本实用新型涉及抛光机相关领域，具体是一种半导体抛光机。
背景技术：
抛光机也称为研磨机，常常用作机械式研磨、抛光及打蜡，其工作原理是：电动机带动安装在抛光机上的海绵或羊毛抛光盘高速旋转，由于抛光盘和抛光剂共同作用并与待抛表面进行摩擦，进而可达到去除漆面污染、氧化层、浅痕的目的，抛光盘的转速一般在1500-3000r/min，多为无级变速，施工时可根据需要随时调整。
在半导体生产时需要通过抛光机对其进行抛光，现有的抛光机设置有4个工位，每个工位都是气缸压力盘驱动部件，大盘上放置4个工位，大盘在旋转，每个工位在原地旋转，对半导体抛光均匀效果一般。
技术实现要素：
因此，为了解决上述不足，本实用新型在此提供一种半导体抛光机。
本实用新型是这样实现的，构造一种半导体抛光机，该装置包括底壳和抛光工位，所述底壳顶端左右两侧分别通过螺栓与支撑架相互锁固，所述支撑架前后两侧分别锁固有第一滑轨，活动壳顶端通过螺栓与支撑板相互锁固，所述支撑架顶端中部通过螺栓与气缸相互锁固，所述气缸底端的活塞杆与支撑板相互锁固，所述支撑架顶部边沿处设置有抛光工位，所述抛光工位包括固定板、第二滑轨、活动板、电动推杆、支撑管、驱动电机、主动齿轮、从动齿轮、连接轴和磨盘，所述固定板顶端锁固有第二滑轨，所述活动板底端沿第二滑轨滑动，所述活动板右端通过螺栓与电动推杆相互锁固，且电动推杆前端左侧通过螺栓与固定板相互锁固，所述固定板顶端中部通过螺栓与支撑管相互锁固，所述支撑管前端通过螺栓与驱动电机相互锁固，所述驱动电机顶端的输出轴与主动齿轮圆心处相连接，所述主动齿轮后端与从动齿轮相互啮合，所述从动齿轮圆心处与连接轴相连接，所述连接轴底端与磨盘相连接，所述固定板底端通过螺栓与支撑架相互锁固。
优选的，所述第一滑轨表面呈光滑状，且活动壳内壁与第一滑轨贴合。
优选的，所述支撑板顶端面呈平面设置，且支撑板顶端面设置有防滑纹路。
优选的，所述抛光工位设置有四个，且四个抛光工位均匀设置于支撑架顶端中部。
优选的，所述第二滑轨表面呈光滑状，且活动板底端内壁与第二滑轨贴合。
优选的，所述电动推杆与第二滑轨呈平行设置，且电动推杆前后两端分别与活动板和固定板相互锁固。
优选的，所述固定板顶端面开设有一滑槽，且滑槽与第二滑轨和电动推杆呈平行设置。
优选的，所述从动齿轮底端焊接有轴承，且轴承底端外侧与支撑管相互锁固。
本实用新型具有如下优点：本实用新型通过改进在此提供一种半导体抛光机，与同类型设备相比，具有如下改进：
本实用新型所述一种半导体抛光机，在抛光机的支撑架上设置了四个抛光工位，四个抛光工位以支撑架顶端中部为圆心均匀设置，抛光工位的固定板顶端设置有第二滑轨，活动板底端沿第二滑轨进行滑动，且通过电动推杆对活动板的移动进行控制，使活动板沿第二滑轨进行直线滑动，便于对不同抛光工位的磨盘位置进行调节，对半导体保持相同的磨损，提升研磨加工精度。
附图说明
图1是本实用新型结构示意图；
图2是本实用新型结构俯视图；
图3是本实用新型抛光工位结构示意图；
图4是本实用新型抛光工位结构俯视图。
其中：底壳-1、支撑架-2、第一滑轨-3、活动壳-4、支撑板-5、气缸-6、抛光工位-7、固定板-71、第二滑轨-72、活动板-73、电动推杆-74、支撑管-75、驱动电机-76、主动齿轮-77、从动齿轮-78、连接轴-79、磨盘-710。
具体实施方式
下面将结合附图1-4对本实用新型进行详细说明，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1和图2，本实用新型通过改进在此提供一种半导体抛光机，包括底壳1和抛光工位7，底壳1顶端左右两侧分别通过螺栓与支撑架2相互锁固，支撑架2前后两侧分别锁固有第一滑轨3，活动壳4顶端通过螺栓与支撑板5相互锁固，支撑架2顶端中部通过螺栓与气缸6相互锁固，气缸6底端的活塞杆与支撑板5相互锁固，支撑架2顶部边沿处设置有抛光工位7，第一滑轨3表面呈光滑状，且活动壳4内壁与第一滑轨3贴合，对活动壳4的移动轨迹进行限制，支撑板5顶端面呈平面设置，且支撑板5顶端面设置有防滑纹路，便于对抛光物件进行支撑，且对其进行防滑，抛光工位7设置有四个，且四个抛光工位7均匀设置于支撑架2顶端中部，便于对物件进行不同位置的抛光。
请参阅图2和图3，本实用新型通过改进在此提供一种半导体抛光机，抛光工位7包括固定板71、第二滑轨72、活动板73、电动推杆74、支撑管75、驱动电机76、主动齿轮77、从动齿轮78、连接轴79和磨盘710，固定板71顶端锁固有第二滑轨72，活动板73底端沿第二滑轨72滑动，活动板73右端通过螺栓与电动推杆74相互锁固，且电动推杆74前端左侧通过螺栓与固定板71相互锁固，固定板71顶端中部通过螺栓与支撑管75相互锁固，支撑管75前端通过螺栓与驱动电机76相互锁固，驱动电机76顶端的输出轴与主动齿轮77圆心处相连接，主动齿轮77后端与从动齿轮78相互啮合，从动齿轮78圆心处与连接轴79相连接，连接轴79底端与磨盘710相连接，固定板71底端通过螺栓与支撑架2相互锁固，第二滑轨72表面呈光滑状，且活动板73底端内壁与第二滑轨72贴合，对活动板73的移动轨迹进行限制，电动推杆74与第二滑轨72呈平行设置，且电动推杆74前后两端分别与活动板73和固定板71相互锁固，使电动推杆74伸缩时，活动板73沿第二滑轨72进行滑动，固定板71顶端面开设有一滑槽，且滑槽与第二滑轨72和电动推杆74呈平行设置，使连接轴79贯穿固定板71与磨盘710相连接，从动齿轮78底端焊接有轴承，且轴承底端外侧与支撑管75相互锁固，对从动齿轮78进行支撑固定，且使从动齿轮78进行旋转。
本实用新型通过改进提供一种半导体抛光机，其工作原理如下；
第一，在使用前，首先将该装置通过底壳1放置在所需的平面位置上，然后将气缸6与外部气动控制设备相连接，且将驱动电机76和电动推杆74的接电端口与外部带有电源的控制设备相连接；
第二，在使用时，将需要进行抛光的半导体放置在支撑板5上，由于支撑板5顶端面呈平面设置，且支撑板5顶端面设置有防滑纹路，便于对抛光物件进行支撑，且对其进行防滑，抛光工位7设置有四个，需要根据半导体的大小对不同抛光工位7的磨盘710位置进行调节，通过控制电动推杆74伸缩，由于第二滑轨72表面呈光滑状，且活动板73底端内壁与第二滑轨72贴合，对活动板73的移动轨迹进行限制，电动推杆74与第二滑轨72呈平行设置，且电动推杆74前后两端分别与活动板73和固定板71相互锁固，使电动推杆74伸缩时，活动板73沿第二滑轨72进行滑动，通过活动板73带动磨盘710进行移动，对磨盘710的位置进行调节，便于对半导体保持相同的磨损，提升研磨加工精度；
第三，然后控制气缸6的活塞杆收缩，使支撑板5带动半导体向上移动，使半导体与磨盘710接触，且控制驱动电机76产生动力通过输出轴带动主动齿轮77圆心处进行旋转，主动齿轮77带动从动齿轮78进行转动，从动齿轮78通过连接轴79带动磨盘710圆心处进行旋转，通过磨盘710旋转对半导体进行打磨抛光。
本实用新型通过改进提供一种半导体抛光机，在抛光机的支撑架2上设置了四个抛光工位7，四个抛光工位7以支撑架7顶端中部为圆心均匀设置，抛光工位7的固定板71顶端设置有第二滑轨72，活动板73底端沿第二滑轨72进行滑动，且通过电动推杆74对活动板73的移动进行控制，使活动板73沿第二滑轨72进行直线滑动，便于对不同抛光工位7的磨盘710位置进行调节，对半导体保持相同的磨损，提升研磨加工精度。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点,并且本实用新型使用到的标准零件均可以从市场上购买,异形件根据说明书的和附图的记载均可以进行订制,各个零件的具体连接方式均采用现有技术中成熟的螺栓铆钉、焊接等常规手段，机械、零件和设备均采用现有技术中,常规的型号,加上电路连接采用现有技术中常规的连接方式,在此不再详述。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
