本实用新型涉及晶片生产技术领域，尤其涉及一种晶片烘干机。
背景技术：
在晶片生产过程中，对晶片进行研磨后，晶片表面有残留物，需要进行清洗，清洗后的晶片需要进行烘干处理，并且干燥过程中需快速干燥，避免液体在晶片表面的残存时间过长，导致晶片表面出现水迹，导致晶片清洗失败。在现有的烘干技术中，为了达到快速烘干的效果，往往会先采用酒精浸泡晶片后，再使用普通烘干机对晶片的表面进行烘干。在此操作过程中，不仅容易出现操作失误的情况，且浸泡酒精后，还需要进行人工手动操作，一是让晶片转动，使得表面全部浸泡酒精，二是还需要将浸泡后的晶片人工转移到烘干机中，增加了晶片清洗过程中，人工接触晶片的时间，从而导致导致晶片表面被二次污染的概率也大大增加。
技术实现要素：
有鉴于此，本实用新型的目的是提供一种晶片烘干机，通过清洗系统和吹风系统的配合使用，能够在不转移晶片的情况下完成乙醇脱水和吹干步骤，进而减少了晶片被二次污染的几率。
本实用新型通过以下技术手段解决上述技术问题：
一种晶片烘干机，包括外壳以及与外壳相匹配的盖体，所述外壳内设置有内腔，所述内腔的侧壁上设置有多个吹风口，所述内腔的底板上设置有排风口，所述吹风口通过管道连接有吹风系统，所述烘干机还包括清洗系统，所述清洗系统包括供液管以及与供液管相连通的多个喷洒管，所述内腔内还固定安装有晶片放置装置，多个所述喷洒管固定安装于内腔的侧壁上，且位于晶片放置装置至盖体之间对应的位置。
进一步，所述喷洒管向着晶片放置装置的位置开设有若干个出液口。
进一步，所述晶片放置装置包括支柱、固定夹具以及旋转机构，所述固定夹具固定安装在支柱的顶端，所述旋转机构包括转动轴，所述转动轴的一端转动安装在内腔的侧壁上，另一端固定连接有旋转器，所述旋转器位于固定夹具之间。
进一步，吹风系统设置在内腔和外壳之间，所述吹风系统包括两组，分别设置在内腔外相对称的两侧。该结构的设置，在对晶片进行吹干时，能够均匀吹干晶片，避免液体在最初时流向晶片的一边，在晶片表面形成水痕。
进一步，所述吹风系统包括通过管道依次连接的进风机、加热器和过滤器，所述加热器和过滤器之间的管道上安装有温度检测仪，所述进风机的进风口通过管道可拆卸连接有氮气瓶，所述过滤器的出口通过管道连接吹风口。
进一步，所述内腔内还设置有挡板，所述挡板呈上大下小的喇叭状结构，所述挡板的上端与内腔的侧壁固定连接，另一端与内腔的底板固定连接。
本实用新型的有益效果：
1.本实用新型的一种晶片烘干机，将清洗系统和吹风系统集合到一起，在晶片烘干的过程中，通过清洗系统喷洒酒精进行脱水处理后，立即进行吹干操作，和现有技术相比，在酒精脱水和吹干步骤之间不再需要将晶片人工转移，从而降低了晶片被污染的几率。
2.本实用新型的一种晶片烘干机，设置了旋转机构，在进行清洗和吹干的过程中能够通过旋转机构带动晶片旋转，在清洗的过程中能够清洗更完全，在吹干的过程中能够防止吹出的液滴溅到晶片表面，形成二次污染。
附图说明
图1是本实用新型一种晶片烘干机的结构示意图；
图2是本实用新型喷洒管的结构示意图；
图3是本实用新型晶片放置装置的结构示意图；
图4是本实用新型内腔底板的结构示意图；
其中，外壳1、盖体2、内腔3、吹风口4、排风口5、进风机6、加热器7、过滤器8、温度检测仪9、喷洒管10、出液口101、支柱11、固定夹具12、旋转机构13、转动轴131、旋转器132、卡塞14、挡板15、支架16、排空口17。
具体实施方式
以下将结合附图和具体实施例对本实用新型进行详细说明：
如图1-图4所示，本实用新型的一种晶片烘干机，包括外壳1以及与外壳1相匹配的盖体2，外壳1内设置有内腔3，内腔3内固定安装有晶片放置装置，内腔3的侧壁上设置有多个吹风口4，内腔3的底板上设置有排风口5，吹风口4通过管道连接有吹风系统，吹风系统设置在内腔3和外壳1之间，吹风系统包括两组，分别设置在内腔3外相对称的两侧，这样在对晶片进行吹干时，能够均匀吹干晶片，避免液体在最初时流向晶片的一边，在晶片表面形成水痕；吹风系统包括通过管道依次连接的进风机6、加热器7和过滤器8，加热器7和过滤器8之间的管道上安装有温度检测仪9，对经过的氮气温度进行检测是否达到了规定的温度，进风机6的进风口通过管道可拆卸连接有氮气瓶，过滤器8的出口通过管道连接吹风口4，吹风口4为长方形孔口，孔口对准晶片位置，具体的，本实施例的每组吹风系统包括两个吹风口4，两个吹风口4并联设置，且位于同一垂直线上，在进行吹干的过程中，氮气瓶中的氮气通过进风机6导入到管道内，再经过加热器7加热到一定的温度，最后经过过滤器8处理后得到洁净的氮气，再通过吹风口4直接作用于晶片表面，氮气再晶片表面快速运动，可以加快晶片表面液体蒸发速度，使晶片快速烘干。
其中，本实用新型的晶片烘干机还包括清洗系统，清洗系统包括供液管以及与供液管相连通的多个喷洒管10，喷洒管10采用常规的方式固定安装在内腔3的侧壁上，且位于晶片放置装置至盖体2之间对应的位置，本实施例选择2个并联设置的喷洒管10，安装于内腔3侧壁相对称的两侧，供液管的进液口设置有供液泵，供液泵的进口通过管道连接酒精储罐，在需要清洗时，通过供液泵将酒精储罐内的酒精加压，通过供液管最后经喷洒管10喷洒到晶片表面，喷洒管10向着晶片放置装置的位置开设有若干个出液口101，具体的，本实施例的喷洒管10上设置了4排出液口101，可以增加酒精喷出的覆盖面积，更好的覆盖到晶片上。
晶片放置装置包括支柱11、固定夹具12以及旋转机构13，支柱11的底端固定安装在内腔3的底面上，固定夹具12固定安装在支柱11的顶端，具体的本实施例的旋转机构13包括两组，分别安装在内腔3相对称的侧壁上，旋转机构13包括转动轴131，转动轴131的一端转动安装在内腔3的侧壁上，另一端固定连接有旋转器132，旋转器132位于固定夹具12之间，且旋转器132不与支柱11相接触，转动轴131远离旋转器132的一端通过现有的常规的方式安装有电机，这在现有技术中很常见，在此不进行过多阐述，通过电机带动转动轴131再带动旋转器132旋转，在进行晶片处理的过程中，先将晶片放置在卡塞14内，再将卡塞14放置于内腔3之中，利用固定夹具12将卡塞14夹持固定，此时旋转器132位于晶片的下方，会将晶片抬起，在进行清洗或吹干的过程中，利用旋转器132和晶片之间的摩擦力作用，通过旋转器132的旋转，能够带动晶片一起旋转，从而达到在清洗的过程中能够清洗更完全，在吹干的过程中能够防止吹出的液滴溅到晶片表面，形成二次污染的效果。
内腔3内还设置有挡板15，挡板15呈上大下小的喇叭状结构，挡板15的上端与内腔3的侧壁固定连接，另一端与内腔3的底板固定连接，排风口5设置于支柱11和挡板15之间的，在清洗的时候，通过挡板15能够将喷洒的酒精或吹出的氮气导向排风口5，在一定程度上增加酒精或氮气的排出速度，在外壳1内还可以固定设置有支架16，内腔3整体固定安装在支架16上，外壳1的底面于排风口5对应的位置设置有排空口17，内腔3内的酒精和氮气通过排风口5再经过排空口17排出整个烘干机。
本实用新型的晶片烘干机的使用方法：
在进行晶片烘干时，将晶片放入卡塞14中，然后打开盖体2，将晶片和卡塞14放入晶片放置装置中，利用固定夹具12将卡塞14盒固定，改好盖体2，然后打开供液泵，利用喷洒管10喷洒酒精，同时启动旋转机构13，清洗完成后关闭供液泵，开启进风风机，加热器7，利用加热后的氮气将晶片烘干后，关闭旋转机构13，打开盖体2，取出晶片和卡塞14。
以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本实用新型技术方案的宗旨和范围，其均应涵盖在本实用新型的权利要求范围当中。本实用新型未详细描述的技术、形状、构造部分均为公知技术。
1.一种晶片烘干机，包括外壳以及与外壳相匹配的盖体，所述外壳内设置有内腔，所述内腔的侧壁上设置有多个吹风口，所述内腔的底板上设置有排风口，所述吹风口通过管道连接有吹风系统，其特征在于：还包括清洗系统，所述清洗系统包括供液管以及与供液管相连通的多个喷洒管，所述内腔内还固定安装有晶片放置装置，多个所述喷洒管固定安装于内腔的侧壁上，且位于晶片放置装置至盖体之间对应的位置。
2.根据权利要求1所述的一种晶片烘干机，其特征在于：所述喷洒管上向着晶片放置装置的位置开设有若干个出液口。
3.根据权利要求2所述的一种晶片烘干机，其特征在于：所述晶片放置装置包括支柱、固定夹具以及旋转机构，所述固定夹具固定安装在支柱的顶端，所述旋转机构包括转动轴，所述转动轴的一端转动安装在内腔的侧壁上，另一端固定连接有旋转器，所述旋转器位于固定夹具之间。
4.根据权利要求3所述的一种晶片烘干机，其特征在于：所述吹风系统设置在内腔和外壳之间，所述吹风系统包括两组，分别设置在内腔外相对称的两侧。
5.根据权利要求4所述的一种晶片烘干机，其特征在于：所述吹风系统包括通过管道依次连接的进风机、加热器和过滤器，所述加热器和过滤器之间的管道上安装有温度检测仪，所述进风机的进风口通过管道可拆卸连接有氮气瓶，所述过滤器的出口通过管道连接吹风口。
6.根据权利要求5所述的一种晶片烘干机，其特征在于：所述内腔内还设置有挡板，所述挡板呈上大下小的喇叭状结构，所述挡板的上端与内腔的侧壁固定连接，另一端与内腔的底板固定连接。
技术总结