本实用新型涉及膜法处理技术领域，尤其涉及一种膜法处理电厂循环水装置。
背景技术：
电厂循环水系统是电厂耗水量最大的系统，由于循环水常年水温在10～40℃范围内，而且阳光充足，营养物质丰富，是细菌生长、繁殖的有利环境，循环水系统结垢、腐蚀和微生物滋生是循环水系统长期面临的主要问题。为降低循环水系统结垢风险，要严格控制循环水浓缩倍率，部分循环水作为排污水被排掉；为降低循环水微生物滋生造成的影响，需要定期对循环水进行杀菌灭藻处理。
根据上述，目前主要采用向循环水中投加杀菌剂进行处理，但杀菌剂的投加一般为间断式，不具有持续性，存在投加不及时，投加量不足和投加间断时间过长导致杀菌效果不佳等问题，另外，现有的循环水在进行过滤处理时，也容易在长期使用后，造成滤膜上的颗粒物堵塞以及细菌滋生的问题。故而鉴于以上缺陷，实有必要设计一种膜法处理电厂循环水装置。
技术实现要素：
本实用新型所要解决的技术问题在于：提供一种膜法处理电厂循环水装置，来解决背景技术提出的问题。
为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是：一种膜法处理电厂循环水装置，包括处理罩、步进电机、分隔板、i滤槽、ii滤槽、电解槽、电解电压控制器、超声槽、超声波发生器、环架、滤膜网，所述的步进电机固设于处理罩中端上侧，所述的步进电机与处理罩采用螺栓连接，所述的分隔板固设于处理罩内部前后左右四处，所述的分隔板与处理罩一体成型，所述的i滤槽位于处理罩内部前端左侧，所述的i滤槽为扇形凹槽，所述的ii滤槽位于处理罩内部前端右侧，所述的ii滤槽为扇形凹槽，所述的电解槽位于处理罩内部后端左侧，所述的电解槽为扇形凹槽，所述的电解电压控制器固设于处理罩内部左侧后端，所述的电解电压控制器与处理罩采用螺栓连接，所述的超声槽位于处理罩内部后端右侧，所述的超声槽为扇形凹槽，所述的超声波发生器固设于处理罩内部右侧后端，所述的超声波发生器与处理罩采用螺栓连接，所述的环架转设于分隔板中端，所述的环架与分隔板采用滑动连接，所述的滤膜网固设于环架前后左右四处，所述的滤膜网与环架采用螺栓连接。
进一步，所述的处理罩前端左侧还固设有进液管，所述的进液管与处理罩采用热熔连接，所述的处理罩前端右侧还固设有排液管，所述的排液管与处理罩采用热熔连接。
进一步，所述的处理罩顶部还固设有封盖，所述的封盖与处理罩采用螺栓连接，所述的封盖内部中端还设有i避让孔，所述的i避让孔为圆形通孔，所述的i避让孔外侧还设有ii避让孔，所述的ii避让孔为c型通孔，所述的封盖顶部还固设有接近传感器，所述的接近传感器与封盖采用螺栓连接，且所述的接近传感器与步进电机采用电信号线连接。
进一步，所述的步进电机顶部还固设有转轴，所述的转轴与步进电机采用联轴器连接，所述的转轴和环架之间还固设有连接架，所述的连接架分别与转轴和环架采用螺栓连接，且所述的连接架与ii避让孔采用滑动连接。
进一步，所述的分隔板内部中端还设有避空槽，所述的避空槽为凹槽，所述的分隔板内部下端还设有导流管，所述的导流管与分隔板一体成型，且所述的导流管数量为三件，所述的导流管分别位于i滤槽和电解槽之间的右侧，位于电解槽和超声槽之间的后端，位于超声槽和ii滤槽之间的左侧。
与现有技术相比，该一种膜法处理电厂循环水装置具有以下优点：
1、首先由多组膜滤、电解以及超声机构相互组合设计，继而不仅提高对电厂循环水的膜滤效果，此外也能够达到电解和超声杀菌目的。
2、其次配合旋转调节机构，亦可将不同位置的滤膜网切换至电解槽和超声槽中，实现对不同位置滤膜网的杀菌和超声清理，进一步保证了该装置长期使用的效果和寿命。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是一种膜法处理电厂循环水装置的主视图；
图2是一种膜法处理电厂循环水装置的俯视图；
图3是一种膜法处理电厂循环水装置的立体图；
图4是一种膜法处理电厂循环水装置的分离状态立体图；
图5是处理罩的内部状态立体图1；
图6是处理罩的内部状态立体图2。
处理罩1、步进电机2、分隔板3、i滤槽4、ii滤槽5、电解槽6、电解电压控制器7、超声槽8、超声波发生器9、环架10、滤膜网11、进液管101、排液管102、封盖103、i避让孔104、ii避让孔105、接近传感器106、转轴201、连接架202、避空槽301、导流管302。
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明。
具体实施方式
在下文中，阐述了多种特定细节，以便提供对构成所描述实施例基础的概念的透彻理解，然而，对本领域的技术人员来说，很显然所描述的实施例可以在没有这些特定细节中的一些或者全部的情况下来实践，在其他情况下，没有具体描述众所周知的处理步骤。
在实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对实用新型的限制。
如图1、图2、图3、图4、图5、图6所示，一种膜法处理电厂循环水装置，包括处理罩1、步进电机2、分隔板3、i滤槽4、ii滤槽5、电解槽6、电解电压控制器7、超声槽8、超声波发生器9、环架10、滤膜网11，所述的步进电机2固设于处理罩1中端上侧，所述的步进电机2与处理罩1采用螺栓连接，所述的分隔板3固设于处理罩1内部前后左右四处，所述的分隔板3与处理罩1一体成型，所述的i滤槽4位于处理罩1内部前端左侧，所述的i滤槽4为扇形凹槽，所述的ii滤槽5位于处理罩1内部前端右侧，所述的ii滤槽5为扇形凹槽，所述的电解槽6位于处理罩1内部后端左侧，所述的电解槽6为扇形凹槽，所述的电解电压控制器7固设于处理罩1内部左侧后端，所述的电解电压控制器7与处理罩1采用螺栓连接，所述的超声槽8位于处理罩1内部后端右侧，所述的超声槽8为扇形凹槽，所述的超声波发生器9固设于处理罩1内部右侧后端，所述的超声波发生器9与处理罩1采用螺栓连接，所述的环架10转设于分隔板3中端，所述的环架10与分隔板3采用滑动连接，所述的滤膜网11固设于环架10前后左右四处，所述的滤膜网11与环架10采用螺栓连接；
需要说明的是该一种膜法处理电厂循环水装置具备以下功能；
a、处理罩1中若干数量的分隔板3能够将i滤槽4、ii滤槽5、电解槽6和超声槽8进行分隔，便于其中的循环水进行相应的处理；
b、i滤槽4和ii滤槽5中只设有滤膜网11，可对循环水进行简单的过滤处理；
c、电解槽6中在滤膜网11的基础上设有电解电压控制器7，可对经过的循环水进行电解处理，即实现杀菌目的；
d、超声槽8中在滤膜网11的基础上设有超声波发生器9，当超声波发生器9开启后，可对滤膜网11进行超声震荡，即便于滤膜网11上因长期过滤而吸附的颗粒物和细菌的灭活脱离，从而实现对滤膜网11的清洗；
e、环架10上的滤膜网11可对经过的循环水进行过滤处理，同时亦可在步进电机2的驱动下进行旋转，即使得i滤槽4中的滤膜网11旋转至电解槽6中，而电解槽6中的滤膜网11旋转至超声槽8中，通过对滤膜网11的旋转切换，能够便于将i滤槽4中因长期过滤而吸附的颗粒物和细菌的滤膜网11移动至电解槽6或超声槽8中，此时通过上述，能够对不同位置的滤膜网11进行杀菌、超声清理等处理，进一步保证了该装置长期使用的效果和寿命；
所述的处理罩1前端左侧还固设有进液管101，所述的进液管101与处理罩1采用热熔连接，所述的处理罩1前端右侧还固设有排液管102，所述的排液管102与处理罩1采用热熔连接；
需要说明的是进液管101能够与现有的预处理设备(未标注)连接，便于预处理后的循环水进入到处理罩1中，而排液管102能够将膜过滤处理后的循环水重新排入至电厂设备(位置)中；
所述的处理罩1顶部还固设有封盖103，所述的封盖103与处理罩1采用螺栓连接，所述的封盖103内部中端还设有i避让孔104，所述的i避让孔104为圆形通孔，所述的i避让孔104外侧还设有ii避让孔105，所述的ii避让孔105为c型通孔，所述的封盖103顶部还固设有接近传感器106，所述的接近传感器106与封盖103采用螺栓连接，且所述的接近传感器106与步进电机2采用电信号线连接；
需要说明的是封盖103能够对处理罩1顶部进行遮盖，i避让孔104能够对转轴201进行避让，方便转轴201进行转动，ii避让孔105能够对连接架202进行避让，方便连接架202带动环架10进行转动，接近传感器106能够在感应到连接架202后触发步进电机2的停止工作，即实现步进电机2的90°旋转的行程控制；
所述的步进电机2顶部还固设有转轴201，所述的转轴201与步进电机2采用联轴器连接，所述的转轴201和环架10之间还固设有连接架202，所述的连接架202分别与转轴201和环架10采用螺栓连接，且所述的连接架202与ii避让孔105采用滑动连接；
需要说明的是转轴201能够在步进电机2的驱动下带动连接202架联动环架10进行旋转，即便于环架10带动滤膜网11来改变旋转角度；
所述的分隔板3内部中端还设有避空槽301，所述的避空槽301为凹槽，所述的分隔板3内部下端还设有导流管302，所述的导流管302与分隔板3一体成型，且所述的导流管302数量为三件，所述的导流管302分别位于i滤槽4和电解槽6之间的右侧，位于电解槽6和超声槽8之间的后端，位于超声槽8和ii滤槽5之间的左侧；
需要说明的是避空槽301能够对环架10和滤膜网11进行避让，方便环架10带动滤膜网11进行旋转，导流管302能够对循环水进行导流，便于循环水依次从i滤槽4流入至电解槽6、超声槽8和ii滤槽5中，同时因导流管302采用交叉设计，继而能够依次经过滤膜网11，即达到膜过滤处理目的。
1.一种膜法处理电厂循环水装置，其特征在于包括处理罩、步进电机、分隔板、i滤槽、ii滤槽、电解槽、电解电压控制器、超声槽、超声波发生器、环架、滤膜网，所述的步进电机固设于处理罩中端上侧，所述的分隔板固设于处理罩内部前后左右四处，所述的i滤槽位于处理罩内部前端左侧，所述的ii滤槽位于处理罩内部前端右侧，所述的电解槽位于处理罩内部后端左侧，所述的电解电压控制器固设于处理罩内部左侧后端，所述的超声槽位于处理罩内部后端右侧，所述的超声波发生器固设于处理罩内部右侧后端，所述的环架转设于分隔板中端，所述的滤膜网固设于环架前后左右四处。
2.如权利要求1所述一种膜法处理电厂循环水装置，其特征在于所述的处理罩前端左侧还固设有进液管，所述的处理罩前端右侧还固设有排液管。
3.如权利要求1所述一种膜法处理电厂循环水装置，其特征在于所述的处理罩顶部还固设有封盖，所述的封盖内部中端还设有i避让孔，所述的i避让孔外侧还设有ii避让孔，所述的封盖顶部还固设有接近传感器，且所述的接近传感器与步进电机采用电信号线连接。
4.如权利要求1所述一种膜法处理电厂循环水装置，其特征在于所述的步进电机顶部还固设有转轴，所述的转轴和环架之间还固设有连接架，且所述的连接架与ii避让孔采用滑动连接。
5.如权利要求1所述一种膜法处理电厂循环水装置，其特征在于所述的分隔板内部中端还设有避空槽，所述的分隔板内部下端还设有导流管，且所述的导流管数量为三件，所述的导流管分别位于i滤槽和电解槽之间的右侧，位于电解槽和超声槽之间的后端，位于超声槽和ii滤槽之间的左侧。
技术总结