本发明属于镀银装置技术领域，具体的说是一种腔体滤波器内腔镀银装置。
背景技术：
滤波器是一种允许某一部分频率信号顺利通过，而抑制另外一部分频率信号的器件。在滤波器中把信号能够通过的频率范围，称为通带；反之，信号受到很大衰减或完全被抑制的频率范围称为阻带；产品具有结构牢固、体积小、稳定可靠等特点。当前的镀银设备结构类似，基本都是制件作阴极，纯银板为阳极，浸入氰化银钾电解液中进行电镀，但是腔体滤波器镀银时只对内腔进行镀银处理，外壳不需镀银，因此需要特定的镀银设备，而当前的镀银设备操作不便，且废气处理效果较差，使得废气在直接排出后容易对环境或工作人员的健康造成伤害。
现有技术中也出现了一些关于滤波器镀银的技术方案，如一项中国专利，专利号为2020200850026，该发明中提出了一种腔体滤波器内腔镀银设备，涉及滤波器镀银技术领域，包括固定底座、安装支架和翻转式镀银机构，安装支架固定设置在固定底座顶部，安装支架两侧均固定设置有驱动电机，驱动电机的输出轴上固定设置有转动柱，翻转式镀银机构固定设置在两个转动柱之间，安装支架顶部一侧固定设置有废气回收箱，安装支架顶部另一侧固定设置有导管和软质管，安装支架顶部开设有穿插槽，穿插槽内活动设置有连通管，连通管通过软质管与导管连通，固定底座一侧通过电源线设置有电源插头，驱动电机通过加固杆与固定底座连接，本实用新型结构合理且新颖，镀银效果好，操作简单而便捷，且具有良好的废气回收功能，实用价值高。
但上述技术中的镀银装置虽然能够通过气管将电镀箱电镀所产生的废气排入储液腔中，但由于储液腔内部盛有液态的反应液，使得废气需要克服反应液的压力才能顺利的进入储液腔中，从而影响废气进入储液腔的效率与质量，同时储液腔中的反应液还存在倒灌进电镀箱的风险，从而影响后续滤波器内腔的加工质量。
鉴于此，本发明提供了一种腔体滤波器内腔镀银装置，能够将装置产生的废气充分高效的运送至反应腔中，且能减少反应液从气管倒灌进电镀箱的情况，从而提高了滤波器内腔后续的加工质量。
技术实现要素：
为了弥补现有技术的不足，本发明提供了一种腔体滤波器内腔镀银装置，能够将装置产生的废气充分高效的运送至反应腔中，且能减少反应液从气管倒灌进电镀箱的情况，从而提高了滤波器内腔后续的加工质量。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种腔体滤波器内腔镀银装置，包括支撑架，所述支撑架上设有翻转式镀银结构，所述翻转式镀银结构由翻板和电镀箱组成；所述支撑架顶端设有吸入腔，所述吸入腔一侧连接有反应腔，所述反应腔侧壁上连接有出气口，所述吸入腔远离反应腔的端部与电镀箱之间通过气管相连通，所述吸入腔的外壁上安装有电机，所述电机端部通过转轴连接有圆柱状的转柱，所述转柱的外表面分别与吸入腔的内壁相贴合，所述转柱侧壁上开设有一组环形均布的输送槽，所述输送槽内部滑动连接有磁性板，所述磁性板的外表面与输送槽的内壁相贴合，所述输送槽的外端均设置有限位块，所述吸入腔远离电镀箱的一端内壁上设有磁性材质且能够对磁性板进行排斥的排斥板，所述吸入腔与排斥板相对的内壁上连接有磁性材质且能够对磁性板进行吸引的吸附板，所述吸附板与转柱之间的吸入腔内壁上对称连接有挡块，所述挡块靠近转柱的一面分别设置成与转柱侧壁相贴合的弧形状；工作时，现有技术中的镀银装置虽然能够通过气管将电镀箱电镀所产生的废气排入储液腔中，但由于储液腔内部盛有液态的反应液，使得废气需要克服反应液的压力才能顺利的进入储液腔中，从而影响废气进入储液腔的效率与质量，同时储液腔中的反应液还存在倒灌进电镀箱的风险，从而影响后续滤波器内腔的加工质量；而本发明中的镀银装置在使用时，电镀箱中所产生的废气能够通过气管流入吸入腔远离反应腔的一端，同时吸入腔处的电机工作并带动转柱进行转动，当转柱带动输送槽运动至排斥板一侧时，排斥板能够对磁性板进行排斥并使其滑动至输送槽内端，从而使得磁性板能够将吸入腔中的废气吸入输送槽内部，随后转柱在转动时能够带动储存有废气的输送槽运动至吸附板处，此时吸附板能够对磁性板进行吸引，并带动磁性板将输送槽内部的废气推出至反应腔中，并与放置在反应腔中的反应液接触作用后变成无毒气体从出气口流出，同时由于磁性板运动至输送槽最外端，使得磁性板能够对输送槽槽口起到封堵作用，减少反应腔中的反应液或废气从转动的输送槽倒流的情况，而不停转动的转柱能够将废气充分高效的运送至反应腔中，提高了废气的收集处理效果，且设置的挡块与转柱能够使得吸入腔两侧进行有效的隔断，大大减少了反应液从气管倒灌进电镀箱的情况，从而减少滤波器内腔在后续的加工中出现的镀银不良的情况。
优选的，所述磁性板外端分别设置有与限位块相配合的避让槽，且所述磁性板外端设置成与转柱侧壁形状相匹配的弧形面，所述限位块与避让槽相卡合时，所述磁性板外端的弧形面与转柱的侧壁相齐平；工作时，通过设置的避让槽与磁性板外端的形状，当磁性板在吸附板的作用下带动避让槽与限位块相卡合时，此时磁性板外端的弧形面能够恰好与转柱的侧壁相齐平，从而能够将输送槽内部运送的废气更充分的推出，同时也减少反应液因残留在输送槽外端而被转动的输送槽带出的情况。
优选的，所述输送槽的设置数量为偶数，且对称两输送槽的内端之间所对应的转柱内部分别开设有连通槽；工作时，当磁性板在排斥板的作用下向输送槽内端滑动时，此时磁性板能够推动输送槽内端的气体从连通槽流出至对称的输送槽内部，从而使得另一输送槽中的磁性板能够更有效的滑出并将废气推出，同时设置的连通槽也能对输送槽内部起到泄压的作用，减少连通槽内部的气压对磁性板的运动所产生的阻碍，从而使得磁性板能够更顺利有效的进行工作。
优选的，所述反应腔设置成圆柱状，所述反应腔的两端中部之间转动连接有转杆，所述转杆端部所对应的反应腔侧壁上设有驱动结构，所述转杆侧壁上连接有一组环形均布的转板；工作时，将反应液放置在转板与反应腔内壁所组成的腔室中，随后驱动结构带动转杆与转板进行运动，并对反应液进行搅动，促进了废气与反应液的充分混合与接触，从而使得废气能够更高效的被处理。
优选的，所述出气口设置在反应腔竖直中心线的顶端，所述出气口内部安装有单向阀；工作时，通过设置装在反应腔内部的反应液体积，使得两转板之间的反应液液面在运动至反应腔顶端时，始终与出气口内端保持一定的间隙，从而能够减少反应液从出气口外溢的情况，同时设置的单向阀只能使得反应腔内部的气体单向流出，从而减少外界的气体因进入反应腔内部导致反应液失效的情况。
优选的，所述转板外端分别开设有滑腔，所述滑腔内部分别滑动连接有滑板，所述滑板与滑腔内端之间连接有弹性体，所述吸附板与吸入腔底面靠近反应腔的一侧分别设置有倾斜的导向面；工作时，当转板运动至吸入腔的内端一侧时，此时滑板在弹性体的作用下从滑腔内部滑出，从而延长了转板对反应液的搅动范围，同时当转板带动滑板继续运动至导向面上时，此时滑板在导向面的挤压下能够回缩至滑腔内部，直至滑板在反应腔内壁的限位下贴着反应腔内壁滑动，从而使得转板的转动能够顺利有效的进行。
优选的，所述滑板外端连接有磁性块，所述反应腔的内壁上镶嵌有一组均匀分布的磁性层，所述磁性块与磁性层相互靠近的一端磁极相同，所述滑板外端分别通过弹簧连接有拨动板；工作时，当滑板外端贴着反应腔内壁滑动时，若磁性块运动至磁性层位置时，此时磁性层能够对磁性块进行排斥，从而使得磁性块能够带动滑板向滑腔内端滑动，此时滑板能够通过弹簧带动拨动板在反应液内部来回抖动，加快了反应液与废气的混合反应，从而进一步提高了废气的处理效果。
优选的，所述滑板侧壁与对应的滑腔侧壁分别贴合，所述滑腔内端分别开设有一组贯通式的流通孔；工作时，当滑板在磁性块的带动下向滑腔内部滑动时，此时滑板能够将流入滑腔内部的反应液通过流通孔挤出，同时当滑板进行复位时，此时反应液能够通过流通孔再次被吸入滑腔内部，进一步加剧了反应液与废气的混合反应。
优选的，相邻两转板之间分别设置有连接杆，所述连接杆端部分别转动连接有转台，所述转台底端设有重力块，且所述转台侧壁上连接有一组均匀分布的搅动板；工作时，当转板带动转台运动时，此时转台上的重力块在自身重力的作用下始终竖直朝下，使得转台能够有效的转动并带动搅动板同步运动，并对反应液进行搅动，从而进一步提高了反应液与废气的混合反应。
优选的，所述转杆内部设置有环形腔，所述所述环形腔的侧壁上安装有环形的电磁铁，且相邻两转板之间所对应的转杆侧壁上分别开设有与环形腔相连通的换液槽，所述换液槽内部设有支撑板，所述换液槽外端分别设有能够被电磁铁排斥的封堵块，所述封堵块与支撑板之间分别连接有弹性块；工作时，封堵块在弹性块的作用下能够有效的封堵在换液槽槽口，从而使得反应腔内部的反应液能够正常工作，当需要对反应腔内部的反应液进行更换时，此时电磁铁工作并对封堵块进行排斥，使得换液槽处于打开状态，从而使得反应腔内部的反应液能够便捷的流出，当需要充注反应液时，此时通过外界的水泵将反应液从环形腔与换液槽充入反应腔内部即可，从而使得反应腔内部的反应液在更换时更加方便快捷。
本发明的有益效果如下：
1.本发明通过设置的镀银装置，减少反应腔中反应液或废气倒流的情况，而不停转动的转柱能够将废气充分高效的运送至反应腔中，提高了废气的收集处理效果，且设置的挡块与转柱能够使得吸入腔两侧进行有效的隔断，大大减少了反应液从气管倒灌进电镀箱的情况，从而减少滤波器内腔在后续的加工中出现的镀银不良的情况。
2.本发明通过设置反应腔的内部结构，使得反应腔内部的转杆与转板在转动时能够对反应液进行搅动，促进了废气与反应液的充分混合与接触，从而使得废气能够更高效的被处理。
附图说明
下面结合附图对本发明作进一步说明。
图1是本发明的立体示意图；
图2是本发明的结构示意图；
图3是图2中a处的放大图；
图4是图3中b处的放大图；
图5是图3中c处的放大图；
图6是本发明中转杆内部的结构示意图；
图中：支撑架1、翻板2、电镀箱3、吸入腔4、反应腔5、出气口6、气管7、转柱8、输送槽9、磁性板10、限位块11、排斥板12、吸附板13、挡块14、避让槽15、弧形面16、连通槽17、转杆18、转板19、单向阀20、滑腔21、滑板22、弹性体23、导向面24、磁性块25、磁性层26、弹簧27、拨动板28、流通孔29、连接杆30、转台31、重力块32、搅动板33、环形腔34、电磁铁35、换液槽36、支撑板37、封堵块38、弹性块39。
具体实施方式
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合实施方式，进一步阐述本发明。
实施例一：
如图1-图5所示，本发明所述的一种腔体滤波器内腔镀银装置，包括支撑架1，所述支撑架1上设有翻转式镀银结构，所述翻转式镀银结构由翻板2和电镀箱3组成；所述支撑架1顶端设有吸入腔4，所述吸入腔4一侧连接有反应腔5，所述反应腔5侧壁上连接有出气口6，所述吸入腔4远离反应腔5的端部与电镀箱3之间通过气管7相连通，所述吸入腔4的外壁上安装有电机，所述电机端部通过转轴连接有圆柱状的转柱8，所述转柱8的外表面分别与吸入腔4的内壁相贴合，所述转柱8侧壁上开设有一组环形均布的输送槽9，所述输送槽9内部滑动连接有磁性板10，所述磁性板10的外表面与输送槽9的内壁相贴合，所述输送槽9的外端均设置有限位块11，所述吸入腔4远离电镀箱3的一端内壁上设有磁性材质且能够对磁性板10进行排斥的排斥板12，所述吸入腔4与排斥板12相对的内壁上连接有磁性材质且能够对磁性板10进行吸引的吸附板13，所述吸附板13与转柱8之间的吸入腔4内壁上对称连接有挡块14，所述挡块14靠近转柱8的一面分别设置成与转柱8侧壁相贴合的弧形状；工作时，现有技术中的镀银装置虽然能够通过气管7将电镀箱3电镀所产生的废气排入储液腔中，但由于储液腔内部盛有液态的反应液，使得废气需要克服反应液的压力才能顺利的进入储液腔中，从而影响废气进入储液腔的效率与质量，同时储液腔中的反应液还存在倒灌进电镀箱3的风险，从而影响后续滤波器内腔的加工质量；而本发明中的镀银装置在使用时，电镀箱3中所产生的废气能够通过气管7流入吸入腔4远离反应腔5的一端，同时吸入腔4处的电机工作并带动转柱8进行转动，当转柱8带动输送槽9运动至排斥板12一侧时，排斥板12能够对磁性板10进行排斥并使其滑动至输送槽9内端，从而使得磁性板10能够将吸入腔4中的废气吸入输送槽9内部，随后转柱8在转动时能够带动储存有废气的输送槽9运动至吸附板13处，此时吸附板13能够对磁性板10进行吸引，并带动磁性板10将输送槽9内部的废气推出至反应腔5中，并与放置在反应腔5中的反应液接触作用后变成无毒气体从出气口6流出，同时由于磁性板10运动至输送槽9最外端，使得磁性板10能够对输送槽9槽口起到封堵作用，减少反应腔5中的反应液或废气从转动的输送槽9倒流的情况，而不停转动的转柱8能够将废气充分高效的运送至反应腔5中，提高了废气的收集处理效果，且设置的挡块14与转柱8能够使得吸入腔4两侧进行有效的隔断，大大减少了反应液从气管7倒灌进电镀箱3的情况，从而减少滤波器内腔在后续加工中出现的镀银不良的情况。
作为本发明的一种实施方式，所述磁性板10外端分别设置有与限位块11相配合的避让槽15，且所述磁性板10外端设置成与转柱8侧壁形状相匹配的弧形面16，所述限位块11与避让槽15相卡合时，所述磁性板10外端的弧形面16与转柱8的侧壁相齐平；工作时，通过设置的避让槽15与磁性板10外端的形状，当磁性板10在吸附板13的作用下带动避让槽15与限位块11相卡合时，此时磁性板10外端的弧形面16能够恰好与转柱8的侧壁相齐平，从而能够将输送槽9内部运送的废气更充分的推出，同时也减少反应液因残留在输送槽9外端而被转动的输送槽9带出的情况。
作为本发明的一种实施方式，所述输送槽9的设置数量为偶数，且对称两输送槽9的内端之间所对应的转柱8内部分别开设有连通槽17；工作时，当磁性板10在排斥板12的作用下向输送槽9内端滑动时，此时磁性板10能够推动输送槽9内端的气体从连通槽17流出至对称的输送槽9内部，从而使得另一输送槽9中的磁性板10能够更有效的滑出并将废气推出，同时设置的连通槽17也能对输送槽9内部起到泄压的作用，减少连通槽17内部的气压对磁性板10的运动所产生的阻碍，从而使得磁性板10能够更顺利有效的进行工作。
作为本发明的一种实施方式，所述反应腔5设置成圆柱状，所述反应腔5的两端中部之间转动连接有转杆18，所述转杆18端部所对应的反应腔5侧壁上设有驱动结构，所述转杆18侧壁上连接有一组环形均布的转板19；工作时，将反应液放置在转板19与反应腔5内壁所组成的腔室中，随后驱动结构带动转杆18与转板19进行运动，并对反应液进行搅动，促进了废气与反应液的充分混合与接触，从而使得废气能够更高效的被处理。
作为本发明的一种实施方式，所述出气口6设置在反应腔5竖直中心线的顶端，所述出气口6内部安装有单向阀20；工作时，通过设置装在反应腔5内部的反应液体积，使得两转板19之间的反应液液面在运动至反应腔5顶端时，始终与出气口6内端保持一定的间隙，从而能够减少反应液从出气口6外溢的情况，同时设置的单向阀20只能使得反应腔5内部的气体单向流出，从而减少外界的气体因进入反应腔5内部导致反应液失效的情况。
作为本发明的一种实施方式，所述转板19外端分别开设有滑腔21，所述滑腔21内部分别滑动连接有滑板22，所述滑板22与滑腔21内端之间连接有弹性体23，所述吸附板13与吸入腔4底面靠近反应腔5的一侧分别设置有倾斜的导向面24；工作时，当转板19运动至吸入腔4的内端一侧时，此时滑板22在弹性体23的作用下从滑腔21内部滑出，从而延长了转板19对反应液的搅动范围，同时当转板19带动滑板22继续运动至导向面24上时，此时滑板22在导向面24的挤压下能够回缩至滑腔21内部，直至滑板22在反应腔5内壁的限位下贴着反应腔5内壁滑动，从而使得转板19的转动能够顺利有效的进行。
作为本发明的一种实施方式，所述滑板22外端连接有磁性块25，所述反应腔5的内壁上镶嵌有一组均匀分布的磁性层26，所述磁性块25与磁性层26相互靠近的一端磁极相同，所述滑板22外端分别通过弹簧27连接有拨动板28；工作时，当滑板22外端贴着反应腔5内壁滑动时，若磁性块25运动至磁性层26位置时，此时磁性层26能够对磁性块25进行排斥，从而使得磁性块25能够带动滑板22向滑腔21内端滑动，此时滑板22能够通过弹簧27带动拨动板28在反应液内部来回抖动，加快了反应液与废气的混合反应，从而进一步提高了废气的处理效果。
作为本发明的一种实施方式，所述滑板22侧壁与对应的滑腔21侧壁分别贴合，所述滑腔21内端分别开设有一组贯通式的流通孔29；工作时，当滑板22在磁性块25的带动下向滑腔21内部滑动时，此时滑板22能够将流入滑腔21内部的反应液通过流通孔29挤出，同时当滑板22进行复位时，此时反应液能够通过流通孔29再次被吸入滑腔21内部，进一步加剧了反应液与废气的混合反应。
作为本发明的一种实施方式，相邻两转板19之间分别设置有连接杆30，所述连接杆30端部分别转动连接有转台31，所述转台31底端设有重力块32，且所述转台31侧壁上连接有一组均匀分布的搅动板33；工作时，当转板19带动转台31运动时，此时转台31上的重力块32在自身重力的作用下始终竖直朝下，使得转台31能够有效的转动并带动搅动板33同步运动，并对反应液进行搅动，从而进一步提高了反应液与废气的混合反应。
实施例二：
如图6所示，在实施例一的基础上，本发明提供一种技术方案：所述转杆18内部设置有环形腔34，所述所述环形腔34的侧壁上安装有环形的电磁铁35，且相邻两转板19之间所对应的转杆18侧壁上分别开设有与环形腔34相连通的换液槽36，所述换液槽36内部设有支撑板37，所述换液槽36外端分别设有能够被电磁铁35排斥的封堵块38，所述封堵块38与支撑板37之间分别连接有弹性块39；工作时，封堵块38在弹性块39的作用下能够有效的封堵在换液槽36槽口，从而使得反应腔5内部的反应液能够正常工作，当需要对反应腔5内部的反应液进行更换时，此时电磁铁35工作并对封堵块38进行排斥，使得换液槽36处于打开状态，从而使得反应腔5内部的反应液能够便捷的流出，当需要充注反应液时，此时通过外界的水泵将反应液从环形腔34与换液槽36充入反应腔5内部即可，从而使得反应腔5内部的反应液在更换时更加方便快捷。
工作时，电镀箱3中所产生的废气能够通过气管7流入吸入腔4远离反应腔5的一端，同时吸入腔4处的电机工作并带动转柱8进行转动，当转柱8带动输送槽9运动至排斥板12一侧时，排斥板12能够对磁性板10进行排斥并使其滑动至输送槽9内端，从而使得磁性板10能够将吸入腔4中的废气吸入输送槽9内部，随后转柱8在转动时能够带动储存有废气的输送槽9运动至吸附板13处，此时吸附板13能够对磁性板10进行吸引，并带动磁性板10将输送槽9内部的废气推出至反应腔5中，并与放置在反应腔5中的反应液接触作用后变成无毒气体从出气口6流出，同时由于磁性板10运动至输送槽9最外端，使得磁性板10能够对输送槽9槽口起到封堵作用，减少反应腔5中的反应液或废气从转动的输送槽9倒流的情况，而不停转动的转柱8能够将废气充分高效的运送至反应腔5中，提高了废气的收集处理效果，且设置的挡块14与转柱8能够使得吸入腔4两侧进行有效的隔断，大大减少了反应液从气管7倒灌进电镀箱3的情况，从而减少滤波器内腔在后续的加工中出现的镀银不良的情况。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中的描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
