一种纳米级二氧化硅生产用气流粉碎装置的制作方法

专利2022-05-09  31


本实用新型涉及气流粉碎装置技术领域,具体为一种纳米级二氧化硅生产用气流粉碎装置。



背景技术:

纳米二氧化硅;白色蓬松粉沫,多孔性,无毒无味无污染,耐高温,同时它具备的化学惰性以及特殊的触变性能明显改善橡胶制品的抗拉强度,抗撕裂性和耐磨性,橡胶改良后强度提高数十倍,液体系统、粘合剂、聚合物等的流变性与触变性控制、用作防沉、增稠、防流挂的助剂、hcr与rtv-2k硅酮橡胶的补强、可用来调节自由流动和作为抗结块剂来改善粉末性质等等,纳米二氧化硅在生产时需要用到气流粉碎装置,然而现有的纳米级二氧化硅生产用气流粉碎装置粉碎效率差,耗时长,从而容易降低生产效率。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种纳米级二氧化硅生产用气流粉碎装置,具备高效粉碎的优点,解决了现有的纳米级二氧化硅生产用气流粉碎装置粉碎效率差,耗时长,从而容易降低生产效率的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种纳米级二氧化硅生产用气流粉碎装置,包括底板,所述底板的顶部固定连接有粉碎箱,所述粉碎箱的顶部固定连接有电机,所述电机的输出端通过轴承活动连接有转动轴,所述转动轴的表面固定连接有搅拌杆,所述粉碎箱两侧的顶部均开设有进料口,所述底板顶部的左侧固定连接有空气压缩机本体,所述空气压缩机本体的顶部连通有第一传输管,所述底板顶部的左侧固定连接有冷干机本体,所述第一传输管远离空气压缩机本体的一端与冷干机本体相连通,所述冷干机本体的右侧连通有第二传输管,所述第二传输管远离冷干机本体的一端与粉碎箱相连通,所述底板顶部的右侧固定连接有收集箱。

优选的,所述粉碎箱与收集箱之间均固定连接有承载板,承载板的顶部通过支架固定连接有风机,所述风机的底部连通有出料管,所述出料管远离风机的一端与粉碎箱相连通,所述风机的顶部连通有排料管,所述排料管远离风机的一端与收集箱相连通。

优选的,所述收集箱内腔两侧的顶部均固定连接有固定块,所述固定块的顶部设置有筛网,所述固定块的内腔螺纹连接有螺栓,所述螺栓的顶部贯穿固定块并延伸至筛网的内腔,所述收集箱内腔的底部放置有收集盒。

优选的,所述收集箱正面的左侧通过铰链铰接有箱门,所述箱门正面的右侧固定连接有门把手。

优选的,所述粉碎箱正面的顶部固定连接有控制器,所述控制器分别与电机和风机电性连接。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果如下:

1、本实用新型通过粉碎箱、电机、转动轴、搅拌杆、进料口、空气压缩机本体、第一传输管、冷干机本体、第二传输管和收集箱的配合使用,具备高效粉碎的优点,解决了现有的纳米级二氧化硅生产用气流粉碎装置粉碎效率差,耗时长,从而容易降低生产效率的问题。

2、本实用新型通过设置风机,能够便于将粉碎后的纳米二氧化硅粉末抽入收集箱,通过设置螺栓,能够便于对筛网进行拆卸,便于对筛网进行清洗,避免筛网长时间使用会堵塞,通过设置箱门和门把手,能够便于取出粉碎后的纳米二氧化硅。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图;

图2为本实用新型结构主视图;

图3为本实用新型图1中a的放大图。

图中:1、底板;2、粉碎箱;3、电机;4、转动轴;5、搅拌杆;6、进料口;7、空气压缩机本体;8、第一传输管;9、冷干机本体;10、第二传输管;11、收集箱;12、风机;13、出料管;14、排料管;15、固定块;16、筛网;17、螺栓;18、收集盒;19、箱门;20、控制器。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-3,一种纳米级二氧化硅生产用气流粉碎装置,包括底板1,底板1的顶部固定连接有粉碎箱2,粉碎箱2的顶部固定连接有电机3,电机3的输出端通过轴承活动连接有转动轴4,转动轴4的表面固定连接有搅拌杆5,粉碎箱2两侧的顶部均开设有进料口6,底板1顶部的左侧固定连接有空气压缩机本体7,空气压缩机本体7的顶部连通有第一传输管8,底板1顶部的左侧固定连接有冷干机本体9,第一传输管8远离空气压缩机本体7的一端与冷干机本体9相连通,冷干机本体9的右侧连通有第二传输管10,第二传输管10远离冷干机本体9的一端与粉碎箱2相连通,底板1顶部的右侧固定连接有收集箱11,粉碎箱2与收集箱11之间均固定连接有承载板,承载板的顶部通过支架固定连接有风机12,通过设置风机12,能够便于将粉碎后的纳米二氧化硅粉末抽入收集箱11,风机12的底部连通有出料管13,出料管13远离风机12的一端与粉碎箱2相连通,风机12的顶部连通有排料管14,排料管14远离风机12的一端与收集箱11相连通,收集箱11内腔两侧的顶部均固定连接有固定块15,固定块15的顶部设置有筛网16,固定块15的内腔螺纹连接有螺栓17,通过设置螺栓17,能够便于对筛网16进行拆卸,便于对筛网16进行清洗,避免筛网16长时间使用会堵塞,螺栓17的顶部贯穿固定块15并延伸至筛网16的内腔,收集箱11内腔的底部放置有收集盒18,收集箱11正面的左侧通过铰链铰接有箱门19,箱门19正面的右侧固定连接有门把手,通过设置箱门19和门把手,能够便于取出粉碎后的纳米二氧化硅,粉碎箱2正面的顶部固定连接有控制器20,控制器20分别与电机3和风机12电性连接,通过粉碎箱2、电机3、转动轴4、搅拌杆5、进料口6、空气压缩机本体7、第一传输管8、冷干机本体9、第二传输管10和收集箱11的配合使用,具备高效粉碎的优点,解决了现有的纳米级二氧化硅生产用气流粉碎装置粉碎效率差,耗时长,从而容易降低生产效率的问题。

使用时,将纳米二氧化硅原料经过进料口6添加入粉碎箱2,通过空气压缩机本体7提供高压空气,经过冷干机本体9的干燥处理后,高压空气通过第二传输管10传输入粉碎箱2,利用气流粉碎原理对纳米二氧化硅原料进行粉碎、研磨,通过控制器20启动电机3,电机3转动带动转动轴4转动,转动轴4转动带动搅拌杆5转动,搅拌杆5转动对纳米二氧化硅原料进行粉碎,粉碎完成后,通过控制器20启动风机12,风机12运行使出料管13对粉碎后的纳米二氧化硅进行抽取,粉碎后的纳米二氧化硅通过排料管14排入收集箱11,落入收集箱11的纳米二氧化硅经过筛网16进行筛选,直径过大的颗粒会落在筛网16上,便于进行二次粉碎,粉碎后的粉末落入收集盒18,打开箱门19取出收集盒18即可。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。


技术特征:

1.一种纳米级二氧化硅生产用气流粉碎装置,包括底板(1),其特征在于:所述底板(1)的顶部固定连接有粉碎箱(2),所述粉碎箱(2)的顶部固定连接有电机(3),所述电机(3)的输出端通过轴承活动连接有转动轴(4),所述转动轴(4)的表面固定连接有搅拌杆(5),所述粉碎箱(2)两侧的顶部均开设有进料口(6),所述底板(1)顶部的左侧固定连接有空气压缩机本体(7),所述空气压缩机本体(7)的顶部连通有第一传输管(8),所述底板(1)顶部的左侧固定连接有冷干机本体(9),所述第一传输管(8)远离空气压缩机本体(7)的一端与冷干机本体(9)相连通,所述冷干机本体(9)的右侧连通有第二传输管(10),所述第二传输管(10)远离冷干机本体(9)的一端与粉碎箱(2)相连通,所述底板(1)顶部的右侧固定连接有收集箱(11)。

2.根据权利要求1所述的一种纳米级二氧化硅生产用气流粉碎装置,其特征在于:所述粉碎箱(2)与收集箱(11)之间均固定连接有承载板,承载板的顶部通过支架固定连接有风机(12),所述风机(12)的底部连通有出料管(13),所述出料管(13)远离风机(12)的一端与粉碎箱(2)相连通,所述风机(12)的顶部连通有排料管(14),所述排料管(14)远离风机(12)的一端与收集箱(11)相连通。

3.根据权利要求1所述的一种纳米级二氧化硅生产用气流粉碎装置,其特征在于:所述收集箱(11)内腔两侧的顶部均固定连接有固定块(15),所述固定块(15)的顶部设置有筛网(16),所述固定块(15)的内腔螺纹连接有螺栓(17),所述螺栓(17)的顶部贯穿固定块(15)并延伸至筛网(16)的内腔,所述收集箱(11)内腔的底部放置有收集盒(18)。

4.根据权利要求1所述的一种纳米级二氧化硅生产用气流粉碎装置,其特征在于:所述收集箱(11)正面的左侧通过铰链铰接有箱门(19),所述箱门(19)正面的右侧固定连接有门把手。

5.根据权利要求1所述的一种纳米级二氧化硅生产用气流粉碎装置,其特征在于:所述粉碎箱(2)正面的顶部固定连接有控制器(20),所述控制器(20)分别与电机(3)和风机(12)电性连接。

技术总结
本实用新型公开了一种纳米级二氧化硅生产用气流粉碎装置,包括底板,所述底板的顶部固定连接有粉碎箱,所述粉碎箱的顶部固定连接有电机,所述电机的输出端通过轴承活动连接有转动轴,所述转动轴的表面固定连接有搅拌杆,所述粉碎箱两侧的顶部均开设有进料口,所述底板顶部的左侧固定连接有空气压缩机本体,所述空气压缩机本体的顶部连通有第一传输管。本实用新型通过粉碎箱、电机、转动轴、搅拌杆、进料口、空气压缩机本体、第一传输管、冷干机本体、第二传输管和收集箱的配合使用,具备高效粉碎的优点,解决了现有的纳米级二氧化硅生产用气流粉碎装置粉碎效率差,耗时长,从而容易降低生产效率的问题。

技术研发人员:徐前进;刘坤吉
受保护的技术使用者:江西宝弘纳米科技有限公司
技术研发日:2020.06.15
技术公布日:2021.08.03

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