盖和釜体的反应釜，包括清洗模组和管路系统，所述清洗模组至少包括若干用于清洗釜体的釜体清洗部、以及若干用于清洗釜盖的釜盖清洗部，所述管路系统将反应溶液、水和高温气体依次地分别通入釜体清洗部和釜盖清洗部，以釜体清洗部中的釜体和清洗釜盖清洗部中的釜盖。
通过采用上述技术方案，鉴于当前所使用的反应釜存在尺寸较大，普通清洗装置无法满足清洗需求，本实用新型将反应釜拆开分为釜盖和釜体等多个部分，之后再通过设置釜盖清洗部和釜体清洗部等多个清洗部，来对反应釜的各个零部件分别地进行清洗；也为同时清洗大量大尺寸反应釜提供高效灵活的清洗方法，从而解决现有的清洗装置无法满足大尺寸反应釜的清洗需求的问题；
此外，本实用新型当中无论是对反应釜的釜盖进行清洗，还是釜体进行清洗，清洗工艺均包括三个工艺步骤，即先通过反应溶液与反应釜内壁残留的原材料、矿化剂或反应中间物进行充分反应，然后利用去离子水进行冲洗，最后通过高温气体干燥。
作为优选，所述分部清洗装置用于清洗包括釜盖、釜体和连接件的反应釜，所述清洗模组包括用于清洗釜体的釜体清洗部、用于清洗釜盖的釜盖清洗部、以及用于清洗连接件的连接件清洗部。
通过采用上述技术方案，本实用新型给出一个较佳的方式，即将反应釜分成釜盖、釜体和连接件这三个部分，然后通过设置釜盖清洗部、釜体清洗部和连接件清洗部来分别对这三个部分进行清洗工作，以实现分部清洗，避免因反应釜尺寸过大而导致的清洗不便。
作为优选，所述管路系统包括溶液槽、主水管、气体控制箱、进液管、进水管、进气管和喷淋管；所述溶液槽用于盛放反应溶液，且通过若干进液管将反应溶液分别通入不同清洗部；所述主水管内通有水，且通过若干进水管将水分别通入清洗模组当中的不同清洗部；所述气体控制箱用于加热气体，且通过进气管将高温气体分别通入不同清洗部。
通过采用上述技术方案，溶液槽为反应溶液的储存地方，若清洗工作需用到反应溶液，则通过供液泵等部件将反应溶液泵至所需要的清洗部；主水管为各个清洗部供水；气体控制箱当中设有多个加热器，加热器用于加热气体控制箱内的气体，经过加热形成高温气体通至各个清洗部以干燥反应釜。
作为优选，所述釜体清洗部为辅槽一，所述辅槽一设有至少两个清洗工位；且两个清洗工位共用一个漏液槽，所述漏液槽用于盛装从釜体溢出的水。
通过采用上述技术方案，具有两个清洗工位的辅槽一能够同时放置和清洗两个釜体，提高清洗效率。
作为优选，所述清洗工位设有均呈u型设置的液水弯管和气水弯管，所述液水弯管一端同时连通进液管和进水管，所述气水弯管一端同时连通喷淋管和气体控制箱；当釜体置于清洗工位时，所述液水弯管或气水弯管的另一端伸至釜体内部。
通过采用上述技术方案，生产氮化镓晶体的反应釜通常是呈细长圆柱状的，其釜体也是呈细长条状，液水弯管和气水弯管均能够相对于釜体作上下移动(可采用气缸或电机等方式实现)，以伸入或伸出釜体；且气水弯管远离喷淋管和进气管的一端开设有若干喷淋孔(图中未示出)，以便于喷出水或者喷出高温氮气。
作为优选，所述釜盖清洗部包括至少两个辅槽，釜盖在其中一个辅槽中进行反应工序和冲洗工序，且在另一个辅槽当中进行干燥工序。
通过采用上述技术方案，釜盖清洗部也可以像釜体清洗部一样，仅通过一个整体的装置便可同时进行反应工序、冲洗工序和干燥工序，但本实用新型提供一种新型的釜盖清洗部，将一整个装置再分成至少两个辅槽，不同辅槽完成不同工序，如此具有如下几个优点：1、单个辅槽制作方便；2、可以同时进行多个釜盖的清洗工作，提高釜盖清洗部的清洗效率；3、便于调整工艺流程，比如若要增加一个新的清洗工序，则增加一个辅槽即可，而其他工序的辅槽无需变动。
作为优选，所述釜盖清洗部包括辅槽二、辅槽三和辅槽四；所述辅槽二通过进液管与溶液槽连通，釜盖在所述辅槽二中进行反应工序；所述辅槽三通过进水管与主水管连通，釜盖在辅槽三中进行水冲洗工序；所述辅槽四通过进气管与气体控制箱连通，釜盖在辅槽四中进行干燥工序。
通过采用上述技术方案，利用三个辅槽对反应釜的釜盖分别进行反应工序、冲洗工序和干燥工序，此外，釜体清洗部也可以采用釜盖清洗部的结构。
作为优选，所述分部清洗装置还包括带有供液泵和回收泵的控制系统，所述供液泵通过进液管将反应溶液泵至清洗模组，在完成反应后，回收泵将反应溶液通过溶液抽液管泵回溶液槽。
通过采用上述技术方案，反应溶液在与一个反应釜部件残留的原材料、矿化剂或反应中间物反应完成后，仅会损失部分效用，为使反应溶液能够充分利用，反应完成后的反应溶液会在回收泵的作用下通过抽液管重新泵回溶液槽当中，进行反应溶液的循环使用，直至反应溶液低于所需浓度，此时再更换溶液槽中的反应溶液。
作为优选，所述釜体清洗部设置有m组，所述釜盖清洗部设置有n组，其中，m和n均≥1。
通过采用上述技术方案，使得本实用新型的清洗装置可同时清洗若干个反应釜，且清洗的釜盖和釜体的数量还可不一致，增大了整体清洗装置的清洗效率；每一个釜体清洗部和釜盖清洗部的连接方式均可相同，无非是管道系统设置多组，以与釜体清洗部和釜盖清洗部的数量进行匹配。
本实用新型的有益效果是：
一、本实用新型将反应釜拆开分为釜盖和釜体等多个部分，之后再通过设置釜盖清洗部和釜体清洗部等多个清洗部，来对反应釜的各个零部件分别地进行清洗；也为同时清洗大量大尺寸反应釜提供高效灵活的清洗方法，从而解决现有的清洗装置无法满足大尺寸反应釜的清洗需求的问题；
二、本实用新型给出一个较佳的方式，即将反应釜分成釜盖、釜体和连接件这三个部分，然后通过设置釜盖清洗部、釜体清洗部和连接件清洗部来分别对这三个部分进行清洗工作，以达到分部清洗，避免因反应釜尺寸过大而导致的清洗不便的问题发生；
三、本实用新型提供一种新型的釜盖清洗部，将一整个装置再分成若干个辅槽，不同辅槽完成不同工序，如此具有如下几个优点：1、单个辅槽制作方便；2、可以同时进行多个釜盖的清洗工作，提高釜盖清洗部的清洗效率；3、便于调整工艺流程，比如若要增加一个新的工序，则增加一个辅槽即可，而其他工序的辅槽无需变动。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为图1中a处的局部放大图；
图3为图1中b处的局部放大图。
图中各附图标记说明如下：
1、釜体清洗部；101、辅槽一；102、清洗工位；103、漏液槽；104、液水弯管；105、气水弯管；
2、釜盖清洗部；201、辅槽二；202、辅槽三；203、辅槽四；
3、连接件清洗部；301、辅槽五；302、辅槽六；303、辅槽七；
4、管路系统；401、溶液槽；402、主水管；403、气体控制箱；404、进液管；405、抽液管；406、进水管；407、排水管；408、进气管；409、喷淋管；
501、供液泵；502、回收泵；
601、釜体；602、釜盖。
具体实施方式
以下将结合实施例和附图对本实用新型的构思、具体结构及产生的技术效果进行清楚、完整地描述，以充分地理解本实用新型的目的、特征和效果。显然，所描述的实施例只是本实用新型的一部分实施例，而不是全部实施例，基于本实用新型的实施例，本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下所获得的其他实施例，均属于本实用新型保护的范围。另外，专利中涉及到的所有联接/连接关系，并非单指构件直接相接，而是指可根据具体实施情况，通过添加或减少联接辅件，来组成更优的联接结构。本实用新型创造中的各个技术特征，在不互相矛盾冲突的前提下可以交互组合。
本实用新型所提及的“反应溶液”指的是能够与原材料、矿化剂或反应中间物发生反应，从而将金属镓、氮化镓晶体、氮化镓多晶、矿化剂和/或反应中间物溶解的液体。例如氢氧化钾(koh)溶液、氢氧化钠(naoh)溶液、热磷酸(h3po4)溶液、热硫酸和磷酸混合液、盐酸(hcl)、氢氟酸(hf)、硫氨、过硫酸钾(ks2o8)、四硼酸钠(na2b4o7·10h20)、过氧化氢(h2o2)、草酸(c2h2o4)、缓冲氧化物刻蚀液(boe)、氢碘酸(hi)和碘化钾(ki)等。
本实用新型所提及的“高温气体”指的是热的惰性气体，如氮气、氩气等，也可以指水易于溶于的醇类蒸气，例如异丙醇(ipa)、乙醇(c2h6o)等的蒸气。
如图1至图3所示，一种氮化镓反应釜的分部清洗装置，用于清洗至少具有釜盖602和釜体601的反应釜，包括清洗模组、管路系统4和控制系统(501；502)。
清洗模组至少包括若干用于清洗釜体601的釜体清洗部1、以及若干用于清洗釜盖602的釜盖清洗部2。
管路系统4将反应溶液、水和高温气体依次地分别通入釜体清洗部1和釜盖清洗部2，以清洗釜体清洗部1中的釜体601和釜盖清洗部2中的釜盖602。
作为本实用新型的优选，反应溶液为koh溶液或naoh溶液，且通过其他加热器(图中未示出)加热至70°到90°左右之后，再导入釜体清洗部1和釜盖清洗部2，以进行反应工序；水为不低于15mω.cm的去离子水(diw)；高温气体为5n(99.999％)以上纯度且温度在70°至90°之间的高温氮气。
解决技术问题的工作原理：鉴于当前所使用的反应釜存在尺寸较大(反应容积1.5l以上的反应釜)，普通清洗装置无法满足清洗需求，本实用新型将反应釜拆开分为釜盖602和釜体601等多个部分，之后再通过设置釜盖清洗部2和釜体清洗部1等多个清洗部，来对反应釜的各个零部件分别地进行清洗；也为同时清洗大量大尺寸反应釜提供高效灵活的清洗方法，从而解决现有的清洗装置无法满足大尺寸反应釜的清洗需求的问题。
此外，本实用新型当中无论是对反应釜的釜盖602进行清洗，还是釜体601进行清洗，清洗工艺均包括三个工艺步骤，即先通过反应溶液与反应釜的内外壁的残留氮化镓晶体或反应中间物进行充分反应，然后利用去离子水进行冲洗，最后通过高温气体干燥。
为了更加匹配当前反应釜能够分成的部分数，本实用新型将清洗装置分成三个清洗部，具体如下。
分部清洗装置用于清洗包括釜盖602、釜体601和连接件的反应釜，清洗模组包括用于清洗釜体601的釜体清洗部1、用于清洗釜盖602的釜盖清洗部2、以及用于清洗连接件的连接件清洗部3。
本实用新型给出一个较佳的方式，即将反应釜分成釜盖602、釜体601和连接件这三个部分，然后通过设置釜盖清洗部2、釜体清洗部1和连接件清洗部3来分别对这三个部分进行清洗工作，以实现分部清洗，避免因反应釜尺寸过大而导致的清洗不便。
为使本实用新型的清洗装置能够同时清洗多个反应釜，提高效率，釜体清洗部1设置有m组，釜盖清洗部2设置有n组，其中，m和n均≥1。使得本实用新型的清洗装置可同时清洗若干个反应釜，且清洗的釜盖602和釜体601的数量还可不一致，增大了整体清洗装置的清洗效率。
每一个釜体清洗部1和釜盖清洗部2的连接方式均可相同，无非是管道系统设置多组，以与釜体清洗部1和釜盖清洗部2的数量进行匹配。
以下将具体介绍本实用新型当中的管路系统4如何为三个清洗部输送反应溶液、去离子水和高温氮气的。
管路系统4包括溶液槽401、主水管402、气体控制箱403、进液管404、抽液管405、进水管406、排水管407、进气管408和喷淋管409，气体控制箱403通过进气管408向清洗模组提供高温氮气。
溶液槽401用于盛放反应溶液，且通过若干进液管404将反应溶液分别通入不同清洗部；主水管402内通有水，且通过若干进水管406将水分别通入不同清洗部；气体控制箱403用于加热气体，且通过进气管408将高温气体分别通入不同清洗部。
溶液槽401为反应溶液的储存地方，若清洗工作需用到反应溶液，则通过供液泵501等部件将反应溶液泵至所需要的清洗部；主水管402为各个清洗部供水；气体控制箱403当中设有多个加热器，加热器用于加热气体控制箱403内的气体，经过加热形成高温气体通至各个清洗部以干燥反应釜。
此外，主水管402还连通有喷淋管409，喷淋管409的一端连接主水管402，用于对釜体601的内外壁进行喷淋工序。
控制系统(501；502)包括设置在进液管404上的供液泵501，以及设置在抽液管405上的回收泵502；供液泵501将反应溶液通过进液管404泵至清洗模组，在完成清洗后，回收泵502将反应溶液通过抽液管405泵回溶液槽401。
反应溶液在与一个反应釜部件残留的原材料、矿化剂或反应中间物反应完成后，仅会损失部分效用，为使反应溶液能够充分利用，反应完成后的反应溶液会在回收泵502的作用下通过抽液管405重新泵回溶液槽401当中，进行反应溶液的循环使用，直至反应溶液低于所需浓度，此时再更换溶液槽401中的反应溶液。
釜体清洗部1的具体结构如下。
釜体清洗部1为辅槽一101，辅槽一101设有至少两个清洗工位102；且两个清洗工位102共用一个漏液槽103；具有两个清洗工位102的辅槽一101能够同时放置和清洗两个釜体601，提高清洗效率；漏液槽103用于盛装从釜体601溢出的水。
清洗工位102设有均呈u型设置的液水弯管104(可通入反应溶液或去离子水)和气水弯管105(可以通入高温氮气或去离子水)。
液水弯管104一端同时连通进液管404和进水管406，气水弯管105一端同时连通喷淋管409和进气管408；当釜体601置于清洗工位102时，液水弯管104或气水弯管105的另一端伸至釜体601内部；生产氮化镓晶体的反应釜通常是呈细长圆柱状的，其釜体601也是呈细长圆柱条状，反应溶液或去离子水通过液水弯管104注入釜体601内部，高温氮气通过气水弯管105注入釜体601内部。
液水弯管104和气水弯管105均能够相对于釜体601作上下移动(可采用气缸或电机等方式实现)，以伸入或伸出釜体601；且气水弯管105远离喷淋管409和进气管408的一端开设有若干喷淋孔(图中未示出)，以便于喷出水或者喷出高温氮气。
进液管404与进水管406在端部共用一段管道(在图中可看出)，该管道连通液水弯管104的一端；而喷淋管409和进气管408在端部共用另一段管道(在图中可看出)，该管道连通气水弯管105。
釜体601的具体清洗流程：
s1、反应溶液在供液泵501作用下通过进液管404进入液水弯管104，液水弯管104下移伸入釜体601内部，反应溶液从液水弯管104的另一端流进釜体601内部，反应溶液在与釜体601内部残留的原材料、矿化剂或反应中间物充分反应后，在回收泵502的作用下通过抽液管405从釜体601内部抽出；
s2、喷淋用的去离子水通过喷淋管409进入气水弯管105，气水弯管105上移至端部位于釜体601上方，喷淋用的去离子水从喷淋孔中喷出，以对釜体601的内外壁作整体的喷淋清洗，该步骤可重复2-3次；
s3、去离子水通过进水管406进入液水弯管104，液水弯管104下移伸入釜体601内部，去离子水经液水弯管104另一端流进釜体601内部，并持续通去离子水，使去离子水溢出釜体601，以便于对釜体601内外壁整体清洗；清洗完毕后通过排水管407从釜体601内部抽出；用于辅槽一101的排水管407和抽液管405共用一个回收泵502以及一段管道(在图中可以看出)，形成三通管道，且通过气动阀以控制开启关闭；
s4、气体控制箱403将高温氮气通过进气管408进入气水弯管105，气水弯管105下移伸入釜体601内部，高温氮气从气水弯管105另一端的喷淋孔中排出，充斥整个釜体601内部，以对釜体601进行干燥。
釜盖清洗部2的具体结构如下。
釜盖清洗部2包括至少两个辅槽，釜盖602在其中一个辅槽中进行反应工序和冲洗工序，且在另一个辅槽当中进行干燥工序。
釜盖清洗部2也可以像釜体清洗部1一样，仅通过一个整体的装置便可同时进行反应工序、冲洗工序和干燥工序，但本实用新型提供一种新型的釜盖清洗部2，将一整个装置再分成至少两个辅槽，不同辅槽完成不同工序，如此具有如下几个优点：1、单个辅槽制作方便；2、可以同时进行多个釜盖602的清洗工作，提高釜盖清洗部2的清洗效率；3、便于调整工艺流程，比如若要增加一个新的清洗工序，则增加一个辅槽即可，而其他工序的辅槽无需变动。
由于本实用新型当中对反应釜的清洗具有三个工序，因此将釜盖清洗部2设置成三个辅槽的结构。
釜盖清洗部2包括辅槽二201、辅槽三202和辅槽四203；辅槽二201通过进液管404与溶液槽401连通，釜盖602在辅槽二201中完成反应工序；辅槽三202通过进水管406与主水管402连通，釜盖602在辅槽三202中完成水冲洗工序；辅槽四203通过进气管408与气体控制箱403连通，釜盖602在辅槽四203中完成干燥工序。
利用三个辅槽对反应釜分别进行反应工序、冲洗工序和干燥工序，此外，釜体清洗部1也可以采用釜盖清洗部2的结构。
釜盖602的具体清洗流程：
l1、通过叉车等工具将釜盖602移至辅槽二201中，反应溶液在供液泵501作用下通过进液管404进入辅槽二201中，与辅槽二201中的釜盖602残留的原材料、矿化剂或反应中间物充分反应后，在回收泵502的作用下通过抽液管405从辅槽二201中抽出；
l2、通过叉车等工具将釜盖602从辅槽二201移至辅槽三202中，去离子水通过进水管406进入辅槽三202，以便于对釜体601内外壁整体清洗；清洗完毕后将去离子水从辅槽三202中通过排水管407直接排出即可；
l3、通过叉车等工具将釜盖602从辅槽三202移至辅槽四203中，气体控制箱403将高温氮气通过进气管408进入辅槽四203中，以对釜体601进行干燥。
此外，釜盖清洗部2同样可以采用喷淋管409对辅槽三202进行喷淋，即采用与釜体清洗部1相同的附属功能部件实现喷淋工序，此处不过多赘述。
连接件清洗部3的具体结构如下。
连接件清洗部3包括辅槽五301、辅槽六302和辅槽七303，其清洗工艺和设备的原理与釜盖清洗部2的相同，这里便不再过多赘述。
连接清洗部除上述的设置之外，也可以单独提供一个诸如授权公告号为cn209205968u的实用新型专利提供的清洗装置，用来作为连接件清洗部3。
以上是对本实用新型的较佳实施进行了具体说明，但本实用新型创造并不限于所述实施例，熟悉本领域的技术人员在不违背本实用新型精神的前提下还可做出种种的等同变形或替换，这些等同的变形或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。
1.一种氮化镓反应釜的分部清洗装置，用于清洗至少具有釜盖(602)和釜体(601)的反应釜，其特征在于，包括清洗模组和管路系统(4)，所述清洗模组至少包括若干用于清洗釜体(601)的釜体(601)清洗部(1)、以及若干用于清洗釜盖(602)的釜盖(602)清洗部(2)，所述管路系统(4)将反应溶液、水和高温气体依次地分别通入釜体(601)清洗部(1)和釜盖(602)清洗部(2)，以釜体(601)清洗部(1)中的釜体(601)和清洗釜盖(602)清洗部(2)中的釜盖(602)。
2.根据权利要求1所述的氮化镓反应釜的分部清洗装置，其特征在于，所述分部清洗装置用于清洗包括釜盖(602)、釜体(601)和连接件的反应釜，所述清洗模组包括用于清洗釜体(601)的釜体(601)清洗部(1)、用于清洗釜盖(602)的釜盖(602)清洗部(2)、以及用于清洗连接件的连接件清洗部(3)。
3.根据权利要求2所述的氮化镓反应釜的分部清洗装置，其特征在于，所述管路系统(4)包括溶液槽(401)、主水管(402)、气体控制箱(403)、进液管(404)、进水管(406)、进气管(408)和喷淋管(409)；所述溶液槽(401)用于盛放反应溶液，且通过若干进液管(404)将反应溶液分别通入不同清洗部；所述主水管(402)内通有水，且通过若干进水管(406)将水分别通入清洗模组当中的不同清洗部；所述气体控制箱(403)用于加热气体，且通过进气管(408)将高温气体分别通入不同清洗部。
4.根据权利要求3所述的氮化镓反应釜的分部清洗装置，其特征在于，所述釜体(601)清洗部(1)为辅槽一(101)，所述辅槽一(101)设有至少两个清洗工位(102)；且两个清洗工位(102)共用一个漏液槽(103)，所述漏液槽(103)用于盛装从釜体(601)溢出的水。
5.根据权利要求4所述的氮化镓反应釜的分部清洗装置，其特征在于，所述清洗工位(102)设有均呈u型设置的液水弯管(104)和气水弯管(105)，所述液水弯管(104)一端同时连通进液管(404)和进水管(406)，所述气水弯管(105)一端同时连通喷淋管(409)和气体控制箱(403)；当釜体(601)置于清洗工位(102)时，所述液水弯管(104)或气水弯管(105)的另一端伸至釜体(601)内部。
6.根据权利要求3所述的氮化镓反应釜的分部清洗装置，其特征在于，所述釜盖(602)清洗部(2)包括至少两个辅槽，釜盖(602)在其中一个辅槽中进行反应工序和冲洗工序，且在另一个辅槽当中进行干燥工序。
7.根据权利要求6所述的氮化镓反应釜的分部清洗装置，其特征在于，所述釜盖(602)清洗部(2)包括辅槽二(201)、辅槽三(202)和辅槽四(203)；所述辅槽二(201)通过进液管(404)与溶液槽(401)连通，釜盖(602)在所述辅槽二(201)中进行反应工序；所述辅槽三(202)通过进水管(406)与主水管(402)连通，釜盖(602)在辅槽三(202)中进行水冲洗工序；所述辅槽四(203)通过进气管(408)与气体控制箱(403)连通，釜盖(602)在辅槽四(203)中进行干燥工序。
8.根据权利要求1-7中任一项所述的氮化镓反应釜的分部清洗装置，其特征在于，所述分部清洗装置还包括带有供液泵(501)和回收泵(502)的控制系统，所述供液泵(501)通过进液管(404)将反应溶液泵至清洗模组，在完成反应后，回收泵(502)将反应溶液通过溶液抽液管(405)泵回溶液槽(401)。
9.根据权利要求1-7中任一项所述的氮化镓反应釜的分部清洗装置，其特征在于，所述釜体(601)清洗部(1)设置有m组，所述釜盖(602)清洗部(2)设置有n组，其中，m和n均≥1。
技术总结