本实用新型涉及反应釜技术领域，尤其涉及一种用于生产过渡金属纳米晶液晶材料的反应釜。
背景技术：
反应釜的广义理解即有物理或化学反应的容器，通过对容器的结构设计与参数配置，实现工艺要求的加热、蒸发、冷却及低高速的混配功能，反应釜广泛应用于石油、化工、橡胶、农药、染料、医药、食品，用来完成硫化、硝化、氢化、烃化、聚合、缩合等工艺过程的压力容器，例如反应器、反应锅、分解锅、聚合釜等，材质一般有碳锰钢、不锈钢、锆、镍基(哈氏、蒙乃尔、因康镍)合金及其它复合材料。
在制备液晶材料的工艺中，低温反应釜是最常见的设备之一，低温反应釜的工作温度很低，虽然现有技术中的低温反应釜有良好的隔热措施，但是这种低温在工作时还会通过低温反应釜内的金属转轴和金属转动杆向外散发，在外界空气中遇到空气会导致空气中的水分凝结或者形成霜冻，导致转动杆和转轴连接处发生碰撞，严重影响转轴的使用寿命。
专利号cn201821653818公布了一种用于生产液晶材料的反应釜，涉及液晶材料生产技术领域。实现了防止转动杆和转轴表面形成霜冻，提高转轴使用寿命的效果。该用于生产液晶材料的反应釜，包括本体机构和防冻机构，防冻机构位于本体机构的顶部，本体机构包括电机箱，电机箱的内部固定安装有电动机，电动机的输出端活动安装有转动杆，转动杆的外部套设有转轴，转动杆的底部固定安装有搅拌叶，搅拌叶的外部套设有反应釜本体。该用于生产液晶材料的反应釜，通过防冻机构的使用，使加热条将转动杆和转轴处凝结的冰霜融化，之后通过吸水海绵层上下往复移动对旋转的转动杆进行擦拭，将其和转轴上凝结的水珠完全擦拭干净，提高了转轴的使用寿命。
目前，在技术上存在一定不足：1、该反应釜不方便进行清洗导致反应釜的实用性降低；2、不能够对反应釜内的温度进行监控导致反应釜内的温度过高影响材料质量。
技术实现要素：
本实用新型提供一种用于生产过渡金属纳米晶液晶材料的反应釜，通过釜盖、铰链、圆槽、密封垫、卡锁和卡块的相互配合，从而方便对反应釜进行清洗增加反应釜的实用性，再通过加热丝、热电偶、支架、控制面板和固定块的相互配合，从而能够监控反应釜内的温度，可以有效解决背景技术中的问题。
本实用新型提供的具体技术方案如下：
本实用新型提供的一种用于生产过渡金属纳米晶液晶材料的反应釜，包括反应釜主体，所述反应釜主体的顶部右侧与釜盖的右侧通过铰链连接，所述釜盖的底部安装有密封垫，所述反应釜主体的顶部开设有圆槽且密封垫位于圆槽的内侧壁，所述釜盖的左侧安装有卡锁，所述反应釜主体的左侧安装有卡块，所述釜盖的顶部安装有电机，所述电机的输出端安装有联轴器，所述联轴器的输出端安装有转轴且转轴贯穿釜盖，所述转轴的另一端安装有搅拌叶，所述反应釜主体的内侧壁左侧安装有加热丝，所述反应釜主体的内侧壁右侧安装有热电偶，所述釜盖的左侧开设有进料口，所述反应釜主体的底部开设有出料口。
可选的，所述反应釜主体的外侧壁左侧安装有固定块，所述固定块有两组呈对称安装在反应釜主体的外侧壁右侧。
可选的，所述固定块的底部安装有支架，所述支架的外侧壁右侧安装有控制面板。
可选的，所述电机的输入端与加热丝的输入端均与控制面板的输出端电性连接。
可选的，所述控制面板的输入端与外部电源的输出端电性连接。
本实用新型的有益效果如下：
1、本实用新型实用，操作方便且使用效果好，反应釜主体的右侧顶部与釜盖的右侧底部通过铰链连接，从而釜盖能够在反应釜主体外侧壁进行转动，釜盖的底部安装有密封垫，反应釜主体的顶部开设有圆槽，密封垫位于圆槽内，能够将圆槽进行密封，釜盖的左侧安装有卡锁，反应釜主体左侧顶部安装有卡块，卡块与卡锁相互对称，从而通过卡锁与卡块连接，能够将釜盖固定在反应釜主体的顶部，需要将反应釜主体清洗时，通过打开卡锁，提升釜盖从而向反应釜内加入清洗液进行清洗，又由于反应釜主体的底部开设有出料口，从而通过出料口将污水进行排出，从而方便对反应釜进行清洗。
2、本实用新型中，反应釜主体的外侧壁左侧与右侧安装有一组对称固定块，固定块的底部安装有支架，支架的外侧壁右侧安装有控制面板，反应釜主体的内侧壁左侧安装有加热丝，加热丝的输入端与控制面板的输出端电性连接，从而打开控制面板后加热丝开始加热，反应釜主体的内侧壁右侧安装有热电偶，热电偶用来检测反应釜主体内的温度，控制面板的外侧壁设置有温度显示器，热电偶的输出端与温度显示器的输入端电性连接，从而热电偶检测温度后将温度以电性号传递给温度显示器，温度显示器将电信号转化为数字信号，从而能够实时显示反应釜主体内的温度，避免温度过高影响材料质量。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型实施例的一种用于生产过渡金属纳米晶液晶材料的反应釜的整体结构示意图；
图2为本实用新型实施例的一种用于生产过渡金属纳米晶液晶材料的釜盖的固定块结构示意图。
图中：1、反应釜主体；2、固定块；3、支架；4、电机；5、联轴器；6、进料口；7、加热丝；8、转轴；9、搅拌叶；10、热电偶；11、控制面板；12、出料口；13、釜盖；14、铰链；15、圆槽；16、密封垫；17、卡锁；18、卡块。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。
下面将结合图1~图2，对本实用新型实施例的一种用于生产过渡金属纳米晶液晶材料的反应釜进行详细的说明。
如图1-2所示，一种用于生产过渡金属纳米晶液晶材料的反应釜，包括反应釜主体1，所述反应釜主体1的顶部右侧与釜盖13的右侧通过铰链14连接，所述釜盖13的底部安装有密封垫16，所述反应釜主体1的顶部开设有圆槽15且密封垫16位于圆槽15的内侧壁，所述釜盖13的左侧安装有卡锁17，所述反应釜主体1的左侧安装有卡块18，所述釜盖13的顶部安装有电机4，所述电机4的输出端安装有联轴器5，所述联轴器5的输出端安装有转轴8且转轴8贯穿釜盖13，所述转轴8的另一端安装有搅拌叶9，所述反应釜主体1的内侧壁左侧安装有加热丝7，所述反应釜主体1的内侧壁右侧安装有热电偶10，所述釜盖13的左侧开设有进料口6，所述反应釜主体1的底部开设有出料口12。其中，反应釜主体1的顶部右侧与釜盖13的右侧通过铰链14连接，从而釜盖13能够在反应釜主体1的顶部右侧进行转动，釜盖13的底部安装有密封垫16，反应釜主体1的顶部开设有圆槽15密封垫16能够将圆槽15密封，从而通过打开釜盖13方便对反应釜主体1进行清洗。
本实施例中如图1所示，所述反应釜主体1的外侧壁左侧安装有固定块2，所述固定块2有两组呈对称安装在反应釜主体1的外侧壁右侧。其中，固定块2方便对支架3进行固定。
本实施例中如图1所示，所所述固定块2的底部安装有支架3，所述支架3的外侧壁右侧安装有控制面板11。其中，支架3能够将装置进行支撑。
本实施例中如图1所示，所述电机4的输入端与加热丝7的输入端均与控制面板11的输出端电性连接。其中，控制面板11方便人员操作。
本实施例中如图1所示，所述控制面板11的输入端与外部电源的输出端电性连接。其中，能够及时的切断外部电源防止人员触电。
需要说明的是，本实用新型为一种用于生产过渡金属纳米晶液晶材料的反应釜，工作时，反应釜主体1的右侧顶部与釜盖13的右侧底部通过铰链14连接，从而釜盖13能够在反应釜主体1外侧壁进行转动，釜盖13的底部安装有密封垫16，反应釜主体1的顶部开设有圆槽15，密封垫16位于圆槽15内，能够将圆槽15进行密封，釜盖13的左侧安装有卡锁17，反应釜主体1左侧顶部安装有卡块18，卡块18与卡锁17相互对称，从而通过卡锁17与卡块18连接，能够将釜盖13固定在反应釜主体1的顶部，需要将反应釜主体1清洗时，通过打开卡锁17，提升釜盖13从而向反应釜内加入清洗液进行清洗，又由于反应釜主体1的底部开设有出料口，从而通过出料口12将污水进行排出，从而方便对反应釜进行清洗，反应釜主体1的外侧壁左侧与右侧安装有一组对称固定块2，固定块2的底部安装有支架3，支架3的外侧壁右侧安装有控制面板11，反应釜主体1的内侧壁左侧安装有加热丝7，加热丝7的输入端与控制面板11的输出端电性连接，从而打开控制面板11后加热丝7开始加热，反应釜主体1的内侧壁右侧安装有热电偶10，热电偶10用来检测反应釜主体1内的温度，控制面板11的外侧壁设置有温度显示器，热电偶10的输出端与温度显示器的输入端电性连接，从而热电偶10检测温度后将温度以电性号传递给温度显示器，温度显示器将电信号转化为数字信号，从而能够实时显示反应釜主体1内的温度，避免温度过高影响材料质量。所述元器件具体的型号为：瑞高cr21al4加热丝；铂铑wrp-130热电偶；西门子1le001电机。
本实用新型的一种用于生产过渡金属纳米晶液晶材料的反应釜1、反应釜主体；2、固定块；3、支架；4、电机；5、联轴器；6、进料口；7、加热丝；8、转轴；9、搅拌叶；10、热电偶；11、控制面板；12、出料口；13、釜盖；14、铰链；15、圆槽；16、密封垫；17、卡锁；18、卡块部件均为通用标准件或本领域技术人员知晓的部件，其结构和原理都为本技术人员均可通过技术手册得知或通过常规实验方法获知。
显然，本领域的技术人员可以对本实用新型实施例进行各种改动和变型而不脱离本实用新型实施例的精神和范围。这样，倘若本实用新型实施例的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
1.一种用于生产过渡金属纳米晶液晶材料的反应釜，包括反应釜主体（1），其特征在于，所述反应釜主体（1）的顶部右侧与釜盖（13）的右侧通过铰链（14）连接，所述釜盖（13）的底部安装有密封垫（16），所述反应釜主体（1）的顶部开设有圆槽（15）且密封垫（16）位于圆槽（15）的内侧壁，所述釜盖（13）的左侧安装有卡锁（17），所述反应釜主体（1）的左侧安装有卡块（18），所述釜盖（13）的顶部安装有电机（4），所述电机（4）的输出端安装有联轴器（5），所述联轴器（5）的输出端安装有转轴（8）且转轴（8）贯穿釜盖（13），所述转轴（8）的另一端安装有搅拌叶（9），所述反应釜主体（1）的内侧壁左侧安装有加热丝（7），所述反应釜主体（1）的内侧壁右侧安装有热电偶（10），所述釜盖（13）的左侧开设有进料口（6），所述反应釜主体（1）的底部开设有出料口（12）。
2.根据权利要求1所述的一种用于生产过渡金属纳米晶液晶材料的反应釜，其特征在于，所述反应釜主体（1）的外侧壁左侧安装有固定块（2），所述固定块（2）有两组呈对称安装在反应釜主体（1）的外侧壁右侧。
3.根据权利要求2所述的一种用于生产过渡金属纳米晶液晶材料的反应釜，其特征在于，所述固定块（2）的底部安装有支架（3），所述支架（3）的外侧壁右侧安装有控制面板（11）。
4.根据权利要求1所述的一种用于生产过渡金属纳米晶液晶材料的反应釜，其特征在于，所述电机（4）的输入端与加热丝（7）的输入端均与控制面板（11）的输出端电性连接。
5.根据权利要求4所述的一种用于生产过渡金属纳米晶液晶材料的反应釜，其特征在于，所述控制面板（11）的输入端与外部电源的输出端电性连接。
技术总结