本实用新型涉及灌装机技术领域，更具体的说涉及一种膏体灌装机。
背景技术：
灌装设备，主要是包装机中的一类产品，从对物料的包装角度可分为液体灌装机、膏体灌装机、粉剂灌装机、颗粒灌装机；从生产的自动化程度来讲，分为半自动灌装机和全自动灌装生产线；其中膏体灌装机是利用压缩空气作为动力，由精密气动元件构成一个自动灌装系统，结构简单、动作灵敏可靠、调节方便，适应各种液体、粘稠流体、膏体灌装也适用在易燃易爆环境下工作，是制药、化工、食品，化妆品等行业最理想的灌装设备。
现有的膏体灌装机，包括底座、支架、工作台、软壳定位装置、料斗、计量装置和灌注装置，所述工作台与底座固定连接并且位于底座的上方，所述支架固定连接于工作台上，所述软壳定位装置包括软壳夹具和定位气缸，所述软壳夹具位于工作台上，所述定位气缸竖直设置在底座上，并且定位气缸的活塞杆连接软壳夹具，所述料斗与计量装置连接，所述灌注装置包括灌注气缸、灌注筒和灌注嘴，所述灌注筒竖直布置与支架固定连接并且灌注筒连接计量装置，所述灌注气缸竖直布置并且位于灌注筒上方，所述灌注嘴位于灌注筒的下方与灌注筒固定连接；
在灌装时，先把软壳放置在软壳夹具上，然后定位气缸上升带动软壳夹具和软壳上升，使灌注嘴伸入到软壳中，然后开始灌注，随着灌注的进行，定位气缸活塞杆收缩，带动软壳夹具和软壳下降，使灌注嘴慢慢伸出软壳，但是在灌装时，灌注嘴会沾到膏体，膏体长时间粘在灌注嘴上暴露在空气中会变质，并且在下一次灌注时触碰到软壳内新灌注的膏体，对新的灌注的膏体进行污染，影响灌注好的膏体的品质。
技术实现要素：
针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种膏体灌装机，在多次灌注嘴对软壳进行灌注后，可以通过清洁装置对灌注嘴进行清洁，保证灌注时软壳内的新灌注的膏体不会受到污染。
为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：
一种膏体灌装机，包括底座、支架、工作台、软壳定位装置和依次连接的料斗、计量装置和灌注装置，所述支架上设置有清洁装置，所述清洁装置包括清洁气缸、清洁底座和清洁件，所述清洁气缸水平布置并且与支架固定连接，所述清洁底座与清洁气缸的活塞杆连接，所述清洁件设置于清洁底座上。
进一步所述清洁底座上有凹槽，所述凹槽长度方向的一侧设置有开口，所述清洁气缸的活塞杆连接开口的相对侧，所述清洁件包括两组清洁刮板，每组清洁刮板包括两个清洁刮板，每个清洁刮板均呈圆弧状，每组清洁刮板中的两个清洁刮板分别位于凹槽长度方向的两侧并且竖直布置，并且两个清洁刮板的凹侧位于同一侧，两组清洁刮板的凹侧相对布置，所述每个清洁刮板均采用弹性材料。
进一步所述支架上设置有清洗装置，所述清洗装置包括进水管和清洗喷头，所述进水管与支架固定连接，所述清洗喷头与进水管固定连接。
进一步所述凹槽的底部设置有出水口，所述出水口的下方设置有污水收集盆，所述污水收集盆接连有出水管，所述污水收集盆固定连接于支架上。
进一步所述凹槽的底部为倾斜式，由开口侧向开口的相对侧倾斜，所述出水口设置于凹槽底部最低处。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：通过设置清洁装置，在多次灌注后，使用清洁装置对灌注头进行清洁，使灌注头保持干净整洁，保证灌注时软壳内的新灌注的膏体不会受到污染；通过设置清洗装置，在清洁装置对灌注嘴进行清洁后，通过清洗装置对清洁刮板进行清洗，保证清洁刮板能够有效清洁灌注嘴。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图，其中：
图1为本实用新型所述的一种膏体灌装机的结构示意图；
图2为清洁装置的俯视图；
图3为清洁装置的半剖视图；
图4为图1中a处的局部放大图。
图中标记为：1、底座；2、工作台；3、支架；4、料斗；5、计量筒；6、计量驱动气缸；7、灌注气缸；8、灌注筒；9、灌注嘴；10、软壳夹具；11、定位气缸；12、清洁气缸；13、清洁底座；14、凹槽；15、清洁刮板；16、出水口；17、清洗喷头；18、进水管；19、污水收集盆；20、出水管。
具体实施方式
在本实用新型的描述中，需要说明的是，对于方位词，如有术语“中心”，“横向(x)”、“纵向(y)”、“竖向(z)”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示方位和位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于叙述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定方位构造和操作，不能理解为限制本实用新型的具体保护范围。
此外，如有术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或隐含指明技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”特征可以明示或者隐含包括一个或者多个该特征，在本实用新型描述中，“数个”、“若干”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
一种膏体灌装机，包括底座1、支架3、工作台2、软壳定位装置、料斗4、计量装置和灌注装置，所述工作台2与底座1固定连接并且位于底座1的上方，所述支架3固定连接与工作台2上，所述软壳定位装置包括软壳夹具10和定位气缸11，所述软壳夹具10位于工作台2上，所述定位气缸11竖直设置在底座1上，并且定位气缸11的活塞杆连接软壳夹具10，所述灌注装置包括依次连接的灌注气缸7、灌注筒8和灌注嘴9，所述灌注筒8与支架3固定连接，所述计量装置包括计量筒5和计量驱动气缸6，所述计量筒5连接料斗4和灌注筒8，计量驱动气缸6连接计量筒5，所述支架3上设置有清洁装置，所述清洁装置包括清洁气缸12、清洁底座13和清洁件，所述清洁气缸12水平布置并且与支架3固定连接，所述清洁底座13与清洁气缸12的活塞杆连接，所述清洁件设置于清洁底座13上；
在把膏体灌入软壳内时，先把软壳放置在软壳夹具10上，然后启动定位气缸11，使定位气缸11驱动，带动软壳夹具10和软壳上升直至灌注嘴9伸入至软壳内，然后计量装置工作，计量驱动气缸6先从料斗4内吸取定量的膏体到计量筒5内，然后再排出至灌注筒8内，然后灌注气缸7驱动，挤压灌注筒8内的膏体，使膏体从灌注嘴9内挤出至软壳内，随着膏体的挤出，定位气缸11工作慢慢的收缩，带动软壳和软壳夹具10慢慢下降，使灌注嘴9在灌入膏体的同时慢慢伸出软壳，当灌注筒8内的膏体被灌注至软壳后，并且软壳夹具10和软壳也下降至工作台2上时，完成灌注；在多次灌注后，灌注嘴9上会沾到需要膏体，然后使用清洁装置，通过清洁气缸12工作带动清洁底座13向灌注嘴9移动，移动的过程中清洁底座13上的清洁件对灌注嘴9进行清洁，当清洁气缸12收缩，带动清洁底座13回到原来的位置时，完成对灌注嘴9的清洁。
优选的，如图2和图3所示，所述清洁底座13上有凹槽14，所述凹槽14长度方向的一侧设置有开口，所述清洁气缸12的活塞杆连接开口的相对侧，所述清洁件包括两组清洁刮板15，每组清洁刮板15包括两个清洁刮板15，每个清洁刮板15均呈圆弧状，每组清洁刮板15中的两个清洁刮板15分别位于凹槽14长度方向的两侧并且竖直布置，并且两个清洁刮板15的凹侧位于同一侧，两组清洁刮板15的凹侧相对布置，所述每个清洁刮板15均采用弹性材料；
通常灌注嘴9都是呈圆柱形的，对灌注嘴9进行清洁时，如图2所示，在清洁气缸12带动清洁底座13向灌注嘴9移动时，灌注嘴9先进入到d区域，最右侧的一组清洁刮板15会最先接触灌注嘴9，然后灌注嘴9进入到e区域，当最左侧的一组清洁刮板15与灌注嘴9进行接触时，并且随着清洁底座13的不断向右移动，最左侧的一组清洁刮板15开始对灌注嘴9b侧圆柱侧面进行清洁，刮除灌注嘴9上的膏体，当灌注嘴9完全处于f区域并且不与最左侧的一组清洁刮板15接触时，灌注嘴9b侧圆柱侧面清洁完成，然后清洁气缸12收缩，带动清洁底座13向左移动，灌注嘴9从f区域进入到e区域，然后灌注嘴9开始与最右侧的一组清洁刮板15接触，当灌注嘴9从e区域进入到d区域并且不与最右侧的一组清洁刮板15接触时，灌注嘴9c侧圆柱侧面清洁完成，然后清洁气缸12带动清洁底座13回到最初的位置远离灌注嘴9，避免影响膏体的灌注。
优选的，所述支架3上设置有清洗装置，所述清洗装置包括进水管18和清洗喷头17，所述进水管18与支架3固定连接，并且进水管18采用竹节管，所述清洗喷头17与进水管18固定连接；如图1所示，通过设置进水管18和清洗喷头17，在清洁刮板15长时间对灌注嘴9进行清洁后，清洁刮板15上会残留大量膏体，通过进水管18连接外部的水管，然后通过清洗喷头17射出干净的水对清洁刮板15进行清洗，洗去清洁刮板15上残留的膏体，并且进水管18采用竹节管可以自由调节清洗喷头17的角度，能够有效的对清洁刮板15进行清洗，保证清洁刮板15的对灌注嘴9的清洁能力不会降低。
优选的，如图3所示，所述凹槽14的底部设置有出水口16，如图4所示，所述出水口16的下方设置有污水收集盆19，所述污水收集盆19接连有出水管20，所述污水收集盆19固定连接于支架3上；通过设置出水口16和污水收集盆19，使清洗完清洁刮板15的污水从出水口16排出，流入到污水收集盆19中并且通过出水管20流出，使整个装置能够保持干净整洁。
优选的，所述凹槽14的底部为倾斜式，由开口侧向开口的相对侧倾斜，所述出水口16设置于凹槽14底部最低处；如图3所示，通过把凹槽14的底部设置成倾斜式的，并且把出水口16设置在凹槽14底部最低处，使清洗完清洁刮板15的污水在凹槽14底部自动向左下方流动，并且从出水口16排出。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
1.一种膏体灌装机，包括底座、支架、工作台、软壳定位装置、料斗、计量装置和灌注装置，其特征在于：所述支架上设置有清洁装置，所述清洁装置包括清洁气缸、清洁底座和清洁件，所述清洁气缸水平布置并且与支架固定连接，所述清洁底座与清洁气缸的活塞杆连接，所述清洁件设置于清洁底座上。
2.根据权利要求1所述的一种膏体灌装机，其特征在于：所述清洁底座上有凹槽，所述凹槽长度方向的一侧设置有开口，所述清洁气缸的活塞杆连接开口的相对侧，所述清洁件包括两组清洁刮板，每组清洁刮板包括两个清洁刮板，每个清洁刮板均呈圆弧状，每组清洁刮板中的两个清洁刮板分别位于凹槽长度方向的两侧并且竖直布置，并且两个清洁刮板的凹侧位于同一侧，两组清洁刮板的凹侧相对布置，所述每个清洁刮板均采用弹性材料。
3.根据权利要求2所述的一种膏体灌装机，其特征在于：所述支架上设置有清洗装置，所述清洗装置包括进水管和清洗喷头，所述进水管与支架固定连接，所述清洗喷头与进水管固定连接。
4.根据权利要求3所述的一种膏体灌装机，其特征在于：所述凹槽的底部设置有出水口，所述出水口的下方设置有污水收集盆，所述污水收集盆接连有出水管，所述污水收集盆固定连接于支架上。
5.根据权利要求4所述的一种膏体灌装机，其特征在于：所述凹槽的底部为倾斜式，由开口侧向开口的相对侧倾斜，所述出水口设置于凹槽底部最低处。
技术总结