本发明涉及一种显示装置以及所述显示装置的制造方法，更详细而言涉及一种薄膜封装层的有机层形成质量提高的显示装置以及所述显示装置的制造方法。
背景技术：
：：近年来，随着技术发展，正在生产着小型化、轻量化且性能更优异的显示产品。目前为止，在显示装置中，以往的显像管电视(cathoderaytube：crt)在性能或价格方面具有诸多的优点而被广泛使用，但是在小型化或便携性的方面克服crt的缺点而具有小型化、轻量化以及低电力消耗等优点的显示装置，例如等离子体显示装置、液晶显示装置以及有机发光显示装置等备受瞩目。所述显示装置可以是，内部结构物被薄膜封装层封装，触摸屏面板形成在其上。例如，所述有机发光显示装置可以具有薄膜封装层以及触摸屏面板直接形成在所述薄膜封装层上的结构，此时，所述薄膜封装层的质量可能影响显示质量以及所述触摸屏面板的质量。技术实现要素：对此，本发明的技术问题是考虑到这些问题而提出的，本发明的目的在于提供一种包括质量提高的薄膜封装层的显示装置。本发明的另一目的在于提供一种所述显示装置的制造方法。用于实现上述的本发明的目的的根据一实施例的显示装置包括：基底基板，包括显示图像的显示区域以及与所述显示区域相邻的非显示区域；第一通孔绝缘层，配置在所述基底基板上；第一电源布线，在所述第一通孔绝缘层上配置在所述非显示区域中；第二电源布线，在所述第一通孔绝缘层上配置在所述非显示区域中，并与所述第一电源布线隔开；第一坝，配置在所述基底基板上，并与所述第一电源布线以及所述第二电源布线重叠，并且沿所述非显示区域延伸；第一叠层结构物，在所述第一坝和所述显示区域之间配置在所述第一通孔绝缘层上，并具有低于所述第一坝的高度；以及有机层，配置在所述第一叠层结构物以及所述第一坝上，以与所述第一叠层结构物的全部以及所述第一坝的至少一部分重叠。在本发明的一实施例中，可以是，所述显示装置还包括：第二叠层结构物，配置在所述第一叠层结构物和所述第一坝之间。在本发明的一实施例中，可以是，所述显示装置还包括：第二通孔绝缘层，配置在所述第一通孔绝缘层上。可以是，所述第一叠层结构物包括所述第二通孔绝缘层的一部分。可以是，所述第一坝包括所述第二通孔绝缘层的一部分。可以是，所述第二通孔绝缘层在所述第一坝中具有第一高度，并在所述第一叠层结构物中具有低于所述第一高度的第二高度。在本发明的一实施例中，可以是，所述显示装置还包括：像素界定膜，配置在所述第二通孔绝缘层上。可以是，所述第一叠层结构物包括所述像素界定膜的一部分。可以是，所述第一坝包括所述像素界定膜的一部分。在本发明的一实施例中，可以是，所述第一叠层结构物的高度低于所述第二叠层结构物的高度。在本发明的一实施例中，可以是，所述第一叠层结构物与所述第一坝平行地向第一方向延伸。在本发明的一实施例中，可以是，所述第一叠层结构物与所述第一坝连接，所述第一叠层结构物与所述第一坝形成台阶。在本发明的一实施例中，可以是，所述第一叠层结构物配置成与所述第一电源布线以及所述第二电源布线不重叠。在本发明的一实施例中，可以是，在所述第一电源布线以及所述第二电源布线中形成有多个开口。可以是，所述多个开口位于所述第一叠层结构物和所述第一坝之间。在本发明的一实施例中，可以是，所述显示装置还包括：第一电极，在所述基底基板上配置在所述显示区域中；发光层，配置在所述第一电极上；以及第二电极，配置在所述发光层上。可以是，所述第二电极配置在所述第一叠层结构物以及所述第一坝上，以与所述第一叠层结构物的全部以及所述第一坝的至少一部分重叠。用于实现上述的本发明的目的的根据一实施例的显示装置包括：基底基板；第一导电层，配置在所述基底基板上，并包括薄膜晶体管的源极电极以及漏极电极；第一通孔绝缘层，配置在所述第一导电层上；第二导电层，配置在所述第一通孔绝缘层上；第二通孔绝缘层，配置在所述第二导电层上；像素界定膜，配置在所述第二通孔绝缘层上；第一无机层，配置在所述像素界定膜上；以及有机层，配置在所述第一无机层上。所述第二通孔绝缘层的一部分、所述像素界定膜的一部分形成第一坝。所述第二通孔绝缘层的一部分、所述像素界定膜的一部分形成具有低于所述第一坝的高度的第一叠层结构物。所述有机层配置成与所述第一叠层结构物的全部以及所述第一坝的至少一部分重叠。在本发明的一实施例中，可以是，所述第二通孔绝缘层在所述第一坝中具有第一高度，并在所述第一叠层结构物中具有低于所述第一高度的第二高度。在本发明的一实施例中，可以是，所述第一导电层包括第一电源布线的第一层以及与所述第一电源布线的所述第一层隔开的第二电源布线的第一层。可以是，所述第二导电层包括所述第一电源布线的第二层以及与所述第一电源布线的所述第二层隔开的所述第二电源布线的第二层。可以是，所述第一电源布线的所述第一层和所述第一电源布线的所述第二层彼此电连接。可以是，所述第二电源布线的所述第一层和所述第二电源布线的所述第二层彼此电连接。在本发明的一实施例中，可以是，在所述第一电源布线的所述第二层以及所述第二电源布线的所述第二层中形成有多个开口。可以是，所述多个开口与所述第一叠层结构物不重叠或者仅重叠一部分。在本发明的一实施例中，可以是，所述显示装置还包括：间隔层，配置在所述像素界定膜上。可以是，所述第二通孔绝缘层的一部分、所述像素界定膜的一部分以及所述间隔层的一部分形成与所述第一坝隔开的第二坝。可以是，所述第一坝位于所述第二坝和所述第一叠层结构物之间。用于实现上述的本发明的目的的根据一实施例的显示装置的制造方法制造显示装置，所述显示装置包括显示图像的显示区域以及与所述显示区域相邻的非显示区域。所述制造方法包括：在基底基板上形成包括薄膜晶体管以及绝缘层的薄膜晶体管层的步骤；在所述薄膜晶体管层上形成第一通孔绝缘层的步骤；在所述第一通孔绝缘层上形成包括电源布线的导电层的步骤；在形成有所述导电层的所述第一通孔绝缘层上形成第二通孔绝缘层的步骤；在形成有所述第二通孔绝缘层的所述基底基板上形成第一无机层的步骤；在所述第一无机层上提供有机物的步骤；以及利用第一叠层结构物的外围的可见程度检查所述有机物沿所述第一无机层的上面扩展的程度的步骤。所述第二通孔绝缘层的一部分配置在所述非显示区域中，并形成围绕所述显示区域的第一坝。所述第二通孔绝缘层的一部分在所述非显示区域形成配置在所述第一坝和所述显示区域之间的所述第一叠层结构物。在本发明的一实施例中，可以是，所述第二通孔绝缘层的一部分在所述非显示区域形成配置在所述第一叠层结构物和所述第一坝之间的第二叠层结构物。可以是，在进行所述检查的步骤中，如果所述第一叠层结构物的所述外围的可见程度降低之后，所述第二叠层结构物的外围的可见程度降低，则判断为所述有机物的扩展程度达到适当级别。在本发明的一实施例中，可以是，所述制造方法还包括：在所述第二通孔绝缘层以及所述第一通孔绝缘层上形成像素界定膜的步骤。可以是，所述第一坝还包括所述像素界定膜的一部分。可以是，所述第一叠层结构物还包括所述像素界定膜的一部分。可以是，所述第二叠层结构物还包括所述像素界定膜的一部分。可以是，所述第一坝的高度高于所述第一叠层结构物以及所述第二叠层结构物的高度。在本发明的一实施例中，可以是，所述制造方法还包括：在形成有所述像素界定膜的所述第二通孔绝缘层上将第一电极形成在所述显示区域内的步骤；在所述第一电极上形成发光层的步骤；以及在所述发光层上形成第二电极的步骤。可以是，所述第二电极与所述第一叠层结构物的全部以及所述第一坝的至少一部分重叠。在本发明的一实施例中，可以是，在所述电源布线中形成有多个开口。可以是，所述多个开口位于所述第一叠层结构物和所述第一坝之间。(发明效果)根据本发明的实施例，显示装置包括第一叠层结构物，可以利用所述第一叠层结构物的外围的可见程度，检查用于形成薄膜封装层的有机物沿第一无机层的上面扩展的程度。由此，可以容易地检查包含所述有机物的有机层的形成程度，可以获得制造质量提高的所述薄膜封装层。然而，本发明的效果不限于上述效果，在不脱离本发明的构思和领域的范围内可以进行各种扩展。附图说明图1是示出根据本发明的一实施例的显示装置的框图。图2是示出包括在图1的显示装置中的像素的一例的等效电路图。图3是根据本发明的一实施例的显示装置的平面图。图4是对应于图3的显示装置的显示区域的像素的截面图。图5是图3的a部分的放大图。图6是沿图5的i-i'线截取的截面图。图7是沿图5的ii-ii'线截取的截面图。图8是示出根据本发明的一实施例的显示装置的一部分的截面图。图9是示出根据本发明的一实施例的显示装置的一部分的平面图。图10是沿图9的i-i'线截取的截面图。图11是示出根据本发明的一实施例的显示装置的一部分的平面图。图12是示出根据本发明的一实施例的显示装置的制造方法的流程图。图13a以及图13b是示出根据本发明的一实施例的显示装置的制造方法中的有机层的形成的截面图。图14a、图14b以及图14c是用于说明根据本发明的一实施例的显示装置的有机层的形成中的叠层结构物的可见程度和有机层的覆盖程度的相片。图15是示出根据本发明的实施例的电子设备的框图。图16a是示出图15的电子设备实现为电视的一例的图。图16b是示出图15的电子设备实现为智能电话的一例的图。(附图标记说明)100：基底基板tftl：薄膜晶体管层via1：第一通孔绝缘层via2：第二通孔绝缘层190：薄膜封装层210：第一电源布线220：第二电源布线ml1：第一叠层结构物ml2：第二叠层结构物dm1：第一坝具体实施方式以下，参照附图更详细说明本发明的优选实施例。图1是示出根据本发明的一实施例的显示装置的框图。参照图1，所述显示装置可以包括显示面板10、扫描驱动部20、数据驱动部30、发光控制驱动部40以及控制部50。所述显示面板10可以包括用于显示图像的多个像素px。例如，所述显示面板10可以包括位于扫描线sl1～sln和数据线dl1～dlm的每个交叉部位的n*m个像素px(其中，n、m为大于1的整数)。参照图2详细说明所述像素px的结构。所述扫描驱动部20可以基于第一控制信号ctl1通过所述扫描线sl1～sln将第一扫描信号依次提供于所述像素px，并通过反转扫描线/sl1～/sln将第二扫描信号依次提供于所述像素px。例如，所述第二扫描信号可以是所述第一扫描信号的反转信号。所述数据驱动部30可以基于第二控制信号ctl2通过所述数据线dl1～dlm将数据信号提供于所述像素px。所述发光控制驱动部40可以基于第三控制信号ctl3通过发光控制线em1～emn将发光控制信号依次提供于所述像素px。所述控制部50可以控制所述扫描驱动部20、所述数据驱动部30以及所述发光控制驱动部40。所述控制部50可以为了控制所述扫描驱动部20、所述数据驱动部30以及所述发光控制驱动部40而生成所述控制信号ctl1～ctl3。用于控制所述扫描驱动部20的所述第一控制信号ctl1可以包括扫描开始信号、扫描时钟信号等。用于控制所述数据驱动部30的所述第二控制信号ctl2可以包括图像数据、水平开始信号等。用于控制所述发光控制驱动部40的所述第三控制信号ctl3可以包括发光控制开始信号、发光控制时钟信号等。除此之外，所述显示装置可以还包括将第一电源电压elvdd、第二电源电压elvss以及初始化电压vint供应于所述显示面板10的电源供应部(未图示)等。图2是示出包括在图1的显示装置中的像素的一例的等效电路图。参照图2，所述像素px可以包括第一晶体管t1至第七晶体管t7、储存电容器cst以及有机发光二极管oled。所述像素px可以位于第i(其中，i为1和n之间的整数)像素行以及第j(其中，j为1和m之间的整数)像素列。所述第一晶体管t1可以是将与数据信号相对应的驱动电流提供于有机发光二极管oled的驱动晶体管。所述第一晶体管t1可以包括连接于第一节点n1的栅极电极、连接第二节点n2的第一电极以及连接于第三节点n3的第二电极。所述第二晶体管t2可以响应第一扫描信号gs1而将所述数据信号提供于所述第一晶体管t1。在一实施例中，所述第二晶体管t2可以包括从第i扫描线sli接收第一扫描信号gs1的栅极电极、从第j数据线dlj接收所述数据信号的第一电极以及连接于所述第一晶体管t1的第一电极(即，第二节点n2)的第二电极。所述第三晶体管t3可以响应所述第二扫描信号gs2而将所述第一晶体管t1的所述第二电极和所述第一晶体管t1的所述栅极电极连接。在一实施例中，所述第三晶体管t3可以包括从第i反转扫描线/sli接收所述第二扫描信号gs2的栅极电极、连接于所述第一晶体管t1的所述第二电极(即，第三节点n3)的第一电极以及连接于所述第一晶体管t1的栅极电极(即，第一节点n1)的第二电极。所述第四晶体管t4可以响应第三扫描信号gs3而将初始化电压vint施加于所述第一晶体管t1的所述栅极电极。在一实施例中，所述第四晶体管t4可以包括从第(i-1)反转扫描线/sl(i-1)接收第三扫描信号gs3的栅极电极、连接于初始化电压vint的第一电极以及连接于所述第一晶体管t1的所述栅极电极(即，第一节点n1)的第二电极。所述第五晶体管t5可以响应所述发光控制信号而将第一电源电压elvdd施加于所述第一晶体管t1的所述第一电极。在一实施例中，所述第五晶体管t5可以包括从第i发光控制线emi接收发光控制信号的栅极电极、连接于所述第一电源电压elvdd的第一电极以及连接于所述第一晶体管t1的所述第一电极(即，第二节点n2)的第二电极。所述第六晶体管t6可以响应所述发光控制信号而将所述第一晶体管t1的所述第二电极连接于有机发光二极管oled的第一电极。在一实施例中，所述第六晶体管t6可以包括从第i发光控制线emi接收发光控制信号的栅极电极、连接于所述第一晶体管t1的所述第二电极(即，第三节点n3)的第一电极以及连接于所述有机发光二极管oled的第一电极(即，第四节点n4)的第二电极。所述第七晶体管t7可以响应第四扫描信号gs4而将初始化电压vint施加于所述有机发光二极管oled的所述第一电极。在一实施例中，所述第七晶体管t7可以包括从所述第(i-1)反转扫描线/sl(i-1)接收第四扫描信号gs4的栅极电极、连接于所述初始化电压vint的第一电极以及连接于所述有机发光二极管oled的所述第一电极(即，第四节点n4)的第二电极。在此，所述第一晶体管t1、所述第二晶体管t2、所述第五晶体管t5以及所述第六晶体管t6可以分别作为多晶硅(poly-si)薄膜晶体管，是p型晶体管。所述第三晶体管t3、所述第四晶体管t4以及所述第七晶体管t7可以分别作为氧化物薄膜晶体管，是n型晶体管。所述储存电容器cst可以包括连接于所述第一电源电压elvdd的第一电极以及连接于所述第一晶体管t1的所述栅极电极(即，第一节点n1)的第二电极。图3是根据本发明的一实施例的显示装置的平面图。参照图3，所述显示装置可以包括显示图像的显示区域da以及与所述显示区域da相邻而围绕所述显示区域da的非显示区域nda。所述显示装置可以包括第一电源布线210以及第二电源布线220。所述显示区域da可以配置在沿第一方向d1以及垂直于所述第一方向d1的第二方向d2形成的平面上。可以是，在所述显示区域da中配置有用于显示图像的多个像素，在所述非显示区域nda中配置有所述第一电源布线210以及所述第二电源布线220。在所述第一电源布线210中可以施加第一电源电压elvdd。在所述第二电源布线220中可以施加第二电源电压elvss。所述第一电源布线210的水平部可以沿所述第一方向d1延伸，并配置成与所述显示区域da相邻。所述第一电源布线210的垂直部可以从所述水平部向所述第二方向d2延伸。所述第二电源布线220可以延伸成围绕所述显示区域da，并可以配置成与所述第一电源布线210隔开。图4是对应于图3的显示装置的显示区域的像素的截面图。参照图4，所述显示装置可以包括基底基板100、缓冲层110、薄膜晶体管tft的有源图案act、第一绝缘层120、栅极导电层、第二绝缘层130、第一源极漏极导电层、第一通孔绝缘层via1、第二源极漏极导电层、第二通孔绝缘层via2、发光结构物180、像素界定膜pdl、间隔层spc、薄膜封装层190以及触摸屏面板层(未图示)。所述基底基板100可以由透明或者不透明的材料构成。例如，所述基底基板100可以包括石英基板、合成石英(syntheticquartz)基板、氟化钙基板、氟掺杂石英(f-dopedquartz)基板、钠钙(sodalime)玻璃基板、非碱(non-alkali)玻璃基板等。选择性地，所述基底基板100也可以由具有柔性的透明树脂基板构成。作为可以用作所述基底基板100的透明树脂基板的例，可以举出聚酰亚胺基板。所述缓冲层110可以整体地配置在所述基底基板100上。所述缓冲层110可以防止金属原子或杂质从所述基底基板100向所述有源图案act扩散的现象，并可以在用于形成所述有源图案act的晶化工艺期间通过调整传热速度来获得实质上均匀的所述有源图案act。另外，当所述基底基板100的表面不均匀时，所述缓冲层可以执行提高所述基底基板100的表面的平坦度的作用。所述有源图案act可以配置在所述缓冲层110上。所述有源图案act可以包括掺杂(doping)有杂质的漏极区域和源极区域以及在所述漏极区域和所述源极区域之间的沟道区域。例如，所述有源图案act可以包含多晶硅(polycrystalsilicon)。所述第一绝缘层120可以配置在配置有所述有源图案act的所述缓冲层110上。所述第一绝缘层120可以包括硅化合物、金属氧化物等无机绝缘物质。所述栅极导电层可以配置在所述第一绝缘层120上。所述栅极导电层可以包括与所述有源图案act重叠的所述薄膜晶体管tft的栅极电极ge。所述栅极导电层可以还包括用于驱动所述显示装置的扫描线(未图示)等的信号布线。所述第二绝缘层130可以配置在配置有所述栅极导电层的所述第一绝缘层120上。所述第二绝缘层130可以包括硅化合物、金属氧化物等无机绝缘物质。所述第一源极漏极导电层可以配置在所述第二绝缘层130上。所述第一源极漏极导电层可以包括所述薄膜晶体管tft的源极电极se以及漏极电极de。所述第一源极漏极导电层可以还包括第一电源布线的第一层以及第二电源布线的第一层。所述第一通孔绝缘层via1可以配置在配置有所述第一源极漏极导电层的所述第二绝缘层130上。所述第一通孔绝缘层via1可以使用光致抗蚀剂、丙烯酸类树脂、聚酰亚胺类树脂、聚酰胺类树脂、硅氧烷类(siloxane-based)树脂等有机物质来形成。所述第二源极漏极导电层可以配置在所述第一通孔绝缘层via1上。所述第二源极漏极导电层可以包括与所述薄膜晶体管tft电连接的接触焊盘cp。所述第二源极漏极导电层可以包括所述第一电源布线的第二层以及所述第二电源布线的第二层。所述第二通孔绝缘层via2可以配置在配置有所述第二源极漏极导电层的所述第一通孔绝缘层via1上。所述第二通孔绝缘层via2可以使用光致抗蚀剂、丙烯酸类树脂、聚酰亚胺类树脂、聚酰胺类树脂、硅氧烷类(siloxane-based)树脂等有机物质来形成。所述发光结构物180可以包括第一电极181、发光层182以及第二电极183。所述第一电极181可以配置在所述第二通孔绝缘层via2上。根据所述显示装置的发光方式，所述第一电极181可以使用具有反射性的物质或者具有透光性的物质来形成。在示例性实施例中，所述第一电极181可以形成为包括金属膜、合金膜、金属氮化物膜、导电性金属氧化物膜和/或透明导电性物质膜的单层结构或者多层结构。所述像素界定膜pdl可以配置在配置有所述第一电极181的所述第二通孔绝缘层via2上。所述像素界定膜pdl可以使用有机物质、无机物质等来形成。例如，所述像素界定膜pdl可以使用光致抗蚀剂、聚丙烯酸类树脂、聚酰亚胺类树脂、丙烯酸类树脂、硅化合物等来形成。根据示例性实施例，可以通过蚀刻所述像素界定膜pdl来形成使得所述第一电极181局部暴露的开口(opening)。可以通过这种所述像素界定膜pdl的开口来界定所述显示装置的发光区域和非发光区域。例如，所述像素界定膜pdl的开口所在的部分可以相当于所述发光区域，所述非发光区域可以相当于与所述像素界定膜pdl的开口相邻的部分。所述间隔层spc可以配置在所述像素界定膜pdl上。所述间隔层spc可以保持所述触摸屏面板层和所述发光结构物180之间的间隙(gap)。所述发光层182可以配置在通过所述像素界定膜pdl的开口暴露的所述第一电极181上。另外，所述发光层182可以向所述像素界定膜pdl的所述开口的侧壁上延伸。在示例性实施例中，所述发光层182可以具有包括有机发光层(el)、空穴注入层(hil)、空穴输送层(htl)、电子输送层(etl)、电子注入层(eil)等的多层结构。在另一实施例中，除了所述有机发光层之外，所述空穴注入层、所述空穴输送层、所述电子输送层以及所述电子注入层等可以共同形成以对应于多个像素。所述发光层182的有机发光层可以使用可以根据所述显示装置的各像素产生红色光、绿色光、蓝色光等之类的彼此不同颜色光的发光物质来形成。根据另一示例性实施例，所述发光层182的有机发光层也可以具有能够实现红色光、绿色光、蓝色光等不同颜色光的多个发光物质被层叠而发射白色光的结构。此时，可以是，所述发光结构物可以共同形成以对应于多个像素，各个像素被滤色层划分。所述第二电极183可以配置在所述像素界定膜pdl以及所述发光层182上。根据所述显示装置的发光方式，所述第二电极183可以包含具有透光性的物质或者具有反射性的物质。在示例性实施例中，所述第二电极183也可以形成为包括金属膜、合金膜、金属氮化物膜、导电性金属氧化物膜和/或透明导电性物质膜的单层结构或者多层结构。所述薄膜封装层190可以配置在所述第二电极183上。所述薄膜封装层190可以防止外部的湿气以及氧气的渗透。所述薄膜封装层190可以具备至少一个有机层和至少一个无机层。至少一个有机层和至少一个无机层可以彼此交替地层叠。在本实施例中，所述薄膜封装层190可以包括第一无机层191、配置在所述第一无机层191上的有机层192以及配置在所述有机层192上的第二无机层193，但是不限于此。所述触摸屏面板层可以配置在所述薄膜封装层190上。所述触摸屏面板层可以包括触摸电极和绝缘层，并可以直接形成在所述薄膜封装层190上。图5是图3的a部分的放大图。图6是沿图5的i-i'线截取的截面图。图7是沿图5的ii-ii'线截取的截面图。参照图3至图7，所述显示装置可以包括所述基底基板100、薄膜晶体管层tftl、所述第一电源布线210、所述第二电源布线220、所述第一通孔绝缘层via1、所述第二通孔绝缘层via2、所述像素界定膜pdl、所述第二电极183以及所述薄膜封装层190。所述薄膜封装层190可以包括第一无机层191、有机层192以及第二无机层193。所述薄膜晶体管层tftl可以包括所述薄膜晶体管tft以及绝缘层(例如，缓冲层110、第一绝缘层120以及第二绝缘层130)。所述第一电源布线210可以包括第一层210a以及第二层210b。所述第二电源布线220可以包括第一层220a以及第二层220b。所述第一电源布线210的所述第一层210a以及所述第二电源布线220的所述第一层220a可以包括在所述第一源极漏极导电层中。所述第一电源布线210的所述第二层210b以及所述第二电源布线220的所述第二层220b可以包括在所述第二源极漏极导电层中。可以在所述第一电源布线210以及所述第二电源布线220上形成沿所述非显示区域nda向第一方向d1延伸的第三坝dm3。在所述第三坝dm3和所述显示区域da之间可以还形成有分别沿所述第一方向d1延伸的第二坝dm2以及第一坝dm1。即，可以从所述显示区域da向所述第二方向d2依次形成所述第一坝dm1、所述第二坝dm2以及所述第三坝dm3。所述第一坝dm1、所述第二坝dm2以及所述第三坝dm3可以形成为围绕所述显示装置的显示区域da，并可以配置成与所述第一电源布线210以及所述第二电源布线220重叠。即，在所述第一电源布线210以及所述第二电源布线220向所述第二方向d2延伸的部分中，所述第一坝dm1、所述第二坝dm2以及所述第三坝dm3可以向所述第一方向d1延伸。在形成所述薄膜封装层190的所述有机层192时，所述第一坝dm1、所述第二坝dm2以及所述第三坝dm3用于控制有机物质的流动来防止溢出(overflow)。在本实施例中示出三个坝依次形成，但是各个坝的形状或个数不限于此。在此，所述第一坝dm1可以配置在所述第一通孔绝缘层via1上，并由所述第二通孔绝缘层via2以及所述像素界定膜pdl构成。所述第二坝dm2可以配置在所述第一通孔绝缘层via1上，并由所述第二通孔绝缘层via2以及所述像素界定膜pdl构成。所述第三坝dm3可以配置在所述第一通孔绝缘层via1上，并由所述第二通孔绝缘层via2、所述像素界定膜pdl以及所述间隔层spc构成。由此，所述第三坝dm3可以具有高于所述第二坝dm2或者所述第一坝dm1的高度。可以在所述第一坝dm1和所述显示区域da之间形成配置在所述第一通孔绝缘层via1上并具有低于所述第一坝dm1的高度的第一叠层结构物ml1。所述第一叠层结构物ml1可以包括所述第二通孔绝缘层via2的一部分、所述像素界定膜pdl的一部分。即，所述第一叠层结构物ml1可以是包含有机物的叠层结构物。可以在所述第一叠层结构物ml1和所述第一坝dm1之间形成配置在所述第一通孔绝缘层via1上并具有低于所述第一坝dm1的高度的第二叠层结构物ml2。所述第二叠层结构物ml2可以包括所述第二通孔绝缘层via2的一部分，所述像素界定膜pdl的一部分。即，所述第二叠层结构物ml2可以是包含有机物的叠层结构物。所述第一通孔绝缘层via1可以在所述第一坝dm1中具有第一高度h1，并在所述第一叠层结构物ml1以及所述第二叠层结构物ml2中具有低于所述第一高度h1的第二高度h2。所述第一通孔绝缘层via1可以利用半色调掩模等形成为具有彼此不同高度的部分。所述第二电极183可以配置成与所述第一叠层结构物ml1的全部、所述第二叠层结构物ml2的全部以及所述第一坝dm1的至少一部分重叠。可以在所述第二电极183、所述像素界定膜pdl、所述第二通孔绝缘层via2以及所述第一通孔绝缘层via1上配置所述第一无机层191。所述有机层192可以配置在所述第一无机层191上。所述有机层192可以配置成与所述第一叠层结构物ml1的全部、所述第二叠层结构物ml2的全部以及所述第一坝dm1的至少一部分重叠。所述第二无机层193可以配置在所述有机层192上。另一方面，在所述第一电源布线210的所述第二层210b以及所述第二电源布线220的所述第二层220b中可以形成有多个开口h。所述开口h可以位于所述第一叠层结构物ml1和所述第二叠层结构物ml2之间、所述第二叠层结构物ml2和所述第一坝dm1之间。所述开口h可以用作在所述显示装置的制造工艺中排出所述第二源极漏极导电层之下的所述第一通孔绝缘层via1的脱气等的通道，可以利用由所述开口h导致的所述第二通孔绝缘层via2的上面的弯曲，使得所述第一叠层结构物ml1以及所述第二叠层结构物ml2的外围形状更加清楚，由此，可以在后述的检查步骤中容易地辨别。图8是示出根据本发明的一实施例的显示装置的一部分的截面图。参照图8，除了第二叠层结构物ml2的高度与第一叠层结构物ml1的高度不同之外，所述显示装置与图3至图7的显示装置实质上相同。因此，省略重复的详细说明。第一通孔绝缘层via1可以在第一坝dm1以及所述第二叠层结构物ml2中具有第一高度h1，并在所述第一叠层结构物ml1中具有低于所述第一高度h1的第二高度h2。虽然未图示，但是所述第一叠层结构物ml1、所述第二叠层结构物ml2以及所述第一坝dm1可以根据需要具有彼此不同的各种高度。图9是示出根据本发明的一实施例的显示装置的一部分的平面图。图10是沿图9的i-i'线截取的截面图。参照图9以及图10，除了在第一坝中形成台阶以代替第一叠层结构物以及第二叠层结构物之外，所述显示装置与图3至图7的显示装置实质上相同。因此，省略重复的详细说明。所述第一坝dm1可以包括第一部分p1以及第二部分p2。所述第一部分p1可以具有高于所述第二部分p2的高度。例如，可以是，对应于所述第一部分p1的第一通孔绝缘层via1具有第一高度h1，对应于所述第二部分p2的所述第一通孔绝缘层via1具有低于所述第一高度h1的第二高度h2。图11是示出根据本发明的一实施例的显示装置的一部分的平面图。参照图11，除了形成第一叠层结构物图案mlp1以及第二叠层结构物图案mlp2以代替第一叠层结构物以及第二叠层结构物之外，所述显示装置与图3至图7的显示装置实质上相同。因此，省略重复的详细说明。所述第一叠层结构物图案mlp1以及所述第二叠层结构物图案mlp2可以配置成与第一电源布线210以及第二电源布线220不重叠。为了容易地确认所述第一叠层结构物图案mlp1以及所述第二叠层结构物图案mlp2的外围的可见程度，所述第一叠层结构物图案mlp1以及所述第二叠层结构物图案mlp2可以在特定位置上形成为图案形式。与图3至图7的显示装置相同地，所述第一叠层结构物图案mlp1以及所述第二叠层结构物图案mlp2可以在第一通孔绝缘层上利用第二通孔绝缘层以及像素界定膜来形成。图12是示出根据本发明的一实施例的显示装置的制造方法的流程图。参照图12，所述显示装置的制造方法可以包括形成薄膜晶体管层的步骤(s100)、形成第一通孔绝缘层的步骤(s200)、形成导电层的步骤(s300)、形成第二通孔绝缘层的步骤(s400)、形成像素界定膜的步骤(s500)、形成第一电极的步骤(s610)、形成发光层的步骤(s620)、形成第二电极的步骤(s630)、形成第一无机层的步骤(s700)、提供有机物的步骤(s800)以及进行检查的步骤(s900)。可以制造包括显示图像的显示区域以及与所述显示区域相邻的非显示区域的显示装置。在所述形成薄膜晶体管层的步骤(s100)中，可以在基底基板上形成包括薄膜晶体管以及绝缘层的薄膜晶体管层。所述薄膜晶体管层可以包括缓冲层、有源图案、第一绝缘层、栅极导电层、第二绝缘层以及第一源极漏极导电层，但是不限于此。所述薄膜晶体管层可以具有公知的各种结构。在所述形成第一通孔绝缘层的步骤(s200)中，可以在所述薄膜晶体管层上形成第一通孔绝缘层。在所述形成导电层的步骤(s300)中，可以在所述第一通孔绝缘层上形成包括电源布线的导电层。可以是，在所述电源布线中形成有多个开口，所述多个开口位于所述第一叠层结构物和所述第二叠层结构物之间、所述第二叠层结构物和所述第一坝之间。在所述形成第二通孔绝缘层的步骤(s400)中，可以在形成有所述导电层的所述第一通孔绝缘层上形成第二通孔绝缘层。所述第二通孔绝缘层的一部分可以配置在所述非显示区域中，并形成围绕所述显示区域的第一坝。所述第二通孔绝缘层的一部分可以在所述非显示区域形成配置在所述第一坝和所述显示区域之间的所述第一叠层结构物。所述第二通孔绝缘层的一部分可以在所述非显示区域形成配置在所述第一叠层结构物和所述第一坝之间的第二叠层结构物。在所述形成像素界定膜的步骤(s500)中，可以在所述第二通孔绝缘层以及所述第一通孔绝缘层上形成像素界定膜。所述第一叠层结构物可以还包括所述像素界定膜的一部分。所述第二叠层结构物可以还包括所述像素界定膜的一部分。所述第一坝的高度可以高于所述第一叠层结构物以及所述第二叠层结构物的高度。在所述形成第一电极的步骤(s610)中，可以在形成有所述像素界定膜的所述第二通孔绝缘层上将第一电极形成在所述显示区域内。在所述形成发光层的步骤(s620)中，可以在所述第一电极上形成发光层。在所述形成第二电极的步骤(s630)中，可以在所述发光层上形成第二电极。此时，所述第二电极可以与所述第一叠层结构物的全部以及所述第一坝的至少一部分重叠。在所述形成第一无机层的步骤(s700)中，可以在形成有所述第二通孔绝缘层的所述基底基板上形成第一无机层。在所述提供有机物的步骤(s800)中，可以在所述第一无机层上提供有机物。所述有机物可以由有机化合物的单体构成。例如，所述有机物可以包括甲基丙烯酸酯(methacrylate)、丙烯酸酯(acrylate)或者环氧树脂(epoxy)等。液体状态的所述单体可以通过印刷工艺等形成。在此，印刷工艺包括喷墨印刷、丝网印刷、凹版印刷、胶版印刷、柔版印刷(flexoprinting)等，但是不限于此。此时，液体状态的所述单体可以在所述基底基板上流动并扩展，此时，可以通过所述第一坝dm1控制过多的流动。在所述进行检查的步骤(s900)中，可以利用第一叠层结构物的外围的可见程度来检查所述有机物沿所述第一无机层的上面扩展的程度。具体地，如果所述第一叠层结构物的所述外围的可见程度降低之后，所述第二叠层结构物的外围的可见程度降低，则可以判断为所述有机物的扩展程度达到适当级别。提供在所述基底基板上的所述有机物可以从所述显示区域经过所述第一叠层结构物、所述第二叠层结构物扩展至所述第一坝而形成有机层。此时，如果所述有机物覆盖所述第一叠层结构物的所述外围，则所述第一叠层结构物的所述外围变模糊，针对所述第一叠层结构物的所述外围的可见度降低。这是因为所述第一叠层结构物具有有机物叠层结构，随着所述有机层覆盖所述第一叠层结构物，在所述第一叠层结构物的外围的倾斜面上的光反射程度被改变，由此针对所述外围的可见度降低，可以通过目视检查或者相机图像检查来确认(参照图14a、图14b以及图14c)。之后，可以在所述有机层上形成第二无机层并进一步形成触摸屏面板层等来制造所述显示装置。图13a以及图13b是示出根据本发明的一实施例的显示装置的制造方法中的有机层的形成的截面图。图14a、图14b以及图14c是用于说明根据本发明的一实施例的显示装置的有机层的形成中的叠层结构物的可见程度和有机层的覆盖程度的相片。参照图13a至图14c，在形成有机层之前，比较清楚地看到第一叠层结构物ml1以及第二叠层结构物ml2的外围(参照图14a)。如果为了形成所述有机层，在第一无机层191上提供有机物，则所述有机物可以沿附图中的箭头经过所述第一叠层结构物ml1以及所述第二叠层结构物ml2扩展至第一坝dm1(参照图13a以及图13b)。随着所述有机物扩展，所述第一叠层结构物ml1以及所述第二叠层结构物ml2的外围的可见程度依次降低(参照图13a以及图13b的a1、a2、a3、a4)。例如，在图13a中可以是如下状态：看不到a1以及a2线(参照图14c)，a3是外围线开始扩散(参照图14b)，a4是可见。在图13b中，看不到所述a1、a2、a3、a4线的全部，由此，可以判断为所述有机物的扩展程度达到适当级别。可以利用其，容易地检查包含所述有机物的有机层192的形成程度，可以得到制造质量提高的所述有机层192。图15是示出根据本发明的实施例的电子设备的框图。图16a是示出图15的电子设备实现为电视的一例的图。图16b是示出图15的电子设备实现为智能电话的一例的图。参照图15至图16b，电子设备500可以包括处理器510、内存(memory)装置520、存储(storage)装置530、输入输出装置540、电源550以及显示装置560。此时，所述显示装置560可以相应于图1的显示装置。所述电子设备500可以还包括能够与显卡、声卡、内存卡、usb装置等进行通信或者与其它系统进行通信的多种端口(port)。在一实施例中，如图16a所示，所述电子设备500可以实现为电视。在另一实施例中，如图16b所示，所述电子设备500可以实现为智能电话。然而，其是示例性的，所述电子设备500不限于此。例如，所述电子设备500也可以实现为移动电话、视频电话、智能平板(smartpad)、智能手表(smartwatch)、平板(tablet)pc、车辆用导航仪、计算机显示器、笔记本电脑、头戴式显示器(headmounteddisplay；hmd)等。所述处理器510可以执行特定计算或者任务(task)。根据实施例，所述处理器510可以是微处理器(microprocessor)、中央处理单元(centralprocessingunit；cpu)、应用程序处理器(applicationprocessor；ap)等。所述处理器510可以通过地址总线(addressbus)、控制总线(controlbus)以及数据总线(databus)等与其它构成要件连接。根据实施例，所述处理器510可以还与外设部件互连标准(peripheralcomponentinterconnect；pci)总线之类的扩展总线连接。所述内存装置520可以存储所述电子设备500运转所需的数据。例如，所述内存装置520可以包括可擦可编程只读存储器(erasableprogrammableread-onlymemory；eprom)装置、带电可擦可编程只读存储器(electricallyerasableprogrammableread-onlymemory；eeprom)装置、闪速存储装置(flashmemorydevice)、相变随机存取存储器(phasechangerandomaccessmemory；pram)装置、阻变随机存取存储器(resistancerandomaccessmemory；rram)装置、纳米浮闸存储器(nanofloatinggatememory；nfgm)装置、聚合存储器(polymerrandomaccessmemory；poram)装置、磁性随机存储器(magneticrandomaccessmemory；mram)、铁电随机存储器(ferroelectricrandomaccessmemory；fram)装置等之类非挥发性内存装置和/或动态随机存取存储器(dynamicrandomaccessmemory；dram)装置、静态随机存取存储器(staticrandomaccessmemory；sram)装置、移动式dram装置等之类挥发性内存装置。所述存储装置530可以包括固态驱动器(solidstatedrive；ssd)、硬盘驱动器(harddiskdrive；hdd)、光盘只读存储器(cd-rom)等。所述输入输出装置540可以包括键盘、小键盘、触摸板、触摸屏、鼠标等之类输入部件以及扬声器、打印机等之类输出部件。所述电源550可以供应所述电子设备500运转所需的电力。所述显示装置560可以通过所述总线或者其它通信链路与其它构成要件连接。根据实施例，所述显示装置560也可以包括在所述输入输出装置540中。如上所述，所述显示装置560利用第一叠层结构物、第二叠层结构物以及第一坝至第三坝来形成有机层，因此可以包括制造质量提高的有机层。由此，可以提高所述显示装置560的质量。然而，已经在上面对其进行了描述，因此省略对其的重复说明。(产业上可利用性)本发明可以适用于有机发光显示装置以及包括其的各种电子设备。例如，本发明可以适用于移动电话、智能电话、视频电话、智能平板、智能手表、平板pc、车辆用导航仪、电视、计算机显示器、笔记本电脑、头戴式显示器等。以上，虽然参照本发明的示例性实施例进行了说明，但应理解为在本
技术领域：
：中具有通常知识的人在不脱离权利要求书中记载的本发明的构思以及领域的范围内可以对本发明进行各种修改和变更。当前第1页1 2 3 当前第1页1 2 3
技术特征：1.一种显示装置，其特征在于，包括：
基底基板，包括显示图像的显示区域以及与所述显示区域相邻的非显示区域；
第一通孔绝缘层，配置在所述基底基板上；
第一电源布线，在所述第一通孔绝缘层上配置在所述非显示区域中；
第二电源布线，在所述第一通孔绝缘层上配置在所述非显示区域中，并与所述第一电源布线隔开；
第一坝，配置在所述基底基板上，并与所述第一电源布线以及所述第二电源布线重叠，并且沿所述非显示区域延伸；
第一叠层结构物，在所述第一坝和所述显示区域之间配置在所述第一通孔绝缘层上，并具有低于所述第一坝的高度；以及
有机层，配置在所述第一叠层结构物以及所述第一坝上，以与所述第一叠层结构物的全部以及所述第一坝的至少一部分重叠。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，
所述显示装置还包括：
第二叠层结构物，配置在所述第一叠层结构物和所述第一坝之间。
3.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，
所述显示装置还包括：
第二通孔绝缘层，配置在所述第一通孔绝缘层上，
所述第一叠层结构物包括所述第二通孔绝缘层的一部分，
所述第一坝包括所述第二通孔绝缘层的一部分，
所述第二通孔绝缘层在所述第一坝中具有第一高度，并在所述第一叠层结构物中具有低于所述第一高度的第二高度。
4.根据权利要求3所述的显示装置，其特征在于，
所述显示装置还包括：
像素界定膜，配置在所述第二通孔绝缘层上，
所述第一叠层结构物包括所述像素界定膜的一部分，
所述第一坝包括所述像素界定膜的一部分。
5.根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于，
所述第一叠层结构物的高度低于所述第二叠层结构物的高度。
6.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，
所述第一叠层结构物与所述第一坝平行地向第一方向延伸。
7.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，
所述第一叠层结构物与所述第一坝连接，所述第一叠层结构物与所述第一坝形成台阶。
8.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，
所述第一叠层结构物配置成与所述第一电源布线以及所述第二电源布线不重叠。
9.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，
在所述第一电源布线以及所述第二电源布线中形成有多个开口，
所述多个开口位于所述第一叠层结构物和所述第一坝之间。
10.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，
所述显示装置还包括：
第一电极，在所述基底基板上配置在所述显示区域中；
发光层，配置在所述第一电极上；以及
第二电极，配置在所述发光层上，
所述第二电极配置在所述第一叠层结构物以及所述第一坝上，以与所述第一叠层结构物的全部以及所述第一坝的至少一部分重叠。
11.一种显示装置，其特征在于，包括：
基底基板；
第一导电层，配置在所述基底基板上，并包括薄膜晶体管的源极电极以及漏极电极；
第一通孔绝缘层，配置在所述第一导电层上；
第二导电层，配置在所述第一通孔绝缘层上；
第二通孔绝缘层，配置在所述第二导电层上；
像素界定膜，配置在所述第二通孔绝缘层上；
第一无机层，配置在所述像素界定膜上；以及
有机层，配置在所述第一无机层上，
所述第二通孔绝缘层的一部分、所述像素界定膜的一部分形成第一坝，
所述第二通孔绝缘层的一部分、所述像素界定膜的一部分形成具有低于所述第一坝的高度的第一叠层结构物，
所述有机层配置成与所述第一叠层结构物的全部以及所述第一坝的至少一部分重叠。
12.根据权利要求11所述的显示装置，其特征在于，
所述第二通孔绝缘层在所述第一坝中具有第一高度，并在所述第一叠层结构物中具有低于所述第一高度的第二高度。
13.根据权利要求11所述的显示装置，其特征在于，
所述第一导电层包括第一电源布线的第一层以及与所述第一电源布线的所述第一层隔开的第二电源布线的第一层，
所述第二导电层包括所述第一电源布线的第二层以及与所述第一电源布线的所述第二层隔开的所述第二电源布线的第二层，
所述第一电源布线的所述第一层和所述第一电源布线的所述第二层彼此电连接，
所述第二电源布线的所述第一层和所述第二电源布线的所述第二层彼此电连接。
14.根据权利要求13所述的显示装置，其特征在于，
在所述第一电源布线的所述第二层以及所述第二电源布线的所述第二层中形成有多个开口，
所述多个开口与所述第一叠层结构物不重叠或者仅重叠一部分。
15.根据权利要求11所述的显示装置，其特征在于，
所述显示装置还包括：
间隔层，配置在所述像素界定膜上，
所述第二通孔绝缘层的一部分、所述像素界定膜的一部分以及所述间隔层的一部分形成与所述第一坝隔开的第二坝，
所述第一坝位于所述第二坝和所述第一叠层结构物之间。
16.一种显示装置的制造方法，所述显示装置包括显示图像的显示区域以及与所述显示区域相邻的非显示区域，其特征在于，
所述制造方法包括：
在基底基板上形成包括薄膜晶体管以及绝缘层的薄膜晶体管层的步骤；
在所述薄膜晶体管层上形成第一通孔绝缘层的步骤；
在所述第一通孔绝缘层上形成包括电源布线的导电层的步骤；
在形成有所述导电层的所述第一通孔绝缘层上形成第二通孔绝缘层的步骤；
在形成有所述第二通孔绝缘层的所述基底基板上形成第一无机层的步骤；
在所述第一无机层上提供有机物的步骤；以及
利用第一叠层结构物的外围的可见程度检查所述有机物沿所述第一无机层的上面扩展的程度的步骤，
所述第二通孔绝缘层的一部分配置在所述非显示区域中，并形成围绕所述显示区域的第一坝，
所述第二通孔绝缘层的一部分在所述非显示区域形成配置在所述第一坝和所述显示区域之间的所述第一叠层结构物。
17.根据权利要求16所述的显示装置的制造方法，其特征在于，
所述第二通孔绝缘层的一部分在所述非显示区域形成配置在所述第一叠层结构物和所述第一坝之间的第二叠层结构物，
在进行所述检查的步骤中，
如果所述第一叠层结构物的所述外围的可见程度降低之后，所述第二叠层结构物的外围的可见程度降低，则判断为所述有机物的扩展程度达到适当级别。
18.根据权利要求17所述的显示装置的制造方法，其特征在于，
所述制造方法还包括：
在所述第二通孔绝缘层以及所述第一通孔绝缘层上形成像素界定膜的步骤，
所述第一坝还包括所述像素界定膜的一部分，
所述第一叠层结构物还包括所述像素界定膜的一部分，
所述第二叠层结构物还包括所述像素界定膜的一部分，
所述第一坝的高度高于所述第一叠层结构物以及所述第二叠层结构物的高度。
19.根据权利要求18所述的显示装置的制造方法，其特征在于，
所述制造方法还包括：
在形成有所述像素界定膜的所述第二通孔绝缘层上将第一电极形成在所述显示区域内的步骤；
在所述第一电极上形成发光层的步骤；以及
在所述发光层上形成第二电极的步骤，
所述第二电极与所述第一叠层结构物的全部以及所述第一坝的至少一部分重叠。
20.根据权利要求16所述的显示装置的制造方法，其特征在于，
在所述电源布线中形成有多个开口，
所述多个开口位于所述第一叠层结构物和所述第一坝之间。
技术总结本公开涉及一种显示装置及其制造方法。显示装置包括：基底基板，包括显示图像的显示区域以及与显示区域相邻的非显示区域；第一通孔绝缘层，配置在基底基板上；第一电源布线，在第一通孔绝缘层上配置在非显示区域中；第二电源布线，在第一通孔绝缘层上配置在非显示区域中，并与第一电源布线隔开；第一坝，配置在基底基板上，并与第一电源布线以及第二电源布线重叠，并且沿非显示区域延伸；第一叠层结构物，在第一坝和显示区域之间配置在第一通孔绝缘层上，并具有低于第一坝的高度；以及有机层，配置在第一叠层结构物以及第一坝上，以与第一叠层结构物的全部以及第一坝的至少一部分重叠。
技术研发人员：方琪皓;金恩惠;崔原硕
受保护的技术使用者：三星显示有限公司
技术研发日：2021.01.22
技术公布日：2021.08.03
